JPS6046775B2 - 空気中での焼成に耐えそして耐水性を具備するゲツタ装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 真空容器においてバリウムのような蒸発性ゲツタ金属を
放出する発熱性ゲツタ装置は良く知られている。

このようなゲツタ装置は通常、ほぼＢａＡｌ４の組成の
粉状バリウム−アルミニウム合金を約２０〜８０％、好
ましくは約４０〜６０％、特には約５０％と、バリウム
−アルミニウム合金と発熱反応しうる追加金属とを混合
状態で含んでいる。これは４：１から１：４の重量比に
相当する。このような共反応試剤としては、Ｎｊ．．Ｔ
ｉ，．Ｆｅ，．ＭＯ或ぃはニッケルとチタン等の金属間
化合物のような合金乃至化合物がある。しかし、ニッケ
ルが低価格で入手しうること、その取扱いの容易さ、周
囲条件でのその安定性が比較的良いこと、及びバリウム
蒸発速度従つてゲツタ装置ブラッシング（蒸発）特性を
制御するべく所要程度の発熱性でもつてバリウム−アル
ミニウム合金と発熱反応しうることに由り、もつとも好
ましい追加金属てある。発熱反応を促進するのに金属間
化合物を使用することは、それが発熱性ゲツタ装置の製
造に追加的な製造段階を含むから比較的高価につく。カ
ラーディスプレイチューブのような放電管の製作中、ゲ
ツタ装置は広く様々の製造及び環境上の条件に曝される
。

ゲツタ装置が一部を形成するところの電極システムの洗
浄作業中、ゲッタ装置を水に或いは過度の大気中湿分に
曝せしめることは、ゲッタ装置を構成する物質の劣化を
もたらす。水或いは水蒸気はバリウム−アルミニウム合
金と反応して、水酸化バリウムを生成し、次いで．水酸
化バリウムは大気中のＣＯ２のような成分と反応して別
の化学物質を生成する。これら化学物質は仕上け密封電
子管においてゲツタ金属の蒸発中分解して、管内の残留
ガス雰囲気の組成に好ましからざる態様で影響を与える
恐れのある有害ガス．の放出を伴い、この結果としてき
わめて短い作動寿命しか持たない低品質の管をもたらす
。しばしば、螢光体担持フエイスプレート乃至スクリー
ンをガラス製円錐状体上に密封着する工程中カラーディ
スプレイチューブのガラス包被体内・に既にゲツタ装置
を設置しておくことが所望される。

この工程は一般に真空中ではなく大気中で約４００℃乃
至それ以上の温度で行われる。この高温での空気曝露も
また、恐らくはゲツタ装置を構成する物質の一つ乃至そ
れ以上の酸化により、バリウム放出反応の発熱性が非常
に大きくなつてこの反応がほとんど爆発の形で起つて蒸
気というより溶融粒子の形態でバリウムを放出するよう
な程度にまで劣化をもたらす可能性がある。このような
バリウム及び他の粒子の非制御下ての放出は、それら粒
子がその後電子管内の電極構造体上に落下して電気的障
害をもたらすから有害である。カラーディスプレイチュ
ーブにおいて、これら粒子は゛またシヤドウマスクにお
ける小さい穴を閉塞して螢光体域が電子ビームにより励
起されるのを阻止し、以つて表示像の品質の低下を招く
。有機溶剤中に溶かされたポリイミド樹脂、メチルアク
リレート樹脂及びニトロセルロースのような有機物質の
使用が、ゲツタ装置上への機械的保護コーティングを形
成する為の含浸剤として英国特許第１３７２８２３号に
提唱された。

しかし、これら薄い機械的コーティングは非常にピンホ
ールを形成しやすく従つて所望される程の保護作用を与
えないことが確認されている。ピンホールを形成しない
もつと厚いコーティングの使用はゲツタ装置の重量を所
望されざる程に増しそしてそこから溶剤を完全に排除す
ることを困難とする。ゲツタ金属の蒸発中、分解有機物
質層中の炭化残存物はケツタ装置表面から脱着せしめら
れそして溶融バリウム粒子の蒸発に際してのと同じ不都
合さをもたらす。大半の有機物質は、カラーディスプレ
イチューブのフエイスプレートを円錐状体に封着するの
に要する温度で分解し、斯くしてこの工程中ほとんど保
護作用を提供しない。

この場合、発熱反応を緩くしそしてバリウムの爆発的蒸
発を回避する為に、ゲツタ合金混合物のニッケルをチタ
ン−ニッケル金属間化合物のような他の物質に置換える
ことが通常必要とされる。更に、大量の含浸用物質の使
用は、カソードの活性及び管寿命に有害となる恐れのあ
る大量の分解生成物ガスの発生を意味する。

