JPS6076795A - Manufacture of diaphragm - Google Patents
Manufacture of diaphragmInfo
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- JPS6076795A JPS6076795A JP58184865A JP18486583A JPS6076795A JP S6076795 A JPS6076795 A JP S6076795A JP 58184865 A JP58184865 A JP 58184865A JP 18486583 A JP18486583 A JP 18486583A JP S6076795 A JPS6076795 A JP S6076795A
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- metal plate
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- Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、振動板の製造方法に係シ、特にハーモニカや
ビアニヵ等の多数のリードを具備する楽器の振IIIJ
I板の製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a diaphragm, and in particular to a method for manufacturing a diaphragm, particularly for the production of diaphragms for musical instruments equipped with a large number of reeds, such as a harmonica or a diaphragm.
This invention relates to a method for manufacturing an I-plate.
近年、ハーモニカやピアニヵは、小学校の音楽用教材等
として広範に用いられるなど、その需要は増大している
f5通常、ハーモニカやビアニカ等の多数のリードを1
備する楽器の振動板は、第1図f、H11に示すように
、フレーム1と、このフレームIK取付けられた多数の
リード2とから構成される。それぞれのリード2は、音
階の音に対応して顔にその長さが変化している。In recent years, harmonicas and pianicas have been widely used as music teaching materials in elementary schools, and the demand for them has been increasing.
The diaphragm of the musical instrument is comprised of a frame 1 and a number of reeds 2 attached to the frame IK, as shown in FIG. 1F and H11. Each reed 2 has a face whose length changes depending on the note of the scale.
フレーム1には、リード2の長さに対応して長さが変化
する多数のスリット3が形成され、それぞれのり−ド2
は、対応するスリット3の開口部を塞ぐようにプレート
に取付けられてbる。A large number of slits 3 whose lengths change according to the lengths of the leads 2 are formed in the frame 1.
are attached to the plate so as to close the openings of the corresponding slits 3.
なお、リードの寸法は、スリットの寸法よシ少し小さく
、従ってリード2とスリット30周部との間には所定の
間隔が設けられている。Note that the dimensions of the lead are slightly smaller than those of the slit, and therefore a predetermined distance is provided between the lead 2 and the periphery of the slit 30.
イ・を来、このような振動板は、金属板のプレス加工に
よりプレートおよびリードを別々に作成し、次いでビン
止め又はスIット溶接によシ個々のリードの一端をグレ
ートに取付けることによりill造されていた。しかし
、この方法によると、リードを70レートに取付ける際
には極めて高精度の位置合せが要求され、また位置合せ
は手作業で行なわれるため大きな労力を必要とした。In order to create such a diaphragm, the plate and leads are made separately by pressing a metal plate, and then one end of each lead is attached to the grate by bolting or slit welding. It was built like an ill. However, according to this method, extremely high precision positioning is required when attaching the leads to the 70 rate, and the positioning is performed manually, which requires a great deal of labor.
本発明は、このような事情の下になされ、従来の方法に
比べ大幅な省力化とコストダウンを可能とする振動板の
製造方法を提供することを目的とする。The present invention was made under these circumstances, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a diaphragm that enables significant labor savings and cost reductions compared to conventional methods.
