JPS60621A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS60621A JPS60621A JP58108714A JP10871483A JPS60621A JP S60621 A JPS60621 A JP S60621A JP 58108714 A JP58108714 A JP 58108714A JP 10871483 A JP10871483 A JP 10871483A JP S60621 A JPS60621 A JP S60621A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- recording medium
- magnetic recording
- film layer
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73923—Organic polymer substrates
- G11B5/73927—Polyester substrates, e.g. polyethylene terephthalate
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高分子成形物基板上に塗膜層と強磁性金属薄膜
層の２層構造を有する磁気記録媒体に関する。
層の２層構造を有する磁気記録媒体に関する。
従来例の構成とその問題点
近年、オーディオ分野、ビデオ分野における磁気記録媒
体の高性能化は目覚ましいものがある。
体の高性能化は目覚ましいものがある。
第１図は高分子成形物基板３０片面に磁性層１゜他方の
面に導電塗膜層２を有する磁気記録媒体の断面図を示す
。一般に高分子成形物基板３０表面抵抗は高く（ポリエ
ステルフィルムの場合、１０１４〜１０１６や口である
。）、導電塗膜層２を設けることなく走行させると摩擦
帯電を起こし、放電ノイズの発生や、静電気的粘着によ
る走行変動等が生じ易くなる。導電塗膜層２１を基板３
を覆うことにより上記の静電気障害を防止しようとする
もので、高級磁気テープ等に用いられているが、基板３
の摩擦係数を下げてやれば、特に導電塗膜層２を設ける
必要はなくなり、一般には磁性層１の表面抵抗を下げる
ことで対応している。
面に導電塗膜層２を有する磁気記録媒体の断面図を示す
。一般に高分子成形物基板３０表面抵抗は高く（ポリエ
ステルフィルムの場合、１０１４〜１０１６や口である
。）、導電塗膜層２を設けることなく走行させると摩擦
帯電を起こし、放電ノイズの発生や、静電気的粘着によ
る走行変動等が生じ易くなる。導電塗膜層２１を基板３
を覆うことにより上記の静電気障害を防止しようとする
もので、高級磁気テープ等に用いられているが、基板３
の摩擦係数を下げてやれば、特に導電塗膜層２を設ける
必要はなくなり、一般には磁性層１の表面抵抗を下げる
ことで対応している。
第２図は高分子成形物基板３上に強磁性金属ｌ′Φ膜層
４をイ１する磁気記録媒体の断面図を示し、その優れ／
こ高周波数特性からビデオテープレコーダや、ＰＣＭレ
コーダに用いることができる磁気記録媒体として注目さ
れている。この薄）膜層４は要求される磁気特性から非
常にＦｌ’７ ＜ （ｏ、ｓμｍ以下）することが必要
で、そのため十分な耐摩耗性をイコすることが実用化の
キーポイントとされている。
４をイ１する磁気記録媒体の断面図を示し、その優れ／
こ高周波数特性からビデオテープレコーダや、ＰＣＭレ
コーダに用いることができる磁気記録媒体として注目さ
れている。この薄）膜層４は要求される磁気特性から非
常にＦｌ’７ ＜ （ｏ、ｓμｍ以下）することが必要
で、そのため十分な耐摩耗性をイコすることが実用化の
キーポイントとされている。
現在のところ第３図のような顔Ｆｌを含んだ下塗り層５
を設けて表面の微小な凹凸形状により薄膜層４の接着性
を向上させ、壕だ摩擦係数を下げることが捉案されてい
る。ところが、薄膜層４をメッキ法で形成する場合は問
題ないが、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタ
リング等の真空中で形成する場合強磁性金属薄膜層４の
表面抵抗が低いにもかかわらず、テープ鳴き、静電気的
粘着による走行変動等が生じ、たとえ、第３図のような
下塗り層５を設けたとしても実用に耐えるものはできな
かった。
を設けて表面の微小な凹凸形状により薄膜層４の接着性
を向上させ、壕だ摩擦係数を下げることが捉案されてい
る。ところが、薄膜層４をメッキ法で形成する場合は問
題ないが、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタ
リング等の真空中で形成する場合強磁性金属薄膜層４の
表面抵抗が低いにもかかわらず、テープ鳴き、静電気的
粘着による走行変動等が生じ、たとえ、第３図のような
下塗り層５を設けたとしても実用に耐えるものはできな
かった。
発明の目的
本発明は上記従来の問題点を解消するもので、走行性の
優れた強磁性金属薄膜を有する磁気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
優れた強磁性金属薄膜を有する磁気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
発明の構成
本発明は高分子成形物基板上に導電性の塗膜層を設け、
その上に真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリ
