JPS606939B2 - ビシクロアルカン誘導体の製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式１： 〔式中ｎは１又は２の数を表わし〜Ｒ，は低級ァルキル
基を表わし、Ｘは遊離又はケタール化されたカルボニル
基或いは遊離又はェステル基又はエーテル基中の炭素原
子数が１〜１０であるェステル化ないしエーテル化され
たヒドロキシメチレン基を表わし〜Ｒ２はアルキル基〜
アリール基又はアラルキル基を表わす〕のビシクロアル
カン誘導体の製法に関し「 これは一般式ロ〔式中ｎ，
Ｘ，Ｒ，及びＲ２は前記のものを表わす〕の化合物をパ
ラジウム／カーボン触媒及びそれぞれ炭素原子数１〜６
の低級アルコール又は低級ケトンの存在で水素を用いて
水素添加して一般式１の化合物にすることを特徴とする
。

本発明はその他に従来未知であった一般式１の化合物に
関する。

低級アルキル茎虫，とは有利には炭素原子数１〜４のア
ルキル基であるべきであり「低級アルキル基としては例
えば次のものが挙げられる：メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ィソプロピル基、ブチル基及びｔープチル基。

特に有利なアルキル基Ｒ，はメチル基及びエチル基であ
る。アルキル基Ｒ２は有利には炭素原子数１〜１２のア
ルキル基であるべきである。

アリール基Ｒ２は有利には、場合によりメチル−、メト
キシ−、塩素−、臭素−、又はニトロ基により置換され
ているフェニル−又はナフチル基であるべきである。ア
ルキル−、アリールー又はアラルキル基Ｒ２としては例
えば次のものが挙げられる：メチル−、エチル一、プロ
ピルー、イソブロピル−、ブチルー、アミル−「イソア
ミル−、ヘキシル−、ヘプチル−、オクチル−、フェニ
ル−、ｏ−、ｍ−及びｐ−メチルフェニル−又はＱ−又
はＢ−ナフチル基。基Ｘは遊離又はケタール化されたカ
ルボニル基又は遊離又はェステル化されたないいまエー
テル化されたヒド。

キシメチレン基を表わしてよい。好適なケタール化され
たカルボニル基Ｘとしては次のものが挙げられる：１，
２−エチレンジオキシーメチレン基し１９３ープロピレ
ンジオキシメチレン基、２，３ーブチレンジオキシメチ
レン基〜２′？２′−ジメチルー１′，３−プロピレン
ジオキシーメチル基ｔ２，４−ベンチレンジオキシ−メ
チル基又は１， ２−フェニレンジオキシーメチレン基
。ェステル化されたヒドロキシメチレン基Ｘとしては有
利には、ェステル基が炭素原子１〜ＩＭ固を有するよう
な基を使用することができる。好適なェステル基として
は例えば次のものが挙げられる；アセトキシー「プロピ
オニルオキシ−、ブチリルオキシー、トリメチルアセト
キシ−、ベンタノイルオキシー、ヘキサノイルオキシ−
、ヘプタノイルオキシ−、オクタノイルオキシ−「ベン
ゾイルオキシー又はペンジルオキシカルボニルオキシ基
。好適なエーテル化されたヒドロキシメチレン基Ｘは有
利にはアルコキシ基又はアラルコシ基に炭素原子１〜１
の固を有する、アルコキシメチレン基又はアラルコキシ
メチレン基である。好適なアルコキシ−又はァラルコキ
シ基としては例えば次のものが挙げられる：メトキシ−
、ェトキシー、プロピルオキシ−「ブチルオキシ−、ｔ
−ブチルオキシ−、イソプロピルオキシ−又はペンジル
オキシ基。本発明による方法を用いて製造することので
きる、一般式１の化合物は特にステロイドの総合合成に
好適である重要な中間生成物である一般式ｌｂ：〔式中
、ｎ，×及びＲ，は前記のものを表わし、Ｒ３は水素原
子又は炭素原子数１〜４の低級アルキル基を表わし、Ｒ
４は飽和又は不飽和であり、及び／又は低級アルキレン
ジオール又は１，２ージフエノールでケタール化された
カルボニル基により中断されており、及び／又は遊離又
はェステル化されたカルボキシル基により及び／又は塩
素又は臭素により置換された、炭素原子数１〜８のアシ
ル基を表わし、かつＺはそれぞれアルキル部分が炭素原
子数１〜４である低級アルコキシカルボニル基、低級ア
シル基、低級アルキルスルフィニル基又は低級アルキル
スルホニル基を表わす〕の化合物の製造に使用される。

