JPS6069855A - Production of guiding drum for magnetic tape scanner - Google Patents

Production of guiding drum for magnetic tape scanner

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JPS6069855A
JPS6069855A JP7740584A JP7740584A JPS6069855A JP S6069855 A JPS6069855 A JP S6069855A JP 7740584 A JP7740584 A JP 7740584A JP 7740584 A JP7740584 A JP 7740584A JP S6069855 A JPS6069855 A JP S6069855A
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drum
magnetic tape
alloy
ingot
scanning device
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JP7740584A
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Tateo Tamamura
玉村 建雄
Naotatsu Asahi
朝日 直達
Mitsuo Oginoya
萩野谷 三男
Akira Saito
斉藤 旭
Akimichi Terada
寺田 明猷
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Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To improve surface condition and wear resistance by cooling quickly and solidifying a molten Al-Si alloy to produce a casting ingot, forging the above-mentioned casting ingot to a drum shape and forming worked lines on the outside circumference of the drum by machining. CONSTITUTION:An Al-Si alloy is used as an alloy for forming a drum and the compsn. thereof consists of 8-15wt% Si, 0.5-4wt% Cu, 0.05-1.0wt% Mg and the balance Al. The alloy is quickly cooled and solidified from a molten metal to crystallize finely an Si crystal. The cooling is accomplished at >=(30-60 deg.C/ sec) cooling rate. The casting ingot is subjected to warm forging at 200 deg.C- the m.p. or below and >=30% reduction ratio and is again molded in the above- mentioned temp. range to part mechanically the Si crystal to <=5mum average grain size and to disperse uniformly said crystal. Such molded alloy is subjected to a heat treatment such as a T4 treatment (450-520 deg.CX1h quick cooling resting for about >=1 week), etc. and is finished to a drum by machining. Parallel and roughly continuous machined lines having 1-6mum surface roughness are formed to a passage for guiding a tape in the advancing direction of the tape.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はAQ−8i系合金により、表面状態の良好な耐
摩耗性の優れた磁気テープ案内ドラムを製造する方法に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic tape guide drum with good surface condition and excellent wear resistance using an AQ-8i alloy.

一般に、磁気テープ走査装置の案内ドラムはAQあるい
はAQ合金の鋳造品で製作されている。
Generally, the guide drum of a magnetic tape scanning device is made of a casting of AQ or an AQ alloy.

必要があればその表面はセラミックコーティングやアル
マイトコーティングあるいは各種メッキなどの表面処理
を施し、すべり摩擦係数を小さくすると共に、接触面に
おいてテープに傷をつけること、あるいは静電気が帯電
することを防止している。しかしこのような表面処理は
耐摩耗性、すベリ摩擦係数の点で十分ではなく、がっ、
研磨やラッピングなどの厄介な後加工を必要とする問題
がある。従って寸法精度が出にくく、仕」二げまでに工
数がかかり大量生産には不向きであるなどの欠点があっ
た。
If necessary, the surface is treated with ceramic coating, alumite coating, or various types of plating to reduce the coefficient of sliding friction and prevent scratches on the tape or static electricity from forming on the contact surface. There is. However, this type of surface treatment is not sufficient in terms of wear resistance and sliding friction coefficient, and
There is a problem that requires troublesome post-processing such as polishing and lapping. Therefore, it has drawbacks such as difficulty in achieving dimensional accuracy, and the number of man-hours required for finishing, making it unsuitable for mass production.

本発明の目的は、長時間にわたり良質な再生画面が得ら
れる磁気テープ案内ドラムの製造法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic tape guide drum that provides a high-quality playback screen for a long period of time.

本発明は、AQ−3i系合金溶湯を急冷凝固し、得られ
た鋳塊をドラム形状に鍛造し、その後機械加工によって
ドラム外周の磁気テープ案内通路に、磁気テープ進行方
向に沿って表面粗さ1〜6μmの平行なほぼ連続した加
工線を形成することにある。
The present invention involves rapid solidification of molten AQ-3i alloy, forging the obtained ingot into a drum shape, and then machining to create a magnetic tape guide path on the outer periphery of the drum with surface roughness along the magnetic tape traveling direction. The purpose is to form parallel, substantially continuous processing lines of 1 to 6 μm.

VTRの磁気ヘッド型磁気記録再生装置における磁気テ
ープ走査装置は、下記(1)〜(4)の構成を有する。
A magnetic tape scanning device in a magnetic head type magnetic recording/reproducing device of a VTR has the following configurations (1) to (4).

