JPS6052818A - 光スイツチ装置及び点軌跡合成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特にコーｒ化情報を伝送する光ビームの高速
スイッチング装置に係る。本発明は特に光フアイバ間の
光交換に適用される。

光交換の問題に関しては既にいくつかの解決方法が提案
されているが、多重ビーム及び小屋化装置に適用する場
合、特にこれらの装置が電気機械的パルスにより制御さ
れるミラーの運動に基づいている場合、大きな問題があ
る。

従来技術装置の一例として、単一の多モード光ファイバ
で画像通信型の複数の異なるサービスを加入者に提供す
べく波長多重化を使用する構造が挙げられる。この構造
は、多重化機能を有するミラーによる光ビームの空間屈
折原理に基づいている。この構造は、波長の異なる複数
の光ビームと、損失の原因となりかつかなりの寸法（１
平方センチメータより小さいことは殆んどであり得ない
）を有する半反射板から構成されるミラーとを使用しな
ければならない。

別の型の装置では、電気光結晶内の光の全反射により光
ビームを屈折させている。このような装置は、”　Ｌｉ
ｎｅａｒ　ｔｏｔａｌ　１ｎｔｅｒｎａｌ　ｒｅｆｌｅ
ｃｔｉｏｎｓｐａｔｉａｌ　ｌｉｇｈｔ　ｍｏｄｕｌａ
ｔｏｒ　ｆｏｒ　ｌａａｅｒｐｒｉｎｔｉｎｇ″Ｓｐｒ
ａｇｕｅ　、Ｔｕｒｎｅｒ　ａｎｄ　Ｆｌｏｒａｓ。

５ＰＩＥ　ｒｅｖｉｅｗ　、　ｖｏｌ、　２９９　：　
Ａｄｖａｎｃｅｓ　１ｎＬａｓｅｒ　Ｓｃａｎｎｉｎｇ
　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　（１９８１）　、　ｐ。

６８−７５　中に開示されている。この装置の欠点は、
結晶自体が一般にニオブ酸リチウムから構成されるとい
う点にある。純度の点から見て結晶は小さい寸法しか使
用できず、従って結晶に担持されており結晶に制御電界
を印加すべく機能する電極は、非常に小さいピッチとな
る。従って、装置は外延的な光システムを備える必要が
ある。更に、結晶は電界に対して僅かにしか反応しない
ので、高い制御電圧が必要になる。

これらの欠点を解決するために、本発明は、装置内を伝
播される光ビームの屈折状態を局部的に変更すべく、移
動機械的素子を介さずに電気的棹制御される非常に少量
の流体の運動を使用することを提案する。屈折の変更に
より、光ビーム行路を移動させることが可能になり、従
って異なる伝播チャネル間、特に光７１４７８間の交換
が可能になる。本発明のスイッチ装置は、制御電極に電
圧ステップを印加して局部電界変化を起こし、それによ
る電気起源の推進力の作用下で非常に小体積または小球
状の流体を一方の領域から他方の領域に流動せしめるべ
く、流体の移動を制御するための電気制御手段から構成
される。

従って本発明の目的は、ビームを反射させるための第１
の流体またはビームを透過させるための第２の流体のい
ずれかを元ビームの行路に配置すべく構成された電気制
御式スイッチ手段により、少なくとも１個の入射光ビー
ムを光交換するための装置を提供することである。流体
は透明素子により規定される閉込めスペース内に収容さ
れており、非混和性であり、異なる誘電許容率を有して
いる。一方の流体は、他方の流体の侵入型構造に封入さ
れた球状構造を有する。装置は更に、電界印加閉込めス
は−スの領域に高許容率の流体を集束せしめるべく電界
勾配を誘導するための手段を備えている。

本発明は更に、上記光スイツチ装置と投射面に像を形成
するための光手段とを備えて成る、点軌跡合成装置に係
る。

本発明の他の特徴は以下の記載及び添付図面からより明
らかになろう。

本発明の好適具体例によると、制御電極は、該当射の電
極間の電位差により形成される電界の影響量を規定する
キャノぞシタを構成すべく各封缶に相互に対向するよう
に配置されている。表面張力と毛管力とを好適に利用す
るために、本発明の好適な構成例は、好ましくは１μｍ
〜１ｍｍのオーダの小さい距離を相互間に隔てて配置さ
れた制御電極対を使用している。電極対の動作により移
動する流体本積は、好ましくは制御電極を担持する閉込
め表面間で圧縮により平坦化される「滴（ｄｒｏｐｓ刀
に相当する分離球状に分割され得る。本発明に従う動作
は閉込め表面を非湿潤性、コーティングで被覆し得るこ
とを使用しており、それによって制御すべき位置を有す
る流体が薄膜状に過剰に伸延するのを阻止している。流
体が分離球状に分割されるので、本発明は単に電気的手
段を介して各球体をある安定位置から別の安定位置に移
動させている。これらの位置の安定性は、一方では本発
明に従って構成される装置の形状及び寸法に基づく毛管
力及び慣性力により、他方では電極対に適当な電位を印
加することにより確保される。