従って、本願発明の化合物もステロイド合成に好適であ
る重要な中間生成物である（ベルギー特許第７３９７１
８号明細書及び西ドイツ国特許出願公開第２２２１７０
４号公報）。反応工程１には本発明により得られた化合
物（１）をステロイド最終生成物にする工程を記載した
〔ホフマン・フ・ロッシュ社、西ドイツ国特許出願公開
第１９５００１２号公報（特公昭５６一３６１７７号、
ベルギー特許第７３９７１８号明細書に相応）〕。

反応工程２はこの工程を１９−ノルアンドロステンジオ
ン（ｌｅ）の製造例につき明らかにしており、ここでＲ
，＝ＣＨ３、Ｒ２＝フエニル、ｎ＝１、Ｘ＝ｔｅｎ−ブ
チルエーテル、Ｚｉ一ＣＯＯＣ２日５、Ｒ３＝日、であ
る。

例えば本発明により製造した一般式１の化合物（例ｌｂ
）を３ーオキシー７，７−エチレンジオキシオクタン酸
エチルェステルのアニオンと反応させてｌｂとし、引き
続きｌｂをアルドール縮合すると三環系ｌｃが得られる
（例ｌｃ参考例）。

この化合物を水素化し飽和化合物ｌｄとする。ｌｄの酸
性処理により１工程でエーテル脱離、ケタール脱離及び
アルドール縮合が生じる。ここで得られた化合物をクロ
ム酸酸化すると一般式ｌｃの化合物（１９ーノルーアン
ドロスト−４−ェンー３，１７−ジオン）が得られる。
この化合物はノルェチステロン及び酢酸ノルェチステロ
ンを製造するための重要な中間体である。反応工程１ 反応工程２ １．エーテル脱離 ２．ケタール脱離 ３．アルドール縮合 ４．酸化 （西ドイ、ソ国特許公開 第１９５００１２号公報） 本発明による方法の反応工程は、一般式ロの化合物のパ
ラジウム／カーボン触媒及び低級アルコール又は低級ケ
トンの存在で水素添加して一般式１の化合物にするよう
にして実施される。

該反応工程用に低級アルコール又は低級ケトンとしては
、有利には炭素原子６個までを有するアルコール又はケ
トンを使用する。

低級アルコール又は低級ケトンとしては例えば次のもの
が挙げられる：メタノール、エタノール、プロパノール
、イソプロパノール、ブタノール、ｓープタノール、ｔ
−ブタノール、アミルアルコール又はイソアミルアルコ
ール、アセトン、メチルエチルケトン、ジェチルケトン
又はメチルイソブチルケトン。アルコール又はケトンは
溶剤として役立つ。水素添加は常用のパラジウム／カー
ボン触媒を使用して行なわれる。水素添加生成物の良好
な収率を護得するためには、反応混合物に付加的になお
少量の鉱酸、例えば塩酸、硫酸、燐酸又は過塩素酸を添
加することが有利である。

有利には反応混合物に錫酸０．０１〜５．０％を添加す
る。水素添加は有利には反応温度０００〜８０ｑ０かつ
水素圧ｌａｔｍ〜１００瓜ｔｍで実施される。

一般式０の化合物の水素添加が本発明による方法の特別
な条件下に実際に完全にかつ立体特異的に進行しかつ化
合物のスルホン基が該条件下では攻撃されないというこ
とは、当業者にとって意想外である。原則として、一般
式ロの化合物の水素添加を本発明による以外のその他の
条件下で実施することができるが、その場合には水素添
加はもはや完全に又は十分に立体特異的に所望の方法へ
進行せずかついまし‘打ヒ合物のスルホン基は脱離され
る。