上記目的を達成するため、本発明の振動板の製造方法は
、金属板表面のリード先端部列とそれから所定距離前れ
たリード接ポア“8部に相当する部分、および金属板裏
面のリード列に対応するスリット列に相当する部分を除
く領域に第1のレノスト膜ノやターンを形成する工程、
前記金属板を前記第1のレジスト膜パターンをマスクと
して所定量エツチングする工程、エツチングされた前記
各リード先端部と前記各l)J接続部との間のリード本
体列に相当する部分に第2のレジスト膜パターンを形成
する工程、前記第1および第2のレジスト膜パターンを
マスクとして前記金属板を更にエツチングして前記金属
板裏面から表面の各リード周部に貫通するスリット列を
形成する工程、および前記第1および第2のレノストn
t;パターンを除去する工程から構成される。In order to achieve the above object, the diaphragm manufacturing method of the present invention includes a lead tip row on the front surface of the metal plate, a portion corresponding to "8" of the lead contact pores located a predetermined distance ahead of the lead tip row, and a lead row on the back surface of the metal plate. a step of forming a first Lenost film or turn in a region excluding a portion corresponding to a slit row corresponding to
a step of etching the metal plate by a predetermined amount using the first resist film pattern as a mask, etching a second layer on the portion corresponding to the lead main body row between the etched tip of each lead and each of the J connection portions; forming a resist film pattern; further etching the metal plate using the first and second resist film patterns as masks to form a slit row penetrating from the back surface of the metal plate to the peripheral portion of each lead on the front surface; , and the first and second lenost n
t; Consists of a step of removing the pattern.
以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
実施例
第2図(a)〜(6)は本発明の方法によるハーモニカ
の振動板の製造工程を示す。まず、第2図(a)に示す
ように、厚さ1.23調5幅(3,7)cm。Embodiment FIGS. 2(a) to 2(6) show the manufacturing process of a harmonica diaphragm by the method of the present invention. First, as shown in FIG. 2(a), the thickness is 1.23 scale and the width is (3,7) cm.
長す(1,8,1) ’cmの黄銅板11の表面にレジ
スト膜パターン12a、12bを、裏面にレジスト膜パ
ターン13を形成した。第2図(a)の表面図を第3図
(a)に、裏面図を第3図(b)にそれぞれ示す。表面
のレジスト膜パターン12aはリードの先端部に相当す
る部分に対応し、・ぐターン121)はリードの接続部
に相当する部分に対応している。また、裏面のレジスト
1吉やターンI3は、スリットに対応する部分14以外
の細切上に形成さ丸ている。Resist film patterns 12a and 12b were formed on the front surface of a brass plate 11 having a length of (1, 8, 1)' cm, and a resist film pattern 13 was formed on the back surface. The front view of FIG. 2(a) is shown in FIG. 3(a), and the back view is shown in FIG. 3(b). The resist film pattern 12a on the surface corresponds to a portion corresponding to the tip of the lead, and the pattern 121) corresponds to a portion corresponding to the connection portion of the lead. Further, the resist 1 and turn 13 on the back side are formed in a round shape on the thinly cut portions other than the portions 14 corresponding to the slits.
なお、このレジスト11°iパターンは、黄銅板11の
画面にホトレ・シスト膜を塗布し、所定の・母ターンに
電光し、現像し、焼(=jけることにより得られた。そ
して、第2図(b)に示すように、このようなレジスト
11凸ノぐターンI 2 a 、 121) 、 73
をマスクとしてt6釦板11の両面をエツチングした。This resist 11°i pattern was obtained by applying a photoresist film to the screen of the brass plate 11, exposing it to a predetermined main turn, developing it, and baking it. As shown in FIG. 2(b), such a resist 11 has a convex turn I 2 a, 121), 73
Using this as a mask, both sides of the T6 button plate 11 were etched.
このエツチングは、エツチング液として45°?−メ濃
度の塩化第二鉄液を用いた:Iフ漬エツチングであり、
所定のエツチング深度に達した時に中止された。なお、
このような浸漬エツチングによりサイドエツチングが進
行して、第2図(+))に示すようにレノスト膜パター
ンの端部はメーパーハングm 、1ノ、となった。この
オー・々−ハング形状をより頌名に形成するため、エツ
チング液にフッ素系表面活性剤を加えて、シーイドエツ
チングの借を1)を加することも可1[−である。Is this etching 45° as an etching solution? -I immersion etching using a ferric chloride solution with a medium concentration;
Etching was stopped when a predetermined etching depth was reached. In addition,
As a result of such immersion etching, side etching progressed, and as shown in FIG. In order to form this overhang shape more neatly, it is also possible to add a fluorine-containing surfactant to the etching solution to add 1) to the surface-etching process.