(1)円筒静止ドラムを含み、該ドラムの外周に形成さ
れた案内路の平滑面に沿って磁気テープを滑動案内する
ための案内手段と、 (2)該ドラムの円周から半径方向にわずかに突出し、
磁気テープとすベリ接触しうる位置に設けられた少なく
とも1つの磁気ヘッドを含む回転磁気ヘッド装置と、 (3)該磁気ヘッド装置と該案内ドラムを同心円的に支
持し、磁気ヘッド装置の下端と案内ドラムの上端の間に
小さい間隙を形成することにより、該案内ドラムとは独
立して回転するように支持する手段、及び (4)該支持手段を駆動する手段。
(1) a guide means for slidingly guiding a magnetic tape along the smooth surface of a guide path formed on the outer periphery of the drum, including a cylindrical stationary drum; stands out,
(3) a rotating magnetic head device including at least one magnetic head provided at a position where it can make full contact with a magnetic tape; (3) a rotating magnetic head device that supports the magnetic head device and the guide drum concentrically; (4) means for supporting the guide drum for rotation independently of the guide drum by forming a small gap between the upper ends thereof; and (4) means for driving the support means.

−例を第1図及び第2図に示す。シリンダー状の静止上
ドラム1と静止下ドラム2の間に、クリアランス(間隙
)4を保って回転盤3が挿入されている。回転盤3とド
ラム1と2はシャフト5で同軸に固定されており、上ド
ラムlと下ドラム2はコネクター6とボルト6′で結合
されている。回転盤3はシャフト5に固定されており、
ボールベアリング11と回転摺動部により回転出来るよ
うになっている。一方、ドラムlとドラム2は第2図に
示すように、ベース板18にポル1−10と補助ベース
板17で固定されている。回転盤3は16 つもしくは
それ以上の磁気ヘッド7で構成されており、磁気ヘッド
7はドラム1及びドラム2のテープガイド8と回転盤3
の半径方向に0.05〜0 、3 mmの範囲で突き出
されている。ドラム1とドラム2には磁気テープの適切
なガイドをするために、斜線状もしくは螺旋状のテープ
ガイド8が切っである。下ドラム2は第1図と第2図に
示すように、スリーブ9と一体となっており、このスリ
ーブ9はアースのためにブツシュ13が取り付けられて
いる。プーリー14はボルト16でシャフト5に固定さ
れており、ベルト15で駆動されプーリー14が回転す
ることにより、シャフト5及び回転盤3が回転する構造
となっている。
- Examples are shown in FIGS. 1 and 2. A rotary disk 3 is inserted between a cylindrical stationary upper drum 1 and a stationary lower drum 2 with a clearance (gap) 4 maintained therebetween. The rotating disk 3 and the drums 1 and 2 are coaxially fixed by a shaft 5, and the upper drum 1 and the lower drum 2 are connected by a connector 6 and a bolt 6'. The rotary disk 3 is fixed to the shaft 5,
It can be rotated by a ball bearing 11 and a rotating sliding part. On the other hand, the drums 1 and 2 are fixed to a base plate 18 by poles 1-10 and an auxiliary base plate 17, as shown in FIG. The rotary disk 3 is composed of 16 or more magnetic heads 7, and the magnetic heads 7 are connected to the tape guides 8 of the drums 1 and 2 and the rotary disk 3.
It protrudes in the radial direction in the range of 0.05 to 0.3 mm. A diagonal or spiral tape guide 8 is cut into the drums 1 and 2 to properly guide the magnetic tape. As shown in FIGS. 1 and 2, the lower drum 2 is integral with a sleeve 9, to which a bush 13 is attached for grounding purposes. The pulley 14 is fixed to the shaft 5 with a bolt 16, and is driven by a belt 15 to rotate the pulley 14, thereby rotating the shaft 5 and the rotary disk 3.

もう一つの型式の磁気ヘッド型記録再生装置は第3図に
示すように、上ドラム20が回転し、下ドラム21が静
止ドラムである。故にこの型式では第1図に示すような
回転盤3は必要としない。
Another type of magnetic head type recording/reproducing device has an upper drum 20 that rotates and a lower drum 21 that is stationary, as shown in FIG. Therefore, this type does not require a rotary disk 3 as shown in FIG.

この型式ではドラム20にテープガイドかられずかに突
き出た、一対の磁気ヘッド22が組合わされており、上
ドラム20はシャフト5に固定されている。この上ドラ
ム20は回転摺動部12とボールベアリング11により
回転可能となっており、第1図及び第2図に示すものと
同様な手段で回転するようになっている。
In this type, a pair of magnetic heads 22 that protrude slightly from the tape guide are combined with the drum 20, and the upper drum 20 is fixed to the shaft 5. The upper drum 20 is rotatable by a rotating sliding portion 12 and a ball bearing 11, and is rotated by means similar to those shown in FIGS. 1 and 2.

