JPS6058949A - アミノベンジルアミンの製造方法 - Google Patents

アミノベンジルアミンの製造方法

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JPS6058949A
JPS6058949A JP58166784A JP16678483A JPS6058949A JP S6058949 A JPS6058949 A JP S6058949A JP 58166784 A JP58166784 A JP 58166784A JP 16678483 A JP16678483 A JP 16678483A JP S6058949 A JPS6058949 A JP S6058949A
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、アミノベンジルアミンの新規な製造方法に関
するものであり、特に、工業的に実施1−ろうえで極め
て有利な方法を提供するものである。
(式中、二1・四基はIl+−位またはp−位である)
することを特徴とするアミノベンジルアミンの製造方法
に関する。
アミノベンジルアミンはエポキシ樹脂硬化剤、ポリアミ
ド、ポリイミドの原料および農医薬中間体の原料となる
重要な物質である。
アミノベンジルアミンは、従来、ニトロベンズアルデヒ
ドまたはニトロベンゾニI・リルを出発原イ1として製
造する方法が知られている。例えは、前者を出発原料と
する方法として、次のような方法がある。
(イ)ニトロベンズアルデヒドから二トロベンジルブロ
マイドを誘導し、次にフタルイミドカリと反応サセ、 
N −(m−二1〜口ベンジル)−フタルイミドを得一
ついで2段II+!7の遭うi′一方法により111−
アミノベンジルアミンを約20%の収率で得ている(N
1ぐ(月111) l 1曲 ら、、J、Am、CI+
c!川、Soc、、71 2137 (1949))。
(ロ)m−二トロベンズアルデヒ1′?フェニルヒドラ
ジンと反応させてヒドラゾン化合物を得、これを接触還
元してl11−アミノベンジルアミンを609″0の収
率で得ている(八Si+Idiquiら+ 5yntl
+ Conunn7.71〜78(1977))。
(ハ)Ill−二トロベンズ゛アルテヒM 、j: ’
J m −= 1゛r+ ベンズアルi・へ′シムを、
?j)、こJt、4′ラオ・イニッケル触媒を用い、高
圧接触還元してl1l−アミノベンジルアミンを52%
の収率でイ4tていイ) (tf、 Jt、 GriN
ilhら、NRL Report 6439 )。
一方、後者を出発原石とする方法として、次のような方
法がある。
に)l+−、= 1− n ヘy り−、lリルカr)
n% 5’7 fi J+、 6 p −アミノベンツ
゛ニトリルな水素化リチウムアルミニウムにより還元し
−CI)−アミノベンジルアミンを67%の収率でイ;
tで見・ろ(N、 C,13roWnら、 J、 Wc
dici −nal Chem、、 20 1189(
1977))@(ホ)Ill−二トロベンノ゛二l−I
Jアル 54 イニッケル触媒を用い、高圧接触還元し
てm −’j−iノベンジルアミンを49%の収率で得
ている( J、 1′1. (;l’ i f l’ 
i lhら、NRL Iteporl 6439 )。
このように、公知の方法によるアミノベンジルアミンの
製造では、(イ)、(ロ)のようにフタルイミドカリお
よびフェニルヒドラジンのような、比較的高価な化合物
を当計以」−用いて中間体へ・製1貴し、これを還元し
て1」約物を得ているが、これらの方法は反応工程が長
かったり、副生物の回収等に経:kjcと労力を要する
ため、経済的でなし・。
に)の方法も還元剤が高価なうえ、取扱いがψf h・
(2いという欠点がある。
(ハ)、(羽のように、う不イニッケル触媒を用い、オ
ートクレーブ中で高圧接融離)0才る方法(il、装置
が高価なうえ、容積効率が低いr1てイ・利/l゛こと
(1明白である。
一般に、ベンゾニトリルIYた(」、ベノズアルドキ/
l、を通常の還元方法でベンジル−]′ミンを製造才ろ
方法は、第2級アミンやアンモニアを副生するので、ベ
ンジルアミンの収率は低い。
例えば、ベンジエI・リルをエタノール中、Ni触媒下
で接1’l’Ji還元すると、ベンジルアミン収率は4
0〜50%、ジベンジルアミン収率20%である(日本
化学金網「実験化学n14’座−117巻佳1、丸首、
口13頁(1956))。
またベンズアルドキシムを水−アルコ−/l/ 中、p
dコロイド触媒1で接触還元−う−るとベンジルアミン
収率47%、ジベンジルアミン収率41%である(Wl
Gulcwitscb、 13cr、、 57.164
5 (1924) )。