従って、触媒としてパラジウムノカーボンの代りにパラ
ジウム／炭酸カルシウム−又はパラジウム／硫酸バリウ
ム触媒を用いる場合又は溶剤として低級アルコール又は
ケトンではなく、例えば酢酸エチルヱステル、シクロヘ
キサン、ジメトキシェタン、クロロホルム又はアセトニ
トリルを使用する場合には、水素添加は不完全に行なわ
れる。溶剤として酢酸を用いる場合には、著しい含量で
異性体の化合物が得られかつ溶剤としてジメチルホルム
アミド又はテトラヒドロフランを使用する場合には、ス
ルホニル基が水素添加の際に部分的に脱離される。本発
明による方法に必要な一般式ロの出発化合物は例えば、
一般式Ｖ：〔式中ｎ，×及びＲ，は前記のものを表わす
〕の化合物をトリェタノールアミン中で相応するヒドロ
キシメチレンスルホンと反応させるか又はトリェタノー
ルアミン中でバラホルムアミド及び相応するメルカプタ
ンと縮合させかつ最初に生じるチオェーテルを酸化して
スルホンにすることによって製造することができる（西
ドイツ特許出願公開第２２２１７０４号公報）。

次に本発明を実施例につき詳説する。

例１ ｛ａ｝（参考例） １８一ｔ−ブチルオキシー７ａ８ー
メチル−５，６，７，７ａーテトラヒドロインダンー５
−オン０．５６ｇにフエニルーヒドロキシメチルスルホ
ン０．４繋及びトリェタノールアミン２の‘を加えかつ
窒素雰囲気中で縄梓下に１斑時間１０ぴ０に加熱する。

次いで混合物を冷却し、エーテルと水との間に分配し、
分離したエーテル相を乾燥させかつ真空中で濃縮する。
残澄を珪酸ゲルでクロマトグラフィーにかけ、エーテル
から再結晶させると、融点１＄〜１３４℃の１８−ｔ−
ブチルオキシー７ａ８−メチル一４−（フエニルスルホ
ニルーメチル）一５，６，７，７ａ‐テトラヒドロイン
ダン−５−オン０．２笹が得られる。〔Ｑ〕色ｏ＝十５
６０（クロロホルム；ｃ＝１％）‘ｂ’（実施例） １
８一ｔーブチルオキシー７ａ６ーメチルー４一（フエニ
ルスルホニルーメチル）−５，６，７，７ａ−テトラヒ
ドロインダン−５−オン１．雌にエタノール５０の‘、
ＩＮの塩酸５の及びパラジウム／獣炭（１０％）１００
の９を加えかつ２０午０かつ常圧で水素添加する。

反応完結後、触媒を猿別し、溶液を真空中で濃縮し、残
澄をクロロホルムと炭酸水素ナトリウム水溶液との間に
分配し、分離したクロロホルム相を真空中で濃縮し、残
澄をジィソプロピルェーテルノヘキサンから再結晶させ
ると、融点１０４〜１０が○のＩＢ−ｔーブチルオキシ
−７ａ８−メチル−４一（フエニルスルホニルーメチル
）ーベルヒドロインダン‐５ーオン０．７舵が得られる
。