１個才たは複数の球状流体をある位置から別の位置へ移
動させる点、及び移動の形成と制御とを物理的力により
確保する点は、１９８３年３月２３日付で出願された仏
国特許出願第８３０４７４５号中に開示されている。第
１図乃至第３図は前記特許出願の物理的説明に関する。

第１図に示す最も基本的な構成において、流体移動用電
気制御装置は、２個の非混和性誘電流体を同時に配置し
て成る高さｅの毛管スペースを備えている。毛管スは−
スは、例えばガラス製の２個の剛性閉込めプレート１及
び２により規定される。高さｅの値は、毛管力が重力よ
り大となるように１ミリメータ以下に選択される。プレ
ート１及び２の内面は、適当な清浄工程と表面デポジッ
ト３及び４の形成工程とから成る予処理を施されており
、前記デポジットにより、移動を電気制御すべき流体が
毛管層を形成するのを阻止する必要がある。非限定的な
一例としてデポジット３及び４間の毛管スに一スは、誘
電許容率ε１の気体流体または蒸気ｆ１を充填されてい
る。毛管スは−ス容積部分には液体ｆ２が導入される。

第２の液体ｆ２はｇｌより大きい誘電許容率ε２を有し
ており、例えば横座標Ａ及びＢの間に伸延する球状であ
る。従って、電気的手段により球体ｆ２を軸Ｘの正方向
に移動させるために、プレート１及び２の内面は、特に
デポジット３及び４を被覆された１対の電極５及び６を
備えている。移動後の横座標ＣＤ間の領域に配置される
電極５及び６は、電位ｖ２及びｖｌを発生する発電機７
に連結されている。この電位差により、推進力Ｆに等し
い体積力が界面８に形成される。

推進力Ｆは、材料媒質中に自由または結合性の正負電荷
が存在するためであると物理的に説明される。誘導電界
Ｅ、の存在下では、自由電荷は、電界を印加されるべき
材料体積中を移動することが可能であり、従って誘電現
象が生じる。使用される流体の導電率は低レイルでよい
が、この現象は本発明の範囲では使用されない。他方、
原子及び分子に結合した電荷は電気双極モーメントを生
じる。材料媒質は、誘導後の双極モーメントと分子の特
定の対称性により予め存在している双極モーメントとの
電界印加体積における和である電気この誘電作用は、イ
クトル関係式： （人中、Ｅ′　は分極Ｐにより生成される電界、及びＥ
は材料媒質中に生じる電界である）で表わされる。

材料媒質の誘電作用は、テンソル関係式：％式％ （式中、Ｘｕｖ　は電磁化率テンソル）で与えられる。

等方性誘電媒質の場合はより単純な関係式：（式中、ε
０はスイースの許容率、及びεは誘電許容率である）で
与えられる。この場合、電界ＥＯを印加される体積Ｖの
媒質に加えられる力Ｆは、下式： ％式％ これは体積力であり、分極が大、及び電界勾配が大にな
るにつれて増加する。

非均−な電界を印加された異種媒質にこの関係式を適用
すると、復元力、例えば表面張力よりも大きい体積起源
の移動力が生成され得る。

第１図の装置において流体ｆ１及びｆ２は、流体ｆ２中
の合成電気分極が流体ｆ１の合成電気分極よりも大とな
るように選択される。従って、流体ｆ２について関係式
（１）により計算される力Ｆ２のモジュールは、流体ｆ
１について同じ関係式により計算される力Ｆ１のモジュ
ールよりも大となる。従って、２個の流体の境界面８に
生じる過圧は、流体ｆ２に対応する側の過圧Ｐ２の方が
流体ｆ１に対応する側の過圧Ｐ１よりも大である。こう
して推進力Ｆが境界面８に作用する場合と同じような結
果が得られる。運動に抗して作用する力（即ち毛管力、
表面張力、内面張力及び粘着力）を越えると流体ｆ２は
、電極５及び６間の容積部分を充填すべく流体ｆ１を移
動させる。電極５及び６により形成されるキャパシタの
電気キャパシタンスは増加し、他方キャノぞシタプレー
ト間の電位差は一定に維持されているので、この動作は
、電位差ｖ２−ｖ１で電力量ｑを発生する発電機７によ
る電力供給に対応する。球体ｆ２を電極間スは−スに静
電的に吸引する動作をより明確に説明するために、第１
図は、電界線を示す破線、電界ベクトルＥ１及びＢ２、
並びに流体ｆ２の分極により形成される正及び負（＋及
び−）の結合電荷を示している。