本発明は上述したような装置において、第1図及び第2
図の上ドラム1.下ドラム2と回転盤3の少なくとも1
つ及び第3図における」ニドラム20と下ドラム2Jの
少なくとも1つを前述した方法によって製造することに
ある。A Q −S i系合金の好適な組成は8〜15
重量%の5i−0,5〜4重量%のCu−0,05〜1
.0重量%のMgを含有し、残部は実質的にAQから成
る合金である。この合金を溶湯から急冷凝固してSi晶
を微細に晶出させる。この冷却速度は速い程良いのであ
るが、望ましくは30〜b 却速度で連続鋳造するのが良い。鋳塊のままのSi晶は
針状あるいは片状であり、この状態では磁気テープ案内
ドラムとしては好ましくない。この鋳塊を200℃〜融
点以下の温度領域に於いて、加工度30%以」二の温間
鍛造を施した後に再び上記温度範囲で成形するか、ある
いは鋳塊を直径200℃〜融点以下の温度範囲で加工度
30%以上の成形時の外力により、Si品を機械的に微
細分断して均一に分散させる。この場合、加工後の温度
が再結晶温度以上〜融点以下であるならば、外力で分断
したSi晶は球状化される。その分断球状化されたSi
晶の平均粒子径は1.7 μm以下となる。前記鍛造に
よって共晶Siを平均粒径5μm以下に分断することが
望ましい。これによってほぼ連続、した機械加工線を形
成しやすくなる。
The present invention is directed to the above-mentioned apparatus, as shown in FIGS. 1 and 2.
Upper drum 1 in the diagram. At least one of the lower drum 2 and the rotary disk 3
At least one of the upper drum 20 and the lower drum 2J shown in FIG. 3 is manufactured by the method described above. The preferred composition of the AQ-Si alloy is 8 to 15
wt% 5i-0,5-4wt% Cu-0,05-1
.. The alloy contains 0% by weight of Mg, and the remainder consists essentially of AQ. This alloy is rapidly solidified from a molten metal to finely crystallize Si crystals. The faster the cooling rate, the better, but it is preferable to carry out continuous casting at a cooling rate of 30 to 30 b. The Si crystal in the form of an ingot is acicular or flaky, and in this state is not suitable for use as a magnetic tape guide drum. This ingot is warm forged in a temperature range of 200°C to below the melting point with a working degree of 30% or more, and then shaped again in the above temperature range, or the ingot has a diameter of 200°C to below the melting point. Using an external force during molding at a temperature range of 30% or more, the Si product is mechanically finely divided and uniformly dispersed. In this case, if the temperature after processing is above the recrystallization temperature and below the melting point, the Si crystals separated by external force will be spheroidized. The divided spheroidized Si
The average particle size of the crystals is 1.7 μm or less. It is desirable that the forging process divides the eutectic Si into particles having an average grain size of 5 μm or less. This facilitates the formation of nearly continuous machining lines.

温間鍛造によって作られた成形品は合金の特性を向上さ
せるためにT4処理(450〜b1h→急冷→約1週間
以上放置)、T6処理(450〜520℃Xlh→急冷
→人工時効;例えば150〜200℃X8h→空冷)あ
る0はT5処理(温間成形後直ちに急冷→人工時効)等
の熱処理を施すことが望ましい。
In order to improve the properties of the alloy, molded products made by warm forging are subjected to T4 treatment (450 to 1h → quenching → leaving for about 1 week or more), T6 treatment (450 to 520℃Xlh → quenching → artificial aging; e.g. 150 ~200°C x 8 hours → air cooling) It is desirable to perform heat treatment such as T5 treatment (quenching immediately after warm forming → artificial aging).

上述のようにして作られた成形品は機械加工によって仕
上げられ、且つドラム外周の磁気テープ案内通路に、テ
ープ進行方向に沿って表面粗さ1〜6μmの平行なほぼ
連続した加工線が形成される。
The molded product produced as described above is finished by machining, and parallel, almost continuous machining lines with a surface roughness of 1 to 6 μm are formed along the tape traveling direction in the magnetic tape guide path on the outer periphery of the drum. Ru.

本発明は、鋳塊を鍛造し共晶Siを細かく分断してから
機械加工するので、機械加工線をほぼ連続するように形
成することができる。第1図、第2図及び第3図の磁気
テープ案内ドラムに供される。
In the present invention, the ingot is forged and the eutectic Si is finely divided before being machined, so that the machining lines can be formed to be substantially continuous. The magnetic tape guide drum shown in FIGS. 1, 2, and 3 is used.