また、蒸発特性の変化を伴うことなく水洗い操作、高温
空気中処理或いは両者のいずれをも施しうる単独型式の
ゲツタ装置を持つことが望まれる。

これにより、上記処理の一つだけになら耐えうる異つた
装置のストックを多数用意することが不要となる。従つ
て、本発明の目的は、先行技術の欠点を実質上含まない
発熱性のゲッタ装置を提供することである。

本発明の別の目的は、水乃至水蒸気への曝露に際して劣
化しない発熱性ゲツタ装置を提供することである。

本発明のまた別の目的は、大気中で高温への曝露に際し
て劣化しない発熱性ゲツタ装置を提供することである。

更に別の目的は、ゲツタ金属の蒸発後放電管内の残留ガ
ス雰囲気を実質上変えない発熱性ゲツタ装置を提供する
ことである。本発明の他の目的及び利点については以下
の記載から明らかとなろう。

本発明に従えば、大気中での焼成に耐え、防水性を具備
する発熱性ゲツタ装置が提供される。

本発明のゲツタ装置は、バリウム合金、好ましくはバリ
ウム−アルミニウム合金とそれと発熱反応しうる金属と
から成る粉状混合物をホルダ内に押固めそして後ホルダ
内の粒状混合物を有機シラン或いはシロキサンに曝すこ
とにより製造される。有機シラン或いはシロキサンは、
脂肪族及び芳香族シラン並びに後述の式１の低分子量及
び高分子量ポリシロキサンから成る群から選択される任
意の有機化合物を意図する。本発明の広い意味において
、ゲツタ装置と有機シラン或いはシロキサンとを接触さ
せる任意の方法が使用されうる。例えば、一つの好まし
い方法において、ゲツタ装置は純粋な液体として或いは
適当な溶剤との混合物状態で存在する有機シラン或いは
シロキサンの浴中に浸漬される。別の好ましい方法は、
ゲツタ装置をある量の有機シラン或いはシロキサンと共
に容器内に置くことである。容器は排気されそして密閉
される。その後、有機シラン或いはシロキサンはその蒸
気分子がゲツタ装置の表面と接触しうるようその蒸気圧
を高めるべく加熱される。ゲッタ装置は、液体凝縮が装
置上で起らないように有機シラン或いはシロキサンの浴
温度より高い温度に保持される。

更に、ゲツタ装置の温度は架橋有機シラン或いはシロキ
サンコーティングの単分子層がゲツタ装置の表面に生じ
るようなものとすべきである。

そのような層の形成については米国特許第３９０１７６
１号に記載されているが、この特許は発熱性ゲツタ装置
上に設けられる単分子層が水乃至水蒸気曝露後或いは高
温空気曝露後バリウムの爆発的蒸発を防止しうることに
ついては記載していない。好ましくは、ゲツタ装置の温
度は、有機シラン或いはシロキサンかその表面に化学的
に結合された架橋単分子層を形成しうるようにする為に
約１００℃より高く維持されるべきである。ゲツタ装置
が維持されるべき最大限温度は、バリウムが蒸発を開始
する温度であり、これは約７００〜７５０℃である。し
かし、ゲツタ装置を使用される特定の有機シラン或いは
シロキサンの引火点以下の温度に維持することが都合よ
い。これは、排気容器における破損事故或いは漏れに際
して有機シラン或いはシロキサン蒸気と大気中酸素との
間て曝発反応が起らないことを保証する。バリウム合金
及び発熱性共反応剤に加えて、ゲッタ装置は、Ｆｅ４Ｎ
或いはＴｉＨ２のようなガス放出物質並びにタングステ
ンのような熱調節剤をも含むことができる。

本発明の広い概念に従えば、ゲツタ装置にここで記載し
た性質を賦与する任意の有機シラン或いはシロキサンが
使用されうる。

適当な有機シラン或いはシロキサンの群の例としては、
単量体シロキサン、ポリシロキサン、脂肪族シラン、芳
香族シラン及びそれらの置換生成物が挙げられる。好ま
しいポリシロキサン群は次の一般式１を持つものである
。ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はア
ルキル、アリール、アラルキル、アルカリール及び水素
から成る群から独立して選択される。

但し、少く共１つはアルキル、アリール、アラルキル及
びアルカリールから成る群から選択される。Ｒ４及びＲ
５はアルキル、アリール、アラルキル及びアルカリール
から成る群から独立して選択される。ｎは一般に零から
２００００までの、好ましくは零から１０００までの整
数である。上記式１のポリシ・２口キサンの好ましい種
が次の式■及び■に示されている：適当なアルキル基の
例としては、メチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、
ドデシルが含まれる。