これは、ベンゾニトリルお、l、び−\ノズアルドギシ
ムの還元時妊、℃・ずれの場合もべ/ザルイミノが初1
tllに生成し、ベンザルイミンの加水分解反応に伴う
ペンズアルテヒドの副生やベンザルイミンとペンズアル
テヒトとの縮合等、il、iL元反応系における中間体
の(Φ々の反応により、副生物が生じるためにベンザル
イミンの収率が低いことに起因する。
そこで、このよう/よ副生物の生成を抑制し、ヘンシル
アミンの収率な向」−〕させる目的で、還元時に無水酢
酸や乾燥塩化水素苓・用いる方法が提案されていム− 例えば、無水酢酸を用いる方法で1.j、ヘンゾニトリ
ルに対し、無水酢端265倍モルでil元を行ブgっだ
場合、69%の収率でベンジルアミンがイ(1られ、同
様に127倍モルで行lfえば91%相当のヘンシルア
ミンが得られている( W、 If、 C旧()Ill
crsら、J・Al11.Chem、SOC,,473
051〜3057(1925)。
1”、Iら、Goul (l ら、J、Or g、Ch
cm、、2 5 1 6 5 8〜1 6/AJJ(1
960))。
また、ベンズアルドキシム・と無水酢酸よリペンスアル
ドキンムアセテ−1・をfi’hl(シたのし)、これ
4″還元シて91%の収率でベンザルイミンがイ号られ
′Cいる( K、、 W、 H,oscnouI+1(
lら、 l1cr、、 562258−2262(19
2ろ))。
コレラべ/ノ゛二1゛リルやペンズアルドキ/l・を無
水酢酸溶媒中で51を元1−る方法(ま、いずれもN−
アセチルベンンルアミンとしてrll、1〜11シ、こ
れイi・加水分解してベンジルアミンを製造するもの°
(ある。
一方、塩化水素を用いる方法では、乾燥塩化水素ガスの
使用量がベンゾニトリルの場合−C1当甲以1、ベンズ
アルドキシムの場合で3当i1+以1.: Jllいる
と、いずれもベンジルアミンが高収率で得ろれている(
 W、 IJ、 1larl+u+g、、T、、T、 
Aw、 Chcm、 Soc、、 503370〜33
711928))。
このようにベンゾニトリルf1:たはベンズ−rルドキ
ンムを還元してヘンシルアミンを製造する際、無水酢酸
または乾ヅ・〜さ塩化水素を用いる方法は収率向上のた
めに有効であるが、無水酢酸および乾燥塩化水素が、前
述のような還元途中における中間体を安定化させる作用
と、ペンズアルドキ/ムでは生成する水を捕捉して分解
反応を抑制する効果を持つものと考えられるが、この無
水酢酸または乾燥塩化水素を用いる方法は、比較的高価
な無水酢酸を多量に用い/、I−ければ1.c l’)
 フ、I:いため経済的でなく、また、乾燥塩化水素を
使用1−る場合は、溶媒を無水の状態で使用することが
必要であり、また、水素の吸収が遅くなるため、希薄溶
液で行なう必要があり、かつ、触媒の力比が硬めて著し
いという重大な欠点がある。
さらに装置の拐質1・の間hIQもある。
この方法でニトロベンズアルデヒドを還元する陽陰、上
言己の問題点に加え、二1・四基を有するために、より
一層の複雑な反応が予想される。
′1″なわち、二1・四基の還元によって生成すく)ア
ミン基との反応、また、副生′1−ろ水に伴なう加水分
ノ竹、この加水分解で生じるアミノベ/ズーrルテヒド
の副反応等が考えられ、これら副反応を抑制御−ろため
Kは、さらに無水酢酸または乾燥塩化水素仝・多光に用
いる必要がある。
したがって、このような技術的な背景および公知の方法
でアミノベンジルアミンリ′二[業的に製造1−ること
は極めて困lI!11であるといわねばならない。
本発明者ら(′A1、[−記のような欠点のない−rミ
ノベンジルアミンの製造方法に一ついて鋭意検7+;1
シ、た。
その結果、二トロベ/ズアルテヒトから容易に製コ告て
きろ二I・ロベンズアルドキ/)、を原f’lとし、こ
れを比較的安価な硼酸、・IF酸および/庄たはこれら
の無水物の存在下、還元触媒を用いて接触i1¥元1−
Aシば高収率でアミノベンジルアミンを製凸しうること
を見出し、本発明の方法を完成した。
すなわち、本発明の方法は一般式(1)(式中、ニトロ
リr+r &、l、■−位またはp−位である)で表ワ
サれるニトロベンズj′ルドキンムを硼酸、燐酸および
/またはこれらの無水物の存在下で接触還元′1−るこ
とを特徴とする′ノ′ミノベンジルアミンの製造方法で
ある。
本発明の方法で目1、有機溶剤中、硼酸、燐IJjおよ
び/またG」、これらの無水物を2当昂以上の存在下V
C還元を行なう。したか−〕で、途中生成物(:1−ア
ミノベンジルアミ/の鉱酸塩として安定な形で存在する
すなわち、碓元時に生成するアミン、イミン類等の各種
中間体令・硼酸塩、)メi酸塩として安定化させ、かつ
、硼酸塩や燐159塩のアミノ基やイミノ基の塩基性が
低−1;することにJ、って、分解や副反応が抑制され