実施例 第1表に示すAC−5A及びAC−8Bの組成を溶解後
、鋳造法によってすべり摩擦試験片及び実機磁気テープ
案内ドラムを製造した。一方、第1表に示す組成のAQ
−3i系合金を溶解後、30〜b ビレットを作成し、450℃で40〜90%の塑性加工
を施した。その後各種の熱処理例えば450℃〜520
℃xihの溶体化処理を行い、1週間以上放置したもの
及び170’cX8h→徐冷の時効処理を行った。また
、温間鍛造後直ちに急冷させた熱処理も行った6塑性加
工後の84晶の大きさは1.6μm〜2.8μmである
。上記の試料より、すベリ摩擦試験片3o及び実機磁気
テープ案内ドラムを機械加工により作製した。
Example After melting the compositions of AC-5A and AC-8B shown in Table 1, sliding friction test pieces and actual magnetic tape guide drums were manufactured by a casting method. On the other hand, the AQ of the composition shown in Table 1
After melting the -3i alloy, a 30-b billet was prepared and subjected to 40-90% plastic working at 450°C. After that, various heat treatments such as 450℃~520℃
The specimens were subjected to solution treatment at 170°C x 8h, left for one week or more, and then subjected to aging treatment at 170'x8h→slow cooling. Further, the size of the 84 crystals after 6 plastic working, which was also heat treated by quenching immediately after warm forging, is 1.6 μm to 2.8 μm. From the above samples, a sliding friction test piece 3o and an actual magnetic tape guide drum were fabricated by machining.

第4図はすベリ摩擦係数の測定方法を示したものであり
、VTR用の磁気テープ(Cry2テープ)31が荷重
32とスプリングゲージ33にセラ1−される。この時
の磁気テープの角度θは9o6とする。磁気テープ31
はすベリ摩擦係数をめるための力FW及びスプリングゲ
ージ33によって引張られ、すべり摩擦力F−1が得ら
れる。但し、この場合の荷重は10〜100gの範囲内
である。
FIG. 4 shows a method for measuring the coefficient of friction, in which a VTR magnetic tape (Cry2 tape) 31 is placed between a load 32 and a spring gauge 33. The angle θ of the magnetic tape at this time is 9o6. magnetic tape 31
It is pulled by the force FW for adjusting the sliding friction coefficient and the spring gauge 33, and a sliding friction force F-1 is obtained. However, the load in this case is within the range of 10 to 100 g.

このような装置及び条件で行った試験結果より。Based on test results conducted using such equipment and conditions.

すべり摩擦係数μは次式によってめることが出来る。The sliding friction coefficient μ can be determined by the following formula.

第5図は上式によりめた測定結果である。曲線AはA 
Q −S i系合金のすべり摩擦係数であり、0.3以
下の値である。
FIG. 5 shows the measurement results obtained using the above formula. Curve A is A
Q-Si is the sliding friction coefficient of the i-based alloy, and is a value of 0.3 or less.

通常、VTRが正常運転状態で録画、再生を行っている
場合、本AQ−8i系合金はこの範囲ですべり摩擦係数
が0.24〜0.25と小さく、案内ドラムとして適し
ている。曲線りは表面にセラミックコーティングを施し
た場合のすべり摩擦係数であり、本AQ−8i系合金は
セラミックコーティングよりも非常に優れていることが
わかる。
Normally, when a VTR performs recording and playback under normal operating conditions, the present AQ-8i alloy has a low sliding friction coefficient of 0.24 to 0.25 within this range, making it suitable as a guide drum. The curve is the sliding friction coefficient when a ceramic coating is applied to the surface, and it can be seen that the present AQ-8i alloy is much superior to the ceramic coating.

また、硬質クロムメッキを施した場合についても試験し
たが、セラミックロッドよりも大きいすべり摩擦係数で
ある。曲線BはAC−5A、曲線CはAに−8B材の表
面アラサ3〜4μmに機械仕上げされている場合のすべ
り摩擦係数である。
We also tested a rod with hard chrome plating, and found that the coefficient of sliding friction was greater than that of a ceramic rod. Curve B is the sliding friction coefficient when A-8B material is machined to a surface roughness of 3 to 4 μm.

AC−5A及びAC−8Bのすベリ摩擦係数は0.27
〜0.31.30〜40gの荷重下でも0.26〜0.
27となっており、本A Q −S i系合金の方が優
れていることがわかる。すベリ摩擦係数が大きい場合に
は画面のチラッキの原因となる傾向があり、このように
して測定したすべり摩擦係数は実機磁気テープ案内ドラ
ムのすベリ摩擦を再現しているものであることを確認し
た。実験によれば磁気テープ案内ドラムの摩擦係数は0
,3以下、望ましくは0.28以下にすべきである。ま
た、0.3以下のすべり摩擦係数を得るためには、表面
アラサがl゛〜6μmであり、望ましくは2〜5μmに
すべきである。
The slip friction coefficient of AC-5A and AC-8B is 0.27
~0.31.0.26~0.0 even under a load of 30~40g.
27, indicating that the present AQ-Si alloy is superior. If the sliding friction coefficient is large, it tends to cause screen flickering, and we confirmed that the sliding friction coefficient measured in this way reproduces the sliding friction of the actual magnetic tape guide drum. did. According to experiments, the coefficient of friction of the magnetic tape guide drum is 0.
, 3 or less, preferably 0.28 or less. Further, in order to obtain a sliding friction coefficient of 0.3 or less, the surface roughness should be 1 to 6 μm, preferably 2 to 5 μm.