アリルも便用可能である。適当なアリール基の例として
は、フェニル及びナフチルが含まれる。適当なアラルキ
ル基の例は、ベンジル及び２一フェニルプロピルである
。適当なアルカリール基の例としては、３−メチルーフ
ェニル及び４−ブチルーナフチルが挙げられる。上記の
いずれも塩素或いは臭素のようなハロゲンの如き一つ乃
至それ以上の非干渉性の基によつて置換されうる。しか
し、電子業界ではハロゲン放電管のカソード活性に悪影
響を持つという考えが広く信じられている。この為、非
ノ田ゲン化有機シラン或いはシロキサンを使用すること
が好ましい。本発明において使用される有機シラン或い
はシロキサンにより提供される単分子層の薄い保護皮膜
はその固有の化学的結合性に由リゲツタ装置表面にしつ
かりと付着しそして架橋性に由りピンホールを生じない
。この緻密な密着層は周囲ガス及び水が膜の下側に達す
るのを有効に防止する。これにより、ゲツタ装置を組込
む電子管の組立中ゲツタ物質の劣化、酸化等が有効に防
止され、その結果バリウム等のゲツタ物質が爆発的に放
出され．るという従来しばしば見られた事態が防止され
る。このようなバリウムの爆発的放出は、粒子が管内に
飛散して電極その他に電気的障害を引起すから回避され
ねばならない。従来用いられたポリイミド等の樹脂では
厚くしないとピンホールが生・じやすく保護性に欠ける
。しかし、皮膜を厚くすると、ゲツタ装置の重量を増し
また溶剤の排除を困難としそして加熱後炭化物酸査が残
るという問題が生じて不都合である。また、電子管に有
害な分解ガスが生じてはならない。このような観点から
、本発明で使用する皮膜は、上記不都合を生じることな
く、ゲツタ装置に好適な保護作用を提供する点で有益で
ある。ここで図面を参照すると、第１図には本発明の発
熱性ゲツタ装置１０が示されている。

発熱性ゲツタ装置１０は、Ｕ字形溝断面を持つ環状リン
グの形態のステンレス鋼ホルダ１１から成る。ホルダ１
１内には、粉状のバリウム−アルミニウム合）金１２が
バリウム−アルミニウム合金と発熱反応しうる共反応剤
１３と混合されて収蔵されている。バリウム−アルミニ
ウム合金はほぼＢａ，Ａｌ４の組成のものである。共反
応剤としては、ＮｉｌＴｉ．．Ｆｅ，．ＭＯ或いはニッ
ケルとチタン等の金属間門化合物のような合金乃至化合
物がある。しかし、ニッケルが好ましい。バリウム−ア
ルミニウム合金と共反応剤は１：４〜４：１の重量比て
混合される。有機シラン或いはシロキサンはホルダ及び
収蔵粉末の露出上面のみならす収蔵粉末内部に浸ノ透し
て個々の粒子表面にコーティングを形成する。第２図は
、本発明の装置を製造するのに適した装置２０を概略的
に示す。

装置２０は排気されそして通常のガラス吹き技術によソ
ー端２２において封止されたガラス製容器２１を含む。
容器２１内には、多数の発熱性ゲツタ装置１『、１『、
１『″″を支持するワイヤ付き支持構造体２３が納めら
れている。更に、ガラス容器２１は非ハロゲン化有機シ
ラン或いはシロキサン液２４を収納している。容器２１
の有機シラン或いはシロキサン液２４を含む部分を取巻
いて、第１加熱装置２５が置かれている。

コイル状抵抗線の形態の第２加熱装置２６が、発熱性ゲ
ツタ装置１『１『、１『″″を加熱する為容器２１を取
巻いている。冷却用コイル２７が、第１及び第２加熱装
置間の帯域に容器２１と取巻いて置かれて、有機シラン
或いはシロキサン蒸気の液体としての凝縮がゲツタ装置
上ではなくこの帯域において優先的に起ることを保証し
ている。容器内に飽和温度以下に冷却された帯域が存在
するとそこに優先的に凝縮が起つて蒸気圧を減じるので
、ゲツタ装置上への凝縮が有効に防止される。操作にお
いて、ゲツタ装置はコイル２６により約２００℃まで加
熱される。

有機シラン或いはシロキサン液は加熱装置２５により約
２００℃まで加熱される。冷却用コイル２７は２つの加
熱装置間の帯域を約１８０℃に維持している。ゲツタ装
置は２００゜Ｃで１時間維持され、その後装置は室温に
冷却せしめられそしてゲツタ装置が容器から取出される
。これらは今や、カラーディスプレイチューブのような
放電管の作製において使用しうる状態にある。第３図は
、シヤドウマスク３１、電子銃組体３２及び鉄製スクリ
ーン要素３３を含むカラーディスプレイチューブ３０の
部分断面を示す。