第２図は最終状態を示している。球体ｆ２の位置は、電
極に一致する領域ＣＤについて対称に伸延する横座標Ａ
１及びＢ１により規定される領域に移行している。領域
）Ｉ　Ｂ１に移動した球体は、電位差ｖ２−　Ｖｌが維
持される結果として捕獲状態を保ち得る。

球体を電極間ゾーン内で捕獲状態に維持するために、電
位差を抑制して復元力を維持することが望ましい。実際
にデポジット３及び４の厚さは、分子間力が電極５及び
６の材料と流体ｆ２との間に作用して流体ｆ２を第２図
の位置に固定し得るように、十分率さい寸法に選択され
る。発電機７は、球体ｆ２を移動後の捕獲ゾーンから離
脱させ得ない。

球体の移動可逆性は、特殊な電極構成により得られよう
。

第３図は、球体移動の電気制御用装置の等烏口である。

第１図及び第２図と同一の素子については同一の参照符
号を使用して６）る。プレートｌ及び２はスは−サ部材
９により分離されており、電極対５及び６に続いて軸Ｘ
の方向に第２の電極対１０及び１１が配置されている。

発電機７は、電極１０及び１１に電位ｖ３及びｖ４を供
給する。

第３図中、１１面の領域内で移動可能な球状流体ｆ２の
円形輪郭は破線で示される。例えば電極５゜６．１０及
び１１は、−辺の長さが１００ミクロン〜１０ミリメー
タの正方形である。スイーサ部材９の高さは５〜１０ミ
クロン、　電極５及び電極１１間のスペースの幅は２０
ミクロンである。

球体ｆ２を包囲する流体ｆ１は空気であり、流体ｆ２は
炭化水素、例えば炭素原子数５〜２５個のアルカン、ケ
トン（アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン）またはニトロ誘導体にトロはンゼン、ニトロトルエ
ン）から選択される。ｆ２型の流体を形成するために混
合液体を使用すると、表面張力の調節、移動時の球体の
転位阻止、及び電気制御動作に対する装置の応答時間の
最適化が可能になる。

発電機７は、メータ当たり５Ｘ１０’〜６Ｘ１０’ボル
トのオーダの移動電界を生成すべく、ｉｏ。

〜３００ボルトのオーダの電位差ｖ２−　Ｖｌ及びｖ４
−　ｖｓを発生することが可能である。プレート１及び
２間に圧縮されている球状流体ｆ２の体積は、電極５及
び６の輪郭からやや延出するような直径に選択されるが
、電極対１０及び１１に侵入するように増加させてもよ
い。

球体ｆ２を電極間スぽ−ス５，６から電極間スは−ス１
０，１１に転位させるためには、電位差ｖ２−　ｖｌを
ゼロまたは減少させ、電位差Ｖ４−ｖ３を形成する。従
って軸Ｘの正方向に前方向移動ステップが形成される。

球体を初期位置に戻すためには、電位差Ｖ４−ｖ５をゼ
ロまたは減少させ、電位差ｖ２−ｖ１を復元する必要が
ある。ふたつの電位差が同時に印加されると球体は移動
し得ないが、球体が１組の電極から延出しているなら電
極５及び１１の面積の和にできるだけ一致すべく変形を
受ける。

第４図は本発明に従う光スイツチ装置の概略断面図であ
る。第４図はａ及びｂの２部分から構成されており、装
置の入射光ビームの行路における球体の有無に従う前記
行路の変化を示している〇第４図中、装置は横断面で示
される。光スイツチ装置は第３図の球体移動装置を備え
ており、同一の素子は同一の参照符号を付しである。電
極５゜６．１０及び１１は透明材料層、例えば錫とイン
ジウムとの混合酸化物層から構成されており、第３図の
原理に従い電圧発生器に連結されている。