ング等の真空技術で強磁性金属薄膜層を設けた磁気記録
媒体であり、上記塗膜層の表面固有抵抗を１ｏ” 、Ｒ
７０１未満とすることによりテープ鳴き、静電気的粘着
による走行変動等が生じないようにしたものである。
その上に真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリ
ング等の真空技術で強磁性金属薄膜層を設けた磁気記録
媒体であり、上記塗膜層の表面固有抵抗を１ｏ” 、Ｒ
７０１未満とすることによりテープ鳴き、静電気的粘着
による走行変動等が生じないようにしたものである。
実施例の説明
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
〈実施例１〉
カーボンブラック ・・・・・１０部
ポリウレタン樹脂 ・・・・・６ｏ部
塩ビー酢ビ共屯合体 ・・・・・・６ｏ部ｖ ７ チ
ン ・・・・・・０．２部ト ル エ ン ・・・・・
・６０部 メチルエチルケト／ ・・・・・・６０部なお、成分比
の割合は全て重量比で示している。
ン ・・・・・・０．２部ト ル エ ン ・・・・・
・６０部 メチルエチルケト／ ・・・・・・６０部なお、成分比
の割合は全て重量比で示している。
−に記組成物をボールミルで４８時間混合分散して塗Ｈ
を調整し、この塗料を第４図に示すように厚み１２μη
Ｌのポリエステルフィルムからなる高分子成形物基板６
上に乾燥厚みが４μ慴となるように塗布、乾燥、平滑化
して下塗り層７を形成する。
を調整し、この塗料を第４図に示すように厚み１２μη
Ｌのポリエステルフィルムからなる高分子成形物基板６
上に乾燥厚みが４μ慴となるように塗布、乾燥、平滑化
して下塗り層７を形成する。
上記下塗り層７の表面固有抵抗ば１ｄ０ｆｒ、＋であっ
た。次にこのポリエステルフィルムｅを第６図に示すよ
うに真空蒸着装置９内に装填し、冷却キャン１０に巻き
付けながら走行させ下塗り層７の上に、排気装置１１に
より設定したら×１０ ｔｏｒｒの酸素雰囲気中でＣｏ
−Ｎｉ合金からなる蒸着源１２に電子ビーム発生源１３
からビームを当てて１０ｏＯＡ／ＳｅＣの成膜速度で０
．１ｐｍの強磁性金属薄膜層８を形成した。
た。次にこのポリエステルフィルムｅを第６図に示すよ
うに真空蒸着装置９内に装填し、冷却キャン１０に巻き
付けながら走行させ下塗り層７の上に、排気装置１１に
より設定したら×１０ ｔｏｒｒの酸素雰囲気中でＣｏ
−Ｎｉ合金からなる蒸着源１２に電子ビーム発生源１３
からビームを当てて１０ｏＯＡ／ＳｅＣの成膜速度で０
．１ｐｍの強磁性金属薄膜層８を形成した。
〈実施例２〉
前記実施例１の組成の塗料にさらにニッケル微粉末１０
部を解砕分散させ、実施例１と全く同じ手順で下塗り層
を形成した。この下塗り層の表面固有抵抗ｉｄ、１０６
Ω／口であった。次いで実施例１と全く同じ手順で強磁
性金属薄膜層８を形成した。
部を解砕分散させ、実施例１と全く同じ手順で下塗り層
を形成した。この下塗り層の表面固有抵抗ｉｄ、１０６
Ω／口であった。次いで実施例１と全く同じ手順で強磁
性金属薄膜層８を形成した。
〈実施例３〉
前記実施例１の組成の塗料にさらにＣＯ金含有磁性酸化
鉄４００部を分散し、かつレシチンを８部に増量し、実
施例１と全く同じ手順で下塗り層を形成した。この下塗
９層の表面固有抵抗は１０９．２１０であった。次いで
実施例１と全く同じ手順で強磁性金属μｉ膜層８を形成
した。
鉄４００部を分散し、かつレシチンを８部に増量し、実
施例１と全く同じ手順で下塗り層を形成した。この下塗
９層の表面固有抵抗は１０９．２１０であった。次いで
実施例１と全く同じ手順で強磁性金属μｉ膜層８を形成
した。
〈比較例）
前記実施例１のカーボンブラックの半分（５部）をα−
Ａｅ２０３に置き換えた以外は実施例１と全く同様に下
塗り層を形成した。この下塗り層の表面固有抵抗ば１０
１２．Ｑ／’口であった。次いで実施例１と全ｌ〈同じ
手順で強磁性金属薄膜層を形成した。
Ａｅ２０３に置き換えた以外は実施例１と全く同様に下
塗り層を形成した。この下塗り層の表面固有抵抗ば１０
１２．Ｑ／’口であった。次いで実施例１と全ｌ〈同じ
手順で強磁性金属薄膜層を形成した。
以上の各実施例、比較例で得られたものを用いて磁気テ
ープを形成し、市販のコンパクトカセント用テープデツ
キで耐久走行テスト（１００時間）を４行なった結果を
下表に示す。
ープを形成し、市販のコンパクトカセント用テープデツ
キで耐久走行テスト（１００時間）を４行なった結果を
下表に示す。
表より明らかなように、下塗り層の表面担、抗を下げる
ことによって、強磁性金属薄膜層を真空中で形成しても
テープ鳴き、静電気的粘着による走行変動等を防止でき
るものである。即ち、強磁性金属薄膜層をメッキ法で形
成する場合と異なり、真空中で形成する場合には基板の
表面抵抗が高いと巻き出される時のはく離帯電、走行時
の摩擦帯電や電子ビームによる電子の打ち込みにより基
板がチャージアップ、エレクトレット化する。これに対
して本発明のように下塗り層の表面抵抗を］・けること
により、たとえ強磁性金属薄膜層の形成時にチャージア
ップ、エレクトレット化しても、後の熱処理等により電
荷が減衰し、テープ鳴き。
ことによって、強磁性金属薄膜層を真空中で形成しても
テープ鳴き、静電気的粘着による走行変動等を防止でき
るものである。即ち、強磁性金属薄膜層をメッキ法で形
成する場合と異なり、真空中で形成する場合には基板の
表面抵抗が高いと巻き出される時のはく離帯電、走行時
の摩擦帯電や電子ビームによる電子の打ち込みにより基
板がチャージアップ、エレクトレット化する。これに対