〔Ｑ〕名０＝十３９ｏ（クロロホルム；Ｃ＝１％）。｛
ｃー（参考例）ＩＢ−ｔーブチルオキシ−７ａ８−メチ
ル−４一（フエニルスルホニルーメチル）ーベルヒドロ
インダン一５ーオン３８０の９に３−オキソー７，７−
（エチレンジオキシ）ーオクタン酸−エチルェステル０
．４の‘、水素化ナトリウム（油性分散液として、８０
％）１００の９及び無水ペンタン７０の‘を添加しかつ
３０分間還流下に加熱する。次いで反応混合物に氷を加
え、酢酸で酸性にし、クロロホルムで抽出し、クロロホ
ルム相を真空中で濃縮すると、１８一ｔーブチルオキシ
−７ａ８ーメチルー４一（２′ーエトキシカルボニル−
３−オキソ−７，７′−エチレンジオキシオクチル）ー
ベルヒドロインダン−５−オン４９０の夕が粗生成物と
して得られる。

ＩＲ（膜）：５．７５〃，５．８ム，６．１仏。こうし
て得た粗生成物に引続き精製せずに２０％の水酸化ナト
リウム水溶液４の【及びメタノール２０叫を加えかつ３
び分間室温で放置する。

次いで反応混合物を十分に濃縮し、残溝を酢酸で酸性に
し、食塩で飽和させかつ混合物を酢酸ヱステルで抽出す
る。酢酸ェステル相を乾燥させ、濃縮すると、８−カル
ボキシ−３８−ｔーブチルオキシ−＊３−メチル−６−
（３，３−エチレンジオキシブチル）−７ーオキソー２
，３，粉，４，５，７，８，９，鱗８，鮒Ｑーデカヒド
ローベンズ〔ｅ〕一〔ＩＨ〕ーインデンが粗生成物とし
て得られる。ＩＲ：３．０仏，６．０仏該粗生成物を引
続き精製せずにベンゼン２５の‘に溶かしかつ１時間還
流下に加熱する。次いで溶液を濃縮し、残檀を珪酸ゲル
カラムを用いるクロマトグラフィーにより精製すると、
融点６０〜６６ｑ○の３８一ｔーブチルオキシ−＄８ー
メチルー６一（３′，３′ーヱチレンジオキシブチル）
一７ーオキソー２，３，＄，４，５，７，８，９，鱗３
，功Ｑ−デカヒドローベンズ〔ｅ〕−〔ＩＨ〕ーィンデ
ン３２０の９が得られる。色０＝１４ｏ（クロロホルム
；ｃ＝１％）例２ ‘ａ｝（参考例） 例ｌａに記載した条件下で、１８−
ペンゾイルオキシ−７ａ８−メチル−５，６，７，７ａ
−テトラヒドロインダンー５ーオン０．６鍵をフェニル
ーヒドロキシメチルスルホンと反応させかつ後処理する
と、融点１５９〜１６１℃の１８ーベンゾイルオキシー
７ａＢ−メチル−４一（フエニルスルホニルーメチル）
一５，６，７，７ａ−テトラヒドロインダンー５−オン
０．５３ｇが得られる。

｛ｂ｝（実施例） 例ｌｂに記載した条件下で１８−ペ
ンゾイルオキシ−７ａＢーメチルー５，６，７，７ａ‐
テトラヒドロインダンー５ーオン１．０ｇを水素添加し
かつ後処理する。

融点１６７〜１６が○のＩＢーベンゾイルオキシー７ａ
８−メチル一４Ｍ（フエニルスルホニルーメチル）ーベ
ルヒドロィンダン−５−オン５３０雌が得られる。容＝
十６〆（クロロホルム；ｃ：１％）｛ｃ）（参考例）
１８ーベンゾィルオキシ−７ａ８ーメチル−４−（フエ
ニルスルホニルーメチル）ーベルヒドロインダン一５ー
オン筋０秘に３ーオキソ−７，７ーエチレンジオキシー
オクタン酸−エチルェステル０．４の‘、水素化ナトリ
ウム１００の９（８０％の油性分散液）、ベンタン６０
舷及びベンゼン２５の上を加えかつ３雌ご間還流下に加
熱する。