球体移動用装置は、移動させるべき流体による毛管層の
形成を阻止する表面デポジット（図示せず）を更に備え
ている。移動させるべき球体１５は、前出の炭化水素か
ら選択された液体である。装置の第２の流体は単に空気
から構成される。全反射プリズム２０及び２１は、ガラ
スプレートの外面に接着されている。接着は、プリズム
２０及び２１とプレート１及び２との屈折率が適合する
ように行われる。光ビーム２２は、傾斜入射角度で電極
１０に送られる。ビーム２２の傾斜角度は、プレート２
の内面から全反射が得られるように選択される。ビーム
はプリズム２１を通ってプレート２の内面に達する。こ
の場合、電極１０及び１１間のスは−スの性質に従って
ふたつのケースが生じ得る。

電極１０及び１１により制御される容積が１のオーダの
屈折率を有する気体、例えば空気によって占められ、他
方プレート２のグラスの屈折率が１．５のオーダの時、
光ビーム２２は反射してビーム２３を形成する。この状
態を第４図のａに示す。

電極１０及び１１により制御される容積が、初期に電極
５及び６間に位置する球体１５によって占められる場合
、この領域の屈折率は好ましくは１．４〜１．７のオー
ダの値に変化する。従って、ガラスプレート２の内面か
らの全反射は抑制され、ビーム２２は第４図のｂに示す
ようなビーム２４として透過される。

第４図のａの場合、方向２５の吸光率は入射光２２の強
度の１０　より小であり、反射ビーム２３の強度はビー
ム２２の強度の９０％である。第４図のｂの場合、方向
２６の吸光率は入射ビーム２２の強度の５χ１０　のオ
ーダであり、透過ビーム２４の強度はビーム２２の強度
の９０％である。

反射防止表面処理及び（特にガラスプレートと一般に屈
折率２以上の透明電極との間、及び電極と移動させるべ
き流体との間の）屈折率の適合化により、第４図ａの場
合、方向２５の吸光率が改良され、第４図すの場合、透
過ビームが増化され得る。透明電極の厚さの適合化によ
り、こうした結果が得られる。２種類の図示例のいずれ
においてもプリズム２１は必須ではない。しかし乍ら、
プリズムは寄生反射を除去することにより入射光ビーム
の透過状態を改良する効果を有する。他方、光ビームを
方向２５に透過させたい場合にはプリズム２０が不可欠
である。同じ理由により、プリズムの面は入射及び出射
光ビームに垂直であることが好ましい。

上述の装置は、明確に規定された２方向に光ビームを送
ることの可能な光スイツチ装置を構成するＯ 第５図は、光ビームを光ファイノＺによって伝送する本
発明の光スイツチ装置を示している。この装置の動作は
第４図について説明した通りであり、従って同一素子に
は同一の参照符号を付した。プリズム２０及び２１の横
断面は直角二等辺三角形状であるので光ビームは装置か
ら該当するプリズム面に垂直に入射及び出射する。光フ
ァイバ３０は、透過または反射させるべき光ビームを伝
播するための入射ファイバである。反射ビームは受容フ
ァイバ３１により収集され、他方透過ビームは受容ファ
イバ３２により収集される。光ビームは、プリズムに接
着されたグレーデツト９インデクス型レンズ３３，３４
．３５によりコリメートされる。

同図中、実線は（球体１５が電極１０及び１１間に位置
する時の）透過ビームの行路を示し、破線は（球体１５
が電極５及び６間に位置する時の）反射光の行路を示し
ている。同様に、ガラスプレートを使用せずに電極をプ
リズムの内面に直接堆積させた装置を構成することも可
能である。

本発明の範囲内で、同一の装置内に複数のビーム入力チ
ャネルと出力チャネルとを配置することも可能である。

第６図は、４個の入力チャネルと８個の出力チャネルと
を備える、４個の光ビームを交換するための装置を示し
ている。装置は、ススーサ部材４４を介して空気薄層に
より分離された２個の平行なガラスプレート４２及び４
３から構成される。先述の装置に比較すると、第６図の
装置は４個のスイッチ群４７，４８，４９及び５０を備
えている。各群は、電位差の影響下で球状流体の移動を
開始することの可能な２組の電極を備えている。各群の
特徴及び各群の動作は上述の通りである。直角二等辺三
角形の横断面を有する全反射プリズム４０及び４１は各
プレート４２及び４３に接着される。入力チャネルＥ１
　＋　Ｅ２　ｙ　Ｋ’３　。