第6図a〜第6図Cはへ〇−3i系合金、AC−5A及
びAC−8B材製の磁気テープ案内ドラム表面の断面を
顕微鏡により400倍で撮影したものであるが、これら
は全て表面アラサ3〜4μmに機械加コニ仕上げさせて
いるものである。第6図aは本AQ−5i系合金、第6
図すはAC−5A、第6図CはAC−8B材である。本
AQ−8i系合金は小さなSi品であるが、AC−5A
Figures 6a to 6c are cross-sections of the surfaces of magnetic tape guide drums made of H-3i alloy, AC-5A, and AC-8B materials, taken with a microscope at 400x magnification. It is machined to a surface roughness of 3 to 4 μm. Figure 6a shows the present AQ-5i alloy,
The figure shows AC-5A material, and FIG. 6C shows AC-8B material. This AQ-8i series alloy is a small Si product, but AC-5A
.

AC−8B材は大形のSi晶であり、鋳巣も見られる。The AC-8B material is a large Si crystal, and cavities are also observed.

また、表面状態を見るとAQ−8i系合金は機械加工線
の凹凸があるだけであるが、AC−5A及びAC−8B
材は比較的大形のSi晶がむしり取られた跡あるいは鋳
巣による凹凸が見られる。
In addition, looking at the surface condition, AQ-8i alloy only has unevenness due to machined lines, but AC-5A and AC-8B
The material shows traces of relatively large Si crystals being removed, or unevenness caused by casting cavities.

第7図a〜第7図Cは磁気テープ案内ドラムのテープガ
イド表面を電子顕微鏡で観察した結果であり、倍率は2
000倍である。第7図aは本発明のAΩ−Si系合金
、第7図すはAC−5A、第7図CはAC−8b材の表
面状態であり、これらは全て表面アラサ3〜4μmに機
械加工仕上げされているものである。この図からもわか
るように本A Q −S i系合金の表面は機械加工線
が磁気テープの動く方向に対してほぼ連続的であり、か
つ、なめらかである。しかし、AC−5A及びAC−8
B材は表面にくぼみが見られ、特にA C−813材は
大きなくぼみがある。このくぼみは第6図に示した凹凸
を平面的に見たものであり、機械加工の際に比較的大形
のSi品がむしり取られた跡、あるいは鋳巣である。こ
わらのくぼみは磁気テープを傷つける原因ともなる。
Figures 7a to 7c are the results of observing the tape guide surface of the magnetic tape guide drum using an electron microscope, and the magnification is 2.
000 times. Figure 7a shows the surface condition of the AΩ-Si alloy of the present invention, Figure 7A shows the surface condition of AC-5A, and Figure 7C shows the surface condition of AC-8b material, all of which are machined to a surface roughness of 3 to 4μm. This is what is being done. As can be seen from this figure, the machining lines on the surface of the present AQ-S i alloy are almost continuous in the direction of movement of the magnetic tape and are smooth. However, AC-5A and AC-8
Material B has dents on its surface, and material A C-813 in particular has large dents. This depression is a plan view of the unevenness shown in FIG. 6, and is a hole or a hole where a relatively large Si product was removed during machining. Stiff dents can also cause damage to magnetic tape.

本発明のもう一つの重要な特徴は良好な耐摩耗性を有し
ているーことである。
Another important feature of the invention is that it has good abrasion resistance.

第8図a〜第8図Cは実際の磁気テープ案内ドラムを使
って600〜700hrの連続で行ったIr耗試験結果
である。また、この試験に用いた磁気テープはすべり摩
擦試験に用いたものと同様のものである。第8図aは本
発明のAQ−Si系合金、第8図すはA C−5A 、
第8図CはAC−8B製ドラl\の試験結果であり、こ
れらの摩耗量はアラサの減少で示している。比較のため
に第8図a〜第81ffl cの左側部分にテス1へ前
のアラサを示したが、これらの曲線はアラサN1の記録
図であり、実際の表面は第7図a〜第7図Cに示したよ
うにくぼみがあることに注意しておく必要がある。
Figures 8a to 8c show the results of an Ir wear test conducted continuously for 600 to 700 hours using an actual magnetic tape guide drum. Furthermore, the magnetic tape used in this test was the same as that used in the sliding friction test. Figure 8 a shows the AQ-Si alloy of the present invention, Figure 8 shows A C-5A,
FIG. 8C shows the test results for the AC-8B drum, and the amount of wear is shown by the decrease in wear. For comparison, the roughness before test 1 is shown on the left side of Figures 8a to 81fflc, but these curves are records of roughness N1, and the actual surfaces are shown in Figures 7a to 7th. It should be noted that there is a depression as shown in Figure C.