、その結果、二1・口alのアミノ基への還元とアルド
ギシム基のアミノメチル基への還元力1−刀やゼ+、I
F ’Mニオ斤1 ロ1白q勿−〇ル、ろ了ミノベンジ
ルアミンが選択的に製造できる。
さらに、無水物である三酸化二硼素(無水硼酸)および
五酸化リン(無水燐II )の場合し、11、二トロベ
ンズアルテヒドの還元反応で生成する6分子の水をイ1
fて、それぞれ2分子の硼を必および燐l没となるため
K、加水分19イ反応等の副反応が全く起らないことも
特徴として挙げられる。
また、本発明の方法においては、触媒の活性が低下しな
いという大きな利点がある。このため、回収後、繰り返
し使用が可能であり、経済的にも(1ヂめで有利である
そして反応終了後、アミノベンジルアミノG」−硼酸塩
、燐酸塩として分離精製するか、ある(・はfn1弔な
中和処理で蒸留精製するかにより、容易K ’I’隙で
とるため、工業的に極めて有利である4、本発明の方法
で使用する原料は、l11−二1・■」ベンズアルドキ
シ18ヨたば1)−二1・IJベンズノ′ルi゛キンム
であり、こhらは対応するニトロベンズアルデヒドを工
業的洗安価なヒドロギ/アミンと反応させることにより
容易に製+11[できる3゜次に本発明の方法で使用す
る鉱酸としては硼酸、燐酸、無水硼酸または無水燐酸(
以下鉱酸と呼ぶ)であり、好ましくは、触媒の劣化が最
も少ない硼?亥および無水硼酸である。これら鉱酸の使
用量は原料のニトロベンズアルドキシムに対して2当量
以上あれば十分であり、好ましくは2〜3当量の範囲で
実施するのが適当である。鉱酸は原料とともに溶剤に溶
解もしくは懸1服させた状態で使用される。この場合、
単独で用いても二種類以上併用しても何らさしつかえな
い。この溶剤としては、メタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコール、1]−ブチルアルコール、SeC
−フチ#アルコール、メチルセロソルフ、エチルセロソ
ルブ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジ
グライム、テトラグライム、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等のアルコール類、グリコール類、エーテル類が
好んで用いられ、場合によっては、ヘキサン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル
、ンクロロメタン、クロロホルム、1,1.2−トリク
ロロエタン等の脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素炉、
エステル類、ハロゲン化炭化水素類も使用することがで
きる。
これら溶剤は単独で用いても、2種類以」−混合して用
いても良く、また、含水溶剤も使用することができる。
溶剤の使用量は、特に限定されなし・が、通常、原料に
対して1〜15重−…倍で十分である。
本発明の方法において、接触還元は、還元触媒として、
一般に使用されている還元触媒、例えば、ニッケル、パ
ラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、コバルト、銅
等が使用できる。
工業的にはパラジウム触媒を使用−4−ろのが好まし℃
10 これらの触媒は、金属の状態でも使用することができる
が、〕[n常(1ニカーボン、硫酸バリウム、シリカゲ
ル、アルミナ等の担体表面に旧著させて用いたり、また
、ニッケル、コバルト、銅等はライ・−触媒としても用
いられる。触媒の使用量は、原イ1のニトロベンズアル
ドキシムに対して金属として0.01〜60重量%の範
囲であり、通常、ライ・−触媒として用いる場合は2〜
20重」−%、Jl−1体にイー1着させた場合で(1
,0,05〜5重量%の範囲である。
反応温度は、4?に限定はなく、一般的には0〜150
℃の範囲、特に、10〜80’Cが好ましい。
また、反応圧力は通常、常圧〜10Kq/c11−Gで
よい。
本発明の方法の一般的な実施態様としては、原料および
鉱酸をd剤に溶j質もし2くは懸濁さぜた状態下に触媒
を加え、所定のrll。2層1度で水素を導入して吸収
が停止するまで行なう。反応終了後、溶解状態如ある場
合(」1、濾過して触媒を除き、苛性ソーダ−、苛性カ
リ、アンモニ゛ノ′、トリエチルアミン等で中和したの
ち、蒸留して[1的物を得ることができる。
析出状態にある場合rrj:、i;柿11.l l、、
て鉱酸塩を単離精製したのち、中和[2て目的物4・1
することができる。
以−「、本発明を実施例により、すyに詳細に説、明す
る。
実施例1 メタノール1350me K 1.+−二トロベンズア
ルデヒド453 f (3モ/L/ )fi HWf?