及びＥ４は、ダレーデツＶインデクス型レンズ４６に連
結された光ファイバ４５により構成される。

各入力チャネルに対応して、透過出力チャネルＳ１゜ｓ
２．ｓ５及びＳ４と反射出力チャネル８’１　＊　Ｓ’
２　＋Ｓ／、及びＳ／４とが配置される″。出力チャネ
ルと入力チャネルとは、グレーデツｒインデクス型レン
ズに連結された光ファイバにより構成される。−例とし
て、入力Ｅ１．Ｅ３及びＥ４から出力Ｓ１　。

Ｓ３及びＳ４に向かう３個の光ビームと入力Ｅ２から出
力Ｓ′２に向かうビームとを実線で示した。

これらの方向は、光ビームの行路における陰影領域で示
す球体の有無により決定される。球体の移動時のビーム
の行路を破線で示す。この場合、Ｅｌ。

Ｅ２ｒＥ５及びＥ４に入射したビームはそれぞれ出力ｓ
’１　、　ｓ’２　、　ｓ’３及びＳ′４に向かう。

流体の移動原理に基づく光スイツチ装置の具体例として
別の構造を勘案することも可能である。

必要に応じて、光ビームが行路に沿って球体の有無の影
響を数回受けるようなシステムを勘案することも可能で
ある。

好ましくは電極は、球体の迅速かつ効果的な移動が可能
な形状を有する。第７図は、光ビームの伝播状態を変更
させるべ゛く装置の特定の領域に球状液体を配置するこ
との可能な電極形状の一例を示している。この型の電極
２組を対向関係に配置することζこより光スイツチ素子
が形成される。電極各組は、対応数の導体７１〜７７を
介して電圧発生器に連結された７個の導体セグメント６
１〜６７から構成される。発生器への結線は、相互に対
向位置に配置されたセグメント間に電位差が生じ得るよ
うに形成される。セグメント６１〜６６及び対向位置関
係にある対応セグメント１：こより、流体槽として機能
する容積を制御することが可能になる。セグメント６７
及び対向セグメントは、適当な電位差、即ち電界の印加
により入射光ビームの行路で流体を移動せしめる。これ
らのセグメント間の電位差が抑制され、セグメント６１
〜６６と対向セグセメトとの間に電位差が印加されると
、表面張力と電界により生成される力とは、復元力とし
て機能し、流体を光ビーム行路の外側に排出する。セグ
メント６１〜６６及び対向セグメントにより規定される
容積の一部のみが充填されている時、この排出は完全か
つ迅速に行われる。流体排出セグメント間の電位差の値
は等値またはステップ値であり得る。

電界勾配の影響下で流体の転位を更に改良するためには
、各連続セグメントに歯列を設けることが好才しい。第
７図に示す歯列は鋸歯形である。

セグメントは歯列を介して相互係合されているので、球
体の転位は容易になる。

第８図は、球体の移動による光交換に基づいて光点の軌
跡を合成するための装置を示している。

第８図は同一の装置の正面図と平面図とを示す２部分、
ａ及びｂから構成されている。装置は、直角二等辺三角
形状の横断面を有する２個の全反射プリズム８０及び８
１を備えており、プリズムはスペーサ部材８４により分
離された２個のプレート８２及び８３に接着されている
。プレート８２及び８３は、電圧発生器に連結された２
個の電極列をそれぞれ支持している。電極列８６及び８
７は第８図のｂ中、破線で略示しである。他方、列８６
から列８７へ移動させられ得る球体は黒い小四角形、例
えば８５で示される。球体の位置は、点の軌跡を合成す
るために使用されるべき点成分を形成するものと見做さ
れる。例えば列８７は所望の点軌跡を合成すべく機能す
る。シート状入射光輻射８８は投射面８９の方向に列８
７を照射する。電気制御動作に基づく球体の有無に応じ
て点成分は、適当な光素子の通過後、投射面８９に像を
形成するビームとしてシート状光輻射部分を遮断または
透過する。球体の存在により得られる列８７の点は、光
ビームの透過が可能である。他方、球体が存在しない時
、光線はプレート８２から方向９０に反射される。光投
射素子は、投射点９３の組合わせにより投射面８９に像
を形成する投射対物レンズ９２に光を集光及び透過させ
るだめの集光レンズ９１から構成され得る。