!;発明のAQ−Simドラムの摩耗量は0.5μmで
あるが、A、C−5A及びAC−8B製ドラムは0.7
−0.9μmであり1本発明のA Q −S i製ドラ
ムは長期間の使用においても所望の表面状態を保つこと
ができ、耐摩耗性が優れていることがわかる。更に発明
者らは第1表に示したようにAM−8i系合金の組成、
Si品の大きさ及び熱処理を変えたドラムについても上
記試験を行った結果、Si晶が5μmより大きい場合に
はテープガイド表面を機械加工により所望の表面状態に
することが困難であり、Si晶の大きさは5μm以下と
すべきことがわかった。
! ; The amount of wear of the AQ-Sim drum of the invention is 0.5 μm, while the amount of wear of the drums made of A, C-5A, and AC-8B is 0.7 μm.
It can be seen that the AQ-S i drum of the present invention can maintain a desired surface condition even after long-term use, and has excellent wear resistance. Furthermore, the inventors determined the composition of the AM-8i alloy as shown in Table 1,
As a result of conducting the above tests on drums with different Si product sizes and heat treatments, it was found that if the Si crystals were larger than 5 μm, it was difficult to machine the tape guide surface to the desired surface condition; It was found that the size should be 5 μm or less.

第1表 処理条件 T4:500°Cx 1 h r→急冷→常温1週間以
上放装T5:470°C温間成形→急冷→l 70℃X
8 h r時効処理’176:500℃X1hr−*急
冷→170℃X8hr時効処理as caSL: : 
Q構造のまま また、Si量が8重量%以下の場合にはドラムの摩耗量
が増加し、15重量%以上では塑性加工により分断して
分散させることができない一次Si晶が多く晶出するの
で、八C−5A及びAC−8B材のように機械加工の際
にくぼみができ、磁気テープを傷つける原因ともなる。
Table 1 Processing conditions T4: 500°C x 1 hr → Rapid cooling → Releasing at room temperature for 1 week or more T5: 470°C warm forming → Rapid cooling → l 70°C
8 hr aging treatment '176: 500℃×1hr-*Rapid cooling → 170℃×8hr aging treatment as caSL: :
If the Si content is 8% by weight or less, the amount of drum wear will increase, while if the Si content is 15% by weight or more, a large amount of primary Si crystals will crystallize, which cannot be separated and dispersed by plastic working. , 8C-5A, and AC-8B materials, dents are formed during machining, which can cause damage to the magnetic tape.

望ましくはAQ−Si共共成成分付近12重重景程度が
よい。
Desirably, a 12-fold close-up view around the AQ-Si co-component component is preferable.

更に、MgはSiと結合して金属間化合物を形成し、基
地の析出強化作用をする。しかし、Mgは0.05重量
%以下の添加ではその効果が少なく、1.0重量%以上
の添加は靭性及び衝撃値が低下する傾向があり、温間鋳
造性が悪くなる。望ましくは0.3〜0.6重量%にす
べきである。また、CuはAQの基地に固溶してCu−
1/IQを形成し、熱処理による強化作用をするととも
に、被切削性あるいは耐摩耗性を向上させる。しかし、
Cuは0.5重量%以下では熱処理効果が少なく、3重
量%以上になると機械的性質の向上が飽和するので、経
済性の面からも4重量%以下とすべきであり、望ましく
は1〜3重量%添加がよい。その他Fe。
Furthermore, Mg combines with Si to form an intermetallic compound, which acts to strengthen the matrix by precipitation. However, when Mg is added in an amount of 0.05% by weight or less, the effect is small, and when added in an amount of 1.0% by weight or more, the toughness and impact value tend to decrease, resulting in poor warm castability. It should preferably be between 0.3 and 0.6% by weight. In addition, Cu is dissolved in the base of AQ and Cu-
1/IQ, strengthens through heat treatment, and improves machinability or wear resistance. but,
If Cu is less than 0.5% by weight, the heat treatment effect will be small, and if it is more than 3% by weight, the improvement in mechanical properties will be saturated. Therefore, from an economical point of view, the content should be less than 4% by weight, and preferably 1 to 3% by weight. It is preferable to add 3% by weight. Other Fe.