次に、m 2 M (c) K示ずように、レソストト
゛・・平ターン12 rr 、 12 b間のリード外
体に相当する部分(第30(ハ)((給いで15で碧わ
される。〕K L−シストll:’lパターン16を形
成した。このレジスト1吉・9ターンx61d、耐食(
t:インキを用いたスクリーン印λ5+1により、又(
・誌上ii”、 I/ダストn′〜〕やターンI28,
121)、I3と同(・6にホトし、クストロg;をパ
ンーニングすることによ多形成される。そして、 42
1に+ (’)に示すよりに、し・シス1’ 膜ノfタ
ーンr 2a 、 Z 2b 、 J 、9 、76を
マスクとして2回目のエツチングを行なった。このエツ
チング液−t i′を西部aが形J、ルされるまで行な
った。エツチング方)′んとしでは、つ゛イドエツチン
グの少ないスプl/−エツチング法 、pラダレスエツ
チング法、レジストIt・l・を2回ノ・6・す2段エ
ツチング法、キリンl1ll盛り法的を用いることによ
り、高い寸法Jf’f度で行なうことが出来る。Next, as shown in m 2 M (c) K, the part corresponding to the lead outer body between the flat turns 12 rr and 12 b (30th (c) ] K L-cyst ll:'l pattern 16 was formed.
t: Screen mark λ5+1 using ink, and (
・Magazine ii", I/Dust n'~] and turn I28,
121), which is the same as I3 (・6) and is formed by panning Custrog; and 42
As shown in 1 and + ('), a second etching was performed using the f-turns r 2a , Z 2b , J , 9 , and 76 of the cis 1' film as a mask. This etching solution t i' was carried out until the western part a was completely etched. Etching methods include the spl/- etching method with less double etching, the p-ladderless etching method, the two-step etching method in which the resist It. By using this, it is possible to achieve a high dimension Jf'f degree.
、:、、4.後に、レノスト膜ノ4ターン12a、12
b。,:,,4. Later, Renost membrane No. 4 turns 12a, 12
b.
1.9 、16をすて剥離して、第2図(e)に示すよ
うなハーモニカの振動板が得られた。1.9 and 16 were removed to obtain a harmonica diaphragm as shown in FIG. 2(e).
即ち、第2図telに示すノ・−モニカの振動または、
プレート21とこのグレート21に一体的に形成された
多数のり−ド22とから構成されている。プレート21
には、リード22と対応する位置に多数のスリット23
が設けられており、リード22はそれぞれこれらスリッ
ト23を塞ぐように一端がプレート21に接続されてい
る。なお、プレート2ノとの接続部を除くリード22の
周縁部とスリット230F’f1口部との間には001
〜0.11程度の間隙aが設けられている。That is, the vibration of the no-monica shown in FIG.
It is composed of a plate 21 and a number of boards 22 integrally formed on the plate 21. plate 21
has a large number of slits 23 at positions corresponding to the leads 22.
are provided, and one end of each lead 22 is connected to the plate 21 so as to close these slits 23. Note that there is a 001 mark between the peripheral edge of the lead 22 and the opening of the slit 230F'f1, excluding the connection part with the plate 2.
A gap a of about 0.11 is provided.
以上説明したように、本発明の方法によると、2段階の
エツチングを用いて1枚の金属板から一体的に振動板を
得ることができるので、従来大きな労力を要していた多
数のリードのプレートへの位置合せ及び取付けを必要と
せず、そのため従来の方法に比べ大幅な省力化とコスト
ダウンが可能となった。As explained above, according to the method of the present invention, a diaphragm can be integrally obtained from a single metal plate using two-step etching. There is no need for alignment or attachment to the plate, making it possible to significantly save labor and reduce costs compared to conventional methods.
以上、ハーモニカ等の多数のリードを具イボ1する楽器
の振動板について説明したが、本発明は必ずしもそれら
に限定されず、例えばオルゴール嗜スライダック等の、
多数のリードに相当するものを具備する振動板の製造に
も適用可能である。Although the diaphragm of a musical instrument with multiple reeds such as a harmonica has been described above, the present invention is not necessarily limited thereto.