本発明に従う合成装置は多くの利点を有する。

まず、光効率がすぐれており単色光を必要としないため
、シート状光輻射を生成する光源は通常のランプであり
得、必ずしも従来技術装置型の特殊なレーザである必要
はない。更に、−列に配列された一連の透明電極対が長
手方向プリズムを介して光シートにより照射されるので
、列の長さは再生すべき線の長さに等しくなり得、従っ
て光システムは単純化される。更に、投射面の像の陰画
を収集するために、プリズム８０から反射された光線を
使用することが可能である。

写真、写真複写、写真電送等の方法による精密複写用感
光式装置を照射するために、点軌跡合成を使用すること
もできる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は説明図、第３図は球体移勢用電気制
御装置の等内因、第４図は説明図、第５図及び第６図は
本発明に従う光スイソチ衛装置の説明図、第７図は電極
の構造図、及び第８図をま本発明に従う光点軌跡合成装
置の説明図である。 １．２，４２，４３，８２，８３・・・・・・プレート
、３．４・・・・・・デポジット、５，６，１０．１１
・・・・・・電極、７・・・・・・発電機、９，４４，
８４・・・・・・スペーサ部材、１５．８５・・・・・
・球体、２０，２１，８０゜８１・・・・・・プリズム
、２２〜２６・・・・・・光ビーム、３０〜３２．　４
５・・・・・・光ファイノＺ１３３〜３５゜４６・・・
・・・レンズ、６１〜６７・・・・・・導体セグメント
、７１〜７７・・・・・・導体、　８６．８７・・・・
・・電イ返タリ、　８９・・・・・・投射面、ｆｌ、ｆ
２・・・・・・流体。 Ｃつ　ζｆ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）電気制御スイッチ手段により少なくとも１個の入
   射光ビームを光交換する光スイツチ装置において、スイ
   ッチ手段の機能は、反射ビームを生成するための第１の
   流体またはビームを透過させるための第２の流体のいず
   れかを光ビーム行路に配置することであり、流体は透明
   素子により規定される閉込めスは−ス内に収容されてお
   り、非混和性であり、異なる誘電許容率を備えており、
   流体の一方は、他方の流体の侵入型構造に封入された球
   状構造を備えており、前記装置は更に、高許容率の流体
   を電界印加閉込めスイース領域に集束せしめるべく、電
   界勾配を誘導するための手段を備えている、光スイツチ
   装置。 （２）　閉込めスは−スを規定する素子は２個のガラス
   プレートから構成されている、特許請求の範囲第１項に
   記載の装置。 （３）電界勾配を誘導するための手段は、各封缶にキャ
   ノぞシタを構成する少なくとも２対の電極から成り、流
   体は、電極対に対して紡電体として機能すべく構成され
   ている、特許請求の範囲第１項に記載の装置。 （４）閉込めスは−スを規定する素子は非湿潤性コーテ
   ィングを備えている、特許請求の範囲第１項に記載の装
   置〇 （５）閉込めスは−スを規定する素子は、少なくとも１
   個の全反射プリズムである、特許請求の範囲第１項に記
   載の装置〇 （６）プリズムは、プリズムとプレートとの屈折率が適
   合するようにプレートの１個に接着されている、特許請
   求の範囲第５項に記載の装置。 （７）プリズムは反射防止表面処理を施されている、特
   許請求の範囲第５項に記載の装置。 （８）プリズムは直角二等辺三角形状の断面を有する、
   特許請求の範囲第５項に記載の装置。 （９）第１の流体は空気であり、第２の流体は炭化水素
   である、特許請求の範囲第１項に記載の装置。 α０）第２の流体は炭素原子数５乃至２５個のアルカン
   型炭化水素である、特許請求の範囲第９項に記載の装置
   。 （６）第２の流体はケトン塵炭化水素またはニトロ誘導
   体である、特許請求の範囲第９項に記載の装置。 ０２　入射及び交換後の光ビームは光ファイバにより伝
   送される、特許請求の範囲第１項に記載の装置。 α四　光ファイバと閉込めスイースを規定する素子との
   間の光連結を確保するグレーデッドインデクス型レンズ
   を備えて成る、特許請求の範囲第１２項に記載の装置。 住４　電極は、歯列を介して相互係合関係に配置された
   セグメント列により形成されている、特許請求の範囲第
   １項に記載の装置０ （ハ）該画数の光ビームを交換すべく複数のスイッチ手
   段を備えて成る、特許請求の範囲第１項に記載の装置。 ａｅ　特許請求の範囲第１５項に記載の光スイツチ装置
   と、投射面に像を形成するための光手段とを備えて成る
   、点軌跡合成装置。