反応混合物を例ｌｃに記載したようにして後処理すると
、１８ーベンジルオキシ−７ａ３−メチル−４−（２′
ーエトキシカルボニル−３′−オキソーブ，プーエチレ
ンジオキシーオクチル）−ベルヒドロィンダン−５ーオ
ンが粗生成物として得られる。ＩＲ：５．７５仏，５．
８山こうして得た粗生成物に２０％の水酸化ナトリウム
溶液４肌及びメタノール２０の‘を加えかつ２時間室温
で放置する。次いで反応混合物を後処理しかつ得られた
粗生成物を例ｌｃに記載したようにして脱カルポキシル
化すると、３８ーヒドロキシー＄８ーメチルー６一（３
，３′ーエチレンジオキシブチル）一７ーオキソー２，
３，粉，４，５，７，８，９，鱗８，功Ｑ−デカヒドロ
ーベンズ〔ｅ〕一〔ＩＨ〕ーインデン３６５秘が油状物
として得られる。ご汲９＝１３７００。ＩＲ：２．９山
及び６．０仏に帯。例３ ‘ａ’（参考例） １８ーヒドロキシー７ａＢ−メチル
−５，６，７，７ａ一テトラヒドロインダン−５ーオン
０．８総、パラホルムァルデヒド０．１鬼及びフエニル
メルカプテン０．６泌をトリエタノールアミン１．７の
‘に溶かしかつ８時間１１０午０に加熱する。

次いで混合物にＩＮの水酸化ナトリウム溶液５泌を加え
、エーテルで抽出し、エーテル相を洗浄し、乾燥させか
つ真空中で濃縮すると、１８−ヒドロキシーね８−メチ
ル−４一（フエニルチオメチル）−５，６，７，７ａ−
テトラヒドロィンダン−５−オン１．２５数ミ組生成物
として得られる。該粗生成物５００泌をジメトキシェタ
ン１０叫に溶かしかつジメトキシェタン５奴【中の４０
％の過酢酸１．１叫の溶液を加える。

次いで反応混合物に水を添加し、クロロホルムで抽出し
、クロロホルム相を洗浄しかつ真空中で濃縮する。

残澄をエーテルから再結晶させると、融点１２５〜１２
がｏの１８−ヒドロキシ−柊Ｂーメチルー４一（フエニ
ルスルホニルーメチル）−５，６，７，７オ−テトラヒ
ドロインダンー５−オン４２０の９が得られる。〔Ｑ〕
色。＝十７が（クロロホルム；ｃ：１％）｛ｂ｝（実施
例） 例ｌｂに記載したと同じ条件下で、１８ーヒドｏ
キシー７ａ８ーメチル−４一（フエニルスルホニルーメ
チル）一５，６，７，７ａ‐テトラヒドロインダンー５
−オン１．雌を水素添加すると、１８ーヒドロキシー７
ａ８−メチル一４−（フエニルスルホニルーメチル）ー
ベルヒドロィンダン−５−オン７００側が油状物として
得られる。

ＩＲ：２．８仏，５．８仏， ７．５６山及び８．７９
仏に帯。‘ｃ）（参考例） １８ーヒドロキシ−７ａ８
ーメチルー４−（フヱニルスルホニルーメチル）−ベル
ヒドロインダン−５ーオン１．０５ｇに３ーオキソー７
，７ーェチレソジオキシーオクタン酸−エチルェステル
１の‘、水素化リチウム５０ｍ９、ベンタン１００私及
びベンゼン６０の‘を加えかつ３０分間還流下に加熱す
る。

反応混合物を後処理し、閉環させかつ得られた生成物を
例ｌｃに記載したようにして脱カルボキシル化すると、
３３−ヒドロキシー＄８ーメチル−６一（３′，３ーエ
チレンジオキシブチル）一７ーオキソ−２，３，＄，４
，５，７，８，９，既８，功ｏーデカヒドローベンズ〔
ｅ〕−〔ＩＨ〕ーィンデン９１７ｇが得られ、これは例
×により得られた生成物と同一のものであつた。