It is also applicable to the manufacture of diaphragms having what corresponds to a large number of leads.
第1図(al (blは通常のハーモニカの振動板の部
分平面図および断面図、第2図(+i〜(e)は、本発
明の一実施例によるハーモニカの振動板の製造工程を示
す断面図、および第3 l171(al (b)は第2
図(a)に示す構造の上面図および裏面図である。
1.2ノ・・・プレート、2,22・・・リード、3゜
2 、? ・・・スリット、7 J−f::銅4J、z
、12 a 、12b 。
13、16・・・レジス) ll /4’ターン。
出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図
(a)
Δ
(b)
第2図FIG. 1 (al) is a partial plan view and a cross-sectional view of a normal harmonica diaphragm, and FIG. Figure, and the third l171 (al (b) is the second
FIG. 3 is a top view and a back view of the structure shown in FIG. 1.2...plate, 2,22...lead, 3゜2,? ...Slit, 7 J-f:: Copper 4J, z
, 12a, 12b. 13, 16...Regis) ll /4' turn. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue Figure 1 (a) Δ (b) Figure 2
Claims (1)
リード接続部に相当する部分、および金属板裏面のリー
ド列に対応するスリット列に相当する部分を除く領域に
第1のレジスト膜パターンを形成する工程、前記金属板
を前記第1のレジスト膜パターンをマスクとして所定量
エツチングする工程、エツチングされた前記各リード先
端部と前記各リード接続部との間のリード本体列に相当
する部分に第2のレゾスト膜・臂ターンを形成する工程
、前記第1および第2のレジスト膜パターンをマスクと
して前記金属板を更にエツチングして前記金属板裏面か
ら表面の各リード局部に貫通するスリット列を形成する
工程、および前記第1および第2のレゾスト膜・リーン
を除去する工程を具備する、多数のスリットを有するプ
レーととれらスリットを塞ぐように一端がプレートに一
′体的に接続されているスリットよシ小さい寸法の多数
のリードとからなる振動板の製造方法。A first resist film pattern is formed in an area excluding the lead tip row on the front surface of the metal plate and a portion corresponding to a lead connection portion located a predetermined distance ahead of the lead end row, and a portion corresponding to a slit row corresponding to the lead row on the back side of the metal plate. a step of etching the metal plate by a predetermined amount using the first resist film pattern as a mask; a step of etching the metal plate by a predetermined amount using the first resist film pattern as a mask; forming a second resist film/arm turn; using the first and second resist film patterns as masks, the metal plate is further etched to form a row of slits penetrating from the back surface of the metal plate to the local parts of each lead on the front surface; a plate having a large number of slits, and one end of which is integrally connected to the plate so as to close the slits, the plate having a plurality of slits, and one end thereof being integrally connected to the plate so as to close the slits. A method for manufacturing a diaphragm consisting of a slit and a large number of small-sized leads.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58184865A JPS6076795A (en) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | Manufacture of diaphragm |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58184865A JPS6076795A (en) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | Manufacture of diaphragm |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6076795A true JPS6076795A (en) | 1985-05-01 |
Family
ID=16160660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58184865A Pending JPS6076795A (en) | 1983-10-03 | 1983-10-03 | Manufacture of diaphragm |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6076795A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0688759A1 (en) | 1994-06-23 | 1995-12-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Alpha-resorcylic acid ester derivatives and recording materials incorporating them |
EP1291196A2 (en) | 2001-09-07 | 2003-03-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-sensitive recording material |
-
1983
- 1983-10-03 JP JP58184865A patent/JPS6076795A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0688759A1 (en) | 1994-06-23 | 1995-12-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Alpha-resorcylic acid ester derivatives and recording materials incorporating them |
EP1291196A2 (en) | 2001-09-07 | 2003-03-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-sensitive recording material |
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