Cr y N l p Z r + T i等の不純物
が合金中に存在することがあるが、それらの総量は5重
量%以下とずべきである。
Impurities such as Cr y N l p Z r + Ti may be present in the alloy, but their total amount should be less than 5% by weight.

以上詳述したように、本発明の方法によって磁気テープ
案内ドラムを製造することにより、ドラムの表面状態及
び耐摩耗性が従来のセラミックコーティング、AC−5
A及びAC−8B等には見られない程優オシた特性を有
するようになる。
As detailed above, by manufacturing a magnetic tape guide drum by the method of the present invention, the surface condition and abrasion resistance of the drum are improved compared to conventional ceramic coating, AC-5.
It has superior characteristics that are not found in A, AC-8B, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は磁気テープ走査装置の外観を示す斜視図であり
、第2図はその断面図、第3図は第1図及び第2図とは
構造の異った磁気テープ走査装置の断面図、第4図はす
べり摩擦係数の試験装置の略図、第5図はすべりJ?擦
係数試験結果を示すグラフ、第6図は磁気テープ案内ド
ラム表面の断面の顕微鏡写真、第7図は磁気テープ案内
ドラムのテープガイド表面状態の電子顕微鏡写真、およ
び第8図は使用前及び使用後の磁気テープ案内ドラム表
面状態をアラサ計で測定した結果を示すグラフである。 1・・・静止上ドラム、2・・・静止下ドラム、3・・
・回転盤、4・・・間隙、5・・・シャフト、6・・・
コネクター、6′・・・ボルト、7・・・磁気ヘッド、
8・・・テープガイド、9・・・スリーブ、10・・・
ポル1−111・・・ボールベアリング、12・・・励
磁コイル、13・・・ブツシュ、14・・・プーリー、
15・・・磁気テープ、20・・・回転ドラム、21・
・・静止ドラム、22・・・磁気ヘッド、30・・・試
験片、31・・・磁気テープ、32・・・重り、第 ム
 昏] 第7図 (C) 第1頁の続き 0発 明 者 寺 1) 明 猷 横浜市戸塚区吉究所
内 田町29旙地 株式会社日立製作所家電研手続補正書(
方式ン 昭和5耐 +1i 2+14 1’+1i’+’ I−;長杓志賀 学殿・I−f’l
の表小 昭41159年特frlRfi第77405 号発明の
名利。 磁気テープ走査装置用案内ドラムの製造法抽1]をする
と 1“・1′1との関係 1旨’r 111 ’+ Ix
r1人と、1′1西ml It式カケ1 目 立 製 
作 lす1代 理 人 2、明細書の図面の簡単な説明を次の通り補正する。 (1)第17頁16行目の「顕微鏡写真」の前に「金属
組織を示す」を加入する。 (2)第17頁17行目の「状態の」を「のマクロ的な
金属組織を示す走査型」と訂正する。 以」ニ
FIG. 1 is a perspective view showing the external appearance of the magnetic tape scanning device, FIG. 2 is a sectional view thereof, and FIG. 3 is a sectional view of the magnetic tape scanning device having a different structure from FIGS. 1 and 2. , Fig. 4 is a schematic diagram of the testing device for the sliding friction coefficient, and Fig. 5 is the sliding friction coefficient test device. Graph showing the friction coefficient test results, Figure 6 is a microscopic photograph of the cross section of the surface of the magnetic tape guide drum, Figure 7 is an electron microscope photograph of the state of the tape guide surface of the magnetic tape guiding drum, and Figure 8 is before and after use. It is a graph showing the results of measuring the surface condition of the magnetic tape guide drum after that using an aging meter. 1... Stationary upper drum, 2... Stationary lower drum, 3...
・Rotary disk, 4... Gap, 5... Shaft, 6...
Connector, 6'...Bolt, 7...Magnetic head,
8...Tape guide, 9...Sleeve, 10...
Pol 1-111... Ball bearing, 12... Excitation coil, 13... Bush, 14... Pulley,
15... Magnetic tape, 20... Rotating drum, 21.
...Stationary drum, 22...Magnetic head, 30...Test piece, 31...Magnetic tape, 32...Weight, Figure 7 (C) Continued from page 10 Invention Person Temple 1) Meiyu 29 Uchida-cho, Kikyusho, Totsuka-ku, Yokohama Hitachi, Ltd. Home Appliances Research Procedures Amendment (
Methoden Showa 5 resistance +1i 2+14 1'+1i'+'I-; Nagasaki Shiga Gakudono/I-f'l
No. 77405 special frlRfi No. 77405 of 1984. The merit of the invention. Manufacturing method of guide drum for magnetic tape scanning device 1], then the relationship with 1"・1'1 1 'r 111' + Ix
r1 person, 1'1 West ml, It-style kake 1, made
Agent 1, Agent 2, amend the brief description of the drawings in the specification as follows. (1) Add "indicates metallographic structure" before "micrograph" on page 17, line 16. (2) On page 17, line 17, "state" is corrected to "scanning type that shows the macroscopic metal structure of". I”d