例４ ‘ａ｝（参考例） １８一ｔーブチルオキシ−７ａＢ−
エチル−５，６，７，７ａーテトラヒドロインダンー５
−オン１．１鍵を例ｌａに記載した条件下で反応させる
と、融点１２８ｏ○の１８−ｔーブチルオキシー７ａＢ
−エチル一４−（フエニルスルホニルーメチル）−５，
６，７，７ａ‐テトラヒドロィンダン−５ーオン０．５
股が得られる。

〔Ｑ〕啓＝十４〆（クロロホルム；ｃ＝１％）‘ｂ｝（
実施例） １８−ｔーブチルオキシー７ａ８−エチル−
４一（フエニルスルホニルーメチル）−５，６，７，７
ａ−テトラヒドロインダンー５ーオン１．０ｇを例ｌｂ
に記載した条件下で水素添加し、かつ融点１３５〜１３
がｏの１６一ｔ−ブチルオキシー７ａ８ーエチルー４一
（フエニルスルホニルーメチル）−ベルヒドロインダン
ー５−オン６５０雌が得られる。

〔Ｑ〕客＝十３９ｏ（クロロホルム；Ｃニ・％）‘ｃ）
（参考例） １８一ｔーブチルオキシ−７ａ８−エチル
−４一（フエニルスルホニルーメチル）ベルヒドロイン
ダンー５ーオン１８０の９を例ｌｃに記載の条件下で反
応させると、３８−ｔーブチルオキシー＄８−エチル−
６一（３，３′ーエチレンジオキシ−ブチル）一７ーオ
キソー２，３，粉，４，５，７，８，９，鱗８，虫ｏ−
７力ヒドロ−ペンズ〔ｅ〕−〔ＩＨ〕ーインデン１４５
の９が油状物として得られる。

・２４９−１３５００。ｍ：６．０仏に帯。例５ 【ａ’（参考例） １８−ｔ−ブチルオキシー７ａ８−
メチル一５，６，７，７ａ−テトラヒドロインダンー５
ーオン１．１ｉｇに１−へキシルメルカプタン１．０の
‘、パラホルムアルデヒド０．３ｇ及びトリェタノール
２地を加えかつ２畑時間１１０ｑｏに加熱する。

反応混合物を例２に記載したようにして後処理して、１
８−ｔ−ブチルオキシー７ａ８−メチル一４−（１−へ
キシルーチオーメチル）５，６，７，７ａ‐テトラヒド
ロインダンー５−オン１．１数ま油状物として得られる
。１８一ｔ−ブチルオキシ−７ａ３ーメチル−４一（１
′ーヘキシルーチオーメチル）−５，６，７，７ａ‐テ
トラヒドロインダン−５−オン０．４酸を例冴に記載し
たようにして酸化して、融点５１〜５４．５ｑ０の１８
−ｔーブチルオキシ−７ａ８ーメチルー４一（１′ーヘ
キシルースルホニルーメチル）一５，６，７，７ａ−テ
トラヒドロインダン−５ーオン０．４衣が得られる。

〔Ｑ〕奪ｏ＝十２〆（クロロホルム；ｃ＝１％）‘ｂ｝
（実施例） 例ｌｂに記載した条件下にＩＢ−ｔ−ブチ
ルオキシー７ａ８−メチル一４−（１′ーヘキシルース
ルホニルーメチル）−５，６７７，７ａーテトラヒドロ
インダンー５−オン１．０ｇを水素添加して、ＩＰ−ｔ
−ブチルオキシ−７ａ３−メチル−（１′ーヘキシルー
スルホニルーメチル）−ベルヒドロインダン−５−オン
７１０雌が油状物として得られる。

ＩＲ：７．５８ム及び８．８一に帯。‘ｃ）（参考例）
例ｌｃに記載した条件下に１８−ｔーブチルオキシー
７ａ８ーメチル−（１′ーヘキシルースルホニルーメチ
ル）ーベルヒド。