 a 計7、7に’ Iff FrF XE度を30℃
に保ちながら、塩酸ヒトロギシアミン241グ(ろろモ
ル)と水300 meの水溶液を3層分かけて滴下した
。ひきつづき、同温度で2 R1itl仕Iノ′1した
のち、水2000 meで希釈する。析出した白色結晶
を濾過、水洗して乾燥したところ48o7の1)−二ト
ロペンズアルドキシトを得た( 収率96.5つぉ)。
融点128〜161°c0この1〕−二トロベンズアル
トキンム33.2 f (0,2モル)と無水硼酸18
.3f(0,25モル)、5%Pcl −C触媒1グお
よび、I#/−ル100m1をガラス製密閉容器に装入
し、iii′i、L < 1’3拌しながら水素を導入
した。反応温度を25〜ろ0℃に保ちながら165時間
っづげたところ222tの水素を吸収した。次に、この
反応液?計過して触媒を除いたのら、減圧濃縮してメタ
ノールを留去さぜたところ黄色粘調な液体がイqられた
。これに65%+’:i fl ノー p−−水溶液5
7 f (0,5−+= ル)f+、□、加え、中f1
1−するとm液は2層に分離した。下層の無色透明な硼
酸すトリウム水溶液を抜き取ると出色油状の4’ll 
+)−アミノベン・ジルアミンが48られプこ。
この褐色油状の粗1)−アミノベンジルアミ7 k 弓
〜6 mmtlgの圧力で真空蒸留して留出温度129
5°C〜1ろ0℃の留分2257を得た(収率921%
)。ガスクロマトグラフィーによる純度は9996%で
あった0 元素分析 (C71−110N2 ) C11N 言」 39 イ直C3a 68.8 8.25 22.
9測定値α) 6B、9 8,4 22.7実施例2 50℃の温水5 t K 、 m −ニトロベンズアル
デヒド45ろfi’(3モル)を加え、次に、(司拌し
ながL)50%ヒドロキシアミン水溶?Il ([−1
a化工社品)2187(36モル)を滴トーシた。同〃
、1冒」jでろ時間(〃、拌l〜たのち、室温まで冷却
してθコ過シ1、水洗、乾燥によす111−ニトロベン
ズアルドキシム4887を得た(収率98%)。 融点
118〜12ピに のlT’l−二トロベンズアルドキシム33.2 f(
0,2モル)と50%燐酸水溶液70 ’i (Oろ5
モル)、10%PL−〇触媒037およびイノブタンー
ル30(1ml、をガラス製密閉容器に装入し、激しく
攪拌しながら水素を導入した。反応温度を25〜30℃
に保ちながら18時間つづけたところ2.1の水素を吸
収した。
反応液は結晶が析出している状態であり、これを濾過し
て粗l11−アミノベンジルアミン燐酸塩5487を得
た(収率861%)。
この粗…−アミノベンジルアミン燐酸塩を50%メタノ
ール水溶液で再結晶精製することにより白色燐片状晶の
純粋なl1l−アミノベンジルアミン燐1唆塩が得られ
た。 融点210〜213’C元素分析 (Cl41−
1211 N4 I)3012として)C1,I N 
i’ 割算値(% ろ1.9 5,6 10,6 17.6測
定値開 31,79 5.86 10.6 17.76
次に、l11−アミノベンジルアミン燐酸塩を塩化メチ
レンに懸濁さぜ、アンモニアガスを吹き込むことにより
遊離化させた。
4)丁出しtll燐酸アンモニウム濾過して除き、溶液
を濃縮し一夜放置することにより111−アミノベンジ
ルアミンが結晶で得られた。 融点69〜46°C元素
分析 (C7H夏0N2) CI−I N 計算値開 68.8 8.25 22.9測定値開 6
8.5 8,2 22.6実施例6 実施例2で得られたn]−ニトロベンズアルドキシム3
3.2 f (0,2モル)、ライ・イニノヶル触媒3
7、硼酸30.9 F (0,5モル)およびジオキサ
ン150m1をオートクレーブに装入し、激しく攪拌さ
せながら、温度30°C1水素圧10 Kg/cni 
・Gに保って5時間反応させた。反応終了後、濾過して
触媒を除き、減圧濃縮したあと実施例1と同様の後処理
を行ない純度9996%のII1−アミノベンジルアミ
ン2117を得た(収率86ろ%;沸沸点16御〜13
2実施例4 実Mh 例2で得たm−二トロベンズアルドキシムろ3
.:l(0.2モル)、五酸化リン24.2F(0.1