して本発明のように下塗り層の表面抵抗を］・けること
により、たとえ強磁性金属薄膜層の形成時にチャージア
ップ、エレクトレット化しても、後の熱処理等により電
荷が減衰し、テープ鳴き。
静電気的粘着による走行変動を防止できるものである。
以上の事は強磁性金属薄膜形成後の脱分極電流測定結果
を示す第６図からも明白である。即ち、第２図のように
ポリエステルフィルムの上に直接強磁性金属薄膜層４を
形成した場合（曲線ａ）や比較例（曲線ｂ）に比べて、
第４図の実施例１（曲線Ｃ）の蓄積電荷量（脱分極電流
に比例する。）は少なく静電気障害が起り鼎い。
を示す第６図からも明白である。即ち、第２図のように
ポリエステルフィルムの上に直接強磁性金属薄膜層４を
形成した場合（曲線ａ）や比較例（曲線ｂ）に比べて、
第４図の実施例１（曲線Ｃ）の蓄積電荷量（脱分極電流
に比例する。）は少なく静電気障害が起り鼎い。
なお、強磁性金属薄膜層の上に保護層、滑性層を設けた
り、下に非磁性金属の下地層を形成しても同様の効果が
得られる。
り、下に非磁性金属の下地層を形成しても同様の効果が
得られる。
寸だ、実施例３のように下塗り層を磁性層とすることに
より低周波数特性も改善されるものである。
より低周波数特性も改善されるものである。
発明の効果
本発明は強磁性金属薄膜層の下に表面固有抵抗が１ｏ”
２．Ａ、を未満の導電塗膜層を設けることにより、テ
ープ鳴き、静電気的粘着による走行変動等の生じない走
行性に優れた金属薄膜型の磁気記録媒体を実現できるも
のである・
２．Ａ、を未満の導電塗膜層を設けることにより、テ
ープ鳴き、静電気的粘着による走行変動等の生じない走
行性に優れた金属薄膜型の磁気記録媒体を実現できるも
のである・
第１図、第２図は従来の磁気記録媒体の断面図、第３図
は塗膜層と強磁性金属薄膜層の２層構造を有する磁気記
録媒体の断面図、第４図は本発明の一実施例の断面図、
第６図は真空蒸着装置の概、略構成図、第６図は脱分極
電流特性図である。 ６・・・・・・高分子成形物基板、７・・・・・・下塗
り層、８・・・・・・強磁性金属薄膜層。
は塗膜層と強磁性金属薄膜層の２層構造を有する磁気記
録媒体の断面図、第４図は本発明の一実施例の断面図、
第６図は真空蒸着装置の概、略構成図、第６図は脱分極
電流特性図である。 ６・・・・・・高分子成形物基板、７・・・・・・下塗
り層、８・・・・・・強磁性金属薄膜層。
Claims (2)
- （１）高分子成形物基板上に表面固有抵抗が１０００％
未満の導電塗膜層を設け、その導電塗膜層上に真空中で
強磁性金属薄膜層を形成したことを特徴とする磁気記録
媒体。 - （２）導電塗膜層に磁性粉末を含むことを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58108714A JPS60621A (ja) | 1983-06-16 | 1983-06-16 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58108714A JPS60621A (ja) | 1983-06-16 | 1983-06-16 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60621A true JPS60621A (ja) | 1985-01-05 |
Family
ID=14491724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58108714A Pending JPS60621A (ja) | 1983-06-16 | 1983-06-16 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60621A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5076084A (en) * | 1989-03-27 | 1991-12-31 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method of manufacturing long tubes having small diameters |
| US5253678A (en) * | 1989-03-27 | 1993-10-19 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Long tube having a small diameter |
-
1983
- 1983-06-16 JP JP58108714A patent/JPS60621A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5076084A (en) * | 1989-03-27 | 1991-12-31 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method of manufacturing long tubes having small diameters |
| US5253678A (en) * | 1989-03-27 | 1993-10-19 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Long tube having a small diameter |
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