インダン−５ーオン２１０の９を反応させて、３８一ｔ
ープチルオキシー＄８ーメチルー６−（３′，３−エチ
レンジオキシブチル）−７一オキソ−２，３，粉，４，
５，７，８，９，既Ｂ，靴Ｑ−デカヒドローベンズー〔
ｅ〕一〔ＩＨ〕−インデン１５０の夕が得られるが、こ
れは例ｌｃにより製造した生成物と同一のものである。
例６（参考例） １８−ｔ−ブチルオキシー７ａ８ーメチル−４一（フエ
ニルスルホニルーメチル）ーベルヒドロインダン−５−
オン３８０雌に３ーオキソー７ークロル−６ーオクテン
酸エチルェステル０．４の‘、水素化ナトリウム１００
の９（８０％の油性懸濁液）及びペンタン７０の上を加
えかつ３０分間還流下に加熱する。

反応混合物を後処理し、閉環させかつ得られた生成物を
例ｌｃに記載したようにして脱カルボキシル化して、３
８−ｔーブチルオキシー笹６ーメチル−６一（３−クロ
ル−２ーブテニル）一７ーオキソ−２，３，粉，４，５
，７，８，９，９８，功Ｑ−デカヒドロ−ペンズ〔ｅ〕
−〔ＩＨ〕ーインデン３５０の９が油状物として得られ
る。ど２５ｏ＝１３２００。ＩＲ：６．０一に帯。例７
（参考例） １８一ｔーブチルオキシー７ａ６−メチル一４−（フヱ
ニルスルホニルーメチル）ーベルヒドロインダン一５−
オン斑０雌をメチル一（２ーオキソ−６，６ーフエニレ
ンジオキシーヘプチル）−スルホキシド０．処、水素化
ナトリウム２００の９（８０％の油性懸濁液）及びベン
ゼン８０の‘を３０分間還流下に加熱する。

次いで反応混合物を後処理しかつ得られた生成物を例ｌ
ｃに記載したようにして閉環して、３３一ｔーブチルオ
キシ−＄８ーメチル−６一（３′，３′−フエニレンジ
オキシブチル）一７ーオキソ−８一（メチルスルフイニ
ル）一２，３，＄，４，５，７，８，９，虫８，敷はー
デカヒドローベンズ‐〔ｅ〕−〔ＩＨ〕ーインデン３０
０の９が油状物として得られる。ご泌＝１３１００。Ｉ
Ｒ：５．８６〆，６．０一，６．７５仏及び８．１０仏
に帯。例８（実施例）１３一ｔーブチルオキシｍ７ａ８
ーメチルー４−（フヱニルースルホニルーメチル）−５
，６，７，７ａ−テトラヒドロインダン−５−オン１．
０ｇにアセトン５０の‘及び過塩素酸０．５の‘を加え
、例ｌｂに記載した条件下に水素添加し、後処理して、
１８一ｔ−ブチルオキシ−７ａ８ーメチルー４−（フヱ
ニルースルホニルーメチル）ーベルヒドロインダン−５
ーオン７３０脚が得られるが、これは例ｌｂにより製造
した化合物と同一のものである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 I： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中ｎは１又は２の数を表わし、Ｒ＿１は低級アル
   キル基を表わし、Ｘは遊離又はケタール化されたカルボ
   ニル基又は遊離又はエステル基又はエーテル基中の炭素
   原子数が１〜１０であるエステル化ないしエーテル化さ
   れたヒドロキシメチレン基を表わし、Ｒ＿２はアルキル
   基、アリール基又はアラルキル基を表わす〕のビシクロ
   アルカン誘導体を製造するに当り、一般式II：▲数式、
   化学式、表等があります▼ 〔式中ｎ，Ｘ，Ｒ＿１及びＲ＿２は前記のものを表わ
   す〕の化合物をパラジウム／カーボン触媒及びそれぞれ
   炭素原子数１〜６の低級アルコール又は低級ケトンの存
   在で水素添加して一般式Iの化合物にすることを特徴と
   する、ビシクロアルカン誘導体の製法。