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、円型静止ドラムと回転ドラムを含み、それらのドラ
ムの外周に形成された案内通路に沿って磁気テープを滑
動案内する磁気テープ走査装置において前記ドラムの少
なくとも一方を下記の工程によって製造することを特徴
とする磁気テープ走査装置用案内ドラムの製造法。 (1)アルミニウムーシリコン合金系溶湯を急冷凝固し
て鋳塊を製造する工程と、 (2)前記鋳塊を鍛造してドラム形状をした成型品を製
造する工程、および (:l)機械加工によって、該成型品の外周に磁気テー
プの進行方向に沿って表面粗さ】〜6μmの平行な実質
的に連続した加工線を形成する工程。 2、特許請求の範囲第1項において、前記鍛造工程によ
り鋳塊の共晶シリコンを平均粒径5μm以下の大きさに
分断することを特徴とする磁気テープ走査装置用案内ド
ラムの製造法。 3、円型静止ドラムと回転ドラムを含み、それらのドラ
ムの外周に形成された案内通路に沿って磁気テープを滑
動案内する磁気テープ走査装置において前記ドラムの少
なくとも一方を下記の工程によって製造することを特徴
とする磁気テープ走査装置用案内ドラムの製造法。 (1)アルミニウムーシリコン系合金溶湯を急冷凝固し
て鋳塊を製造する工程と、 (2)前記鋳塊を鍛造してドラム形状をした成型品を製
造する工程と、 (3)前記成形品に溶体化処理とその後の時効処理を含
む熱処理を施す工程、および (4)機械加工によって、該成型品の外周に磁気テープ
の進行方向に沿って表面粗さ1〜6μmの平行な実質的
に連続した加工線を形成する工程。 4、特許請求の範囲第3項において、前記鍛造工程によ
り鋳塊の共晶シリコンを平均粒径5μm以下の大きさに
分断することを特徴とする磁気テープ走査装置用案内ド
ラムの製造法。
[Scope of Claims] 1. In a magnetic tape scanning device that includes a circular stationary drum and a rotating drum and slides and guides a magnetic tape along a guide path formed on the outer periphery of these drums, at least one of the drums is configured as follows. A method for manufacturing a guide drum for a magnetic tape scanning device, characterized in that it is manufactured by the steps of: (1) A step of rapidly cooling and solidifying a molten aluminum-silicon alloy to produce an ingot; (2) A step of forging the ingot to produce a drum-shaped molded product; and (:l) machining. forming parallel, substantially continuous processing lines with a surface roughness of ~6 μm along the traveling direction of the magnetic tape on the outer periphery of the molded product. 2. A method for manufacturing a guide drum for a magnetic tape scanning device according to claim 1, characterized in that the forging step divides the eutectic silicon of the ingot into particles having an average grain size of 5 μm or less. 3. In a magnetic tape scanning device that includes a circular stationary drum and a rotating drum and slides and guides a magnetic tape along a guide path formed on the outer periphery of these drums, at least one of the drums is manufactured by the following process. A method for manufacturing a guide drum for a magnetic tape scanning device, characterized by: (1) a step of rapidly cooling and solidifying a molten aluminum-silicon alloy to produce an ingot; (2) a step of forging the ingot to produce a drum-shaped molded product; (3) a step of manufacturing the molded product. A heat treatment process including solution treatment and subsequent aging treatment, and (4) machining are performed to form a substantially parallel surface roughness of 1 to 6 μm along the traveling direction of the magnetic tape on the outer periphery of the molded product. The process of forming a continuous processing line. 4. The method of manufacturing a guide drum for a magnetic tape scanning device according to claim 3, wherein the forging step divides the eutectic silicon of the ingot into particles having an average grain size of 5 μm or less.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62138344U (en) * 1986-02-25 1987-09-01
JPH03502968A (en) * 1988-02-29 1991-07-04 フエレイラ,ニコラス・シー Ultrasonic testing method
US7291095B2 (en) 2003-03-28 2007-11-06 Nissan Diesel Motor Co., Ltd. Automatic start control apparatus of vehicle
US11131351B2 (en) 2017-10-31 2021-09-28 Honda Motor Co., Ltd. Clutch control device
US11162546B2 (en) 2017-10-31 2021-11-02 Honda Motor Co., Ltd. Clutch control device

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