7モル)、5%Pd−C触媒057およびメタノール2
00−をガラス製密閉容器で実施例1と同様の条件で還
元した。反応時間10時間,水素の吸収量ば226tで
あった。次に、この反応液を濾過して触媒を除いたあと
、粉末状の苛性力IJ4!M(0.8モル)を注意深く
加えて燐酸カリウムを析出させた。
析出物を濾過して除いたのち、蒸留して純度994%の
m−アミノベンジルアミン2 1. 7 flを得た(
収率889%;沸点129〜130’(II;15聞叶
It)。
実施例5 実施例2で得た夏1】−ニトロベンズアルドキシムを原
町とし、溶剤にテトラヒドロフラン、触媒に5%1%l
+ − C触媒を用いたほかは実施例1と同様の操作を
行ない純度999%のm−アミノベンジルアミンを収率
892%で得た。
実施例6 実施例2で得られたm−二トロベンズアルドキシム16
6ft’(0.1モル)、5%Pd−C触媒03グ、五
酸化リン1 4.2 F ( []、11モルおよびト
ルエン1 5 0 ml.をオートクレーブに装入し、
檄しく攪拌しながら温度40〜50℃、水素圧6〜5 
Kg/cn¥・Gに保って7時間反応させた。反応終了
後、冷却して濾過し、析出した粗n】−アミノベンジル
アミン燐酸塩の結晶と触媒の混合物296りを得た。こ
の粗ロ]−アミノベンジルアミン燐酸塩は実施例2にお
ける遊離化方法と同様に処理して10.2ii’、の黄
色油状物を得た(収率866%)。
ガスクロマトグラフィーによる純度は989%であった
実施例7 p−ニトロペンズアルドキンムを実施例1の方法で通算
4回再使用した5%L)d−C触媒を用いて、同様の方
法で還元したところ、反応時間に19時間要した。
p−アミノベンジルアミンの収率は922%であった。
実施例8 1月−二トロベノズアルドキシムを実MIi 例4の方
法で通算2回再使用した5%I)d−C触媒を用いて、
同様の方法で還元したところ、反応時間に145時時間
要した。
m−アミノベンジルアミンの収率は877%であった。
特許出願人 三井東圧化学株式会社 手 続 補 正 書(自発) 昭和58年10月4日 特許庁長官 若杉相夫殿 2、発明の名称 アミノベンジルアミンの製造方法 3、補正をする者 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 、−−1へ ) 1)明細書、第9頁、下第11行目に「これらの無水物
を2当量以上の存在」とあるのを「これら無水物の存在
」と訂正する。
2)同じく、第11頁、第5〜6行目に「対して2当量
以」=あれば十分であり、好ましくは2〜6当量の」と
あるのを「対して02当量以上用い、好ましくは1〜6
当量の」と訂正する。
3)同じく、第20頁、第2行目の下に次の実施例を追
加する。
「実施例9 実施例2で得られたIn−二トロベンズアルドキンム1
6.6f(01モル)、5%Pd−C触媒0.37、硼
酸6.2F(0,1モル)およびエタノール507n1
.をガラス製密閉容器に装入し、激しく攪拌しながら水
素を導) 入した。反応温度を20〜25°Cに保ちな
がら8時間反応させた。反応終了後、濾過して触媒を除
き、実施例1と同様の後処理乞行ない純度999%のl
11−アミノベンジルアミンioy’>得た(収率82
9’o )。
実施例10 硼酸の使用量を半分にした以外は、実施例9と同様の条
件で行ないl11−アミノベンジルアミンを収率682
%で得た。」 以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)一般式(11 (式中、二1・四基は1]1−位またはp−位である)
    で表わされる二トロベンズアルドキシムヲ硼酸、燐酸お
    よび/またはこれらの無水物の存在下に接触還元するこ
    とを特徴とするアミノベンジルアミンの製造方法。
JP58166784A 1983-09-12 1983-09-12 アミノベンジルアミンの製造方法 Granted JPS6058949A (ja)

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