上記方法に従つて処理された第１の発熱性ゲツタ装置１
０″が電子銃上に組付けられる。ゲツタ装置及び電子銃
は少量の表面活性剤をやはり含みうるなまぬるい水中で
あらかじめ洗浄された。やはり上記工程に従つて処理さ
れた第２ゲツタ装置１『が鉄製スクリーン３３に付設さ
れた。第２ゲツタ装置１『は洗浄される必要はなく、そ
して最終チューブ組立前に大気に従つて湿分に比較的長
期間一曝されたままとされうる。更に、第２ゲツタ装置
１『は、フエイスプレート３４の密閉シール３６による
円錐状体３５への封着中鉄製スクリーン３３にあらかじ
め付設されている。この封着工程は４００′Ｃ乃至それ
以上で１時間行われる。以下、本発明の具体例を示す。
すべての割合及び％はことわりがない限り重量に基くも
のである。例１ ６つの同等の発熱性ゲツタ装置が作製された。

各々は、Ｕ字形溝断面を持つ１８？外径のリングの形を
したステンレス銅製ホルダを具備する。各チャンネル内
に、５唾量％バリウム及びアルミニウムの合金約５０％
と５０％のニッケルを加えてなる３２０ｎ１ｇの粉状混
合物を押固めた。ゲツタ装置のうちの３つをガラス容器
内のワイヤ支持体上に置いた。約１０ｃｃのトリ−メチ
ル、ペンタ−フェニル、トリ−シロキサンがゲツタ装置
と直接接触しないようにしてガラス容器内に置かれた。
密閉容器は２００′Ｃにおける炉内に１時間置かれた。
炉から取出し後、容器及びその内容物を室温まで冷却せ
しめそして処理すみケツタ装置を取出した。その後、６
つすべてのゲツタ装置をカラーディスプレイチューブの
フエイスプレートの円錐状体封着工程を模擬するべく大
気中４２０℃において１時間加熱した。

６つのゲツタ装置を各々別々のガラス容器内に置いた。

その後、ガラス容器を回転及び拡散ポンプにより排気し
た。そうして、誘導加熱を施すことにより各ゲツタ装置
からバリウムを蒸発せしめた。有機シロキサン蒸気で処
理されなかつた３つのゲツタ装置はバリウムの粒を伴う
爆発的なバリウム蒸発を示しそしてゲツタ合金混合物は
ステンレス鋼ホルダから激しく放出された。有機シロキ
サンで処理した３つのゲツタ装置は爆発反応を兆しを示
さずバリウム蒸気の制御下での蒸発を示した。例２ 更に別の６つのゲツタ装置を例１におけるようにして作
製した。

そのうちの３つは例１に記載したのと全く同じようにし
てトリ−メチル、ペンタ−フェニル、トリ−シロキサン
で処理した。約２０秒後、未処理ゲツタ装置は気泡を放
出し始め、従つて水によるゲッタ金属蒸気放出物質の優
食を示した。処理ずみゲツタ装置は、１分後でさえ、気
泡の放出がなかつたので侵食の兆しを示さないことが確
認された。例３ ゲツタ装置を例１に記載したようにして作製した。

ゲツタ装置をジメチルポリシロキサン油（ＡＫＯ．６５
ドイツ バツケルーヘミー社（Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ
ｉｅＧｍｂＨ）製）中に１紛間浸漬した。含浸ずみゲツ
タ装置をその後空気乾燥し”た。その後、ゲツタ装置を
大気中４２０℃で１時間加熱しそして例１におけるよう
にして真空中でフラッシュせしめた。

ジメチル、ポリシロキサン流体で処理されたゲ・ツタ装
置はバリウム蒸気の制御された蒸発を示し、爆発反応の
兆候を示さなかつた。

例４ 例３におけるようにしてゲツタ装置を作製した。

空気乾燥後、ゲツタ装置を３００′Ｃにおける真ノ空中
で６吟間熱処理した。その後、ゲツタ装置を大気中４２
０間Ｃにおいて１時間加熱しそして例３に記載したよう
にして真空中でフラッシュ処理した。結果は例３と同様
であつた。例５ 例３と同様にしてゲツタ装置を作製した。

空気乾燥後、ゲツタ装置を温い水（約６０℃）中に置き
そして浸漬からおびただしい泡の発生までの時間力泪視
的に観察された。泡はゲゝンタ装置に急速に形成された
。例６ ゲツタ装置を例４と同様にして作製した。

３００℃で６紛間動的真空中での熱処理後、ゲツタ装置
を例５におけるような温い水て洗つた。

２１１２分後ゲツタ装置に泡が形成された。

例７〜１０ 例３〜６をゲツタを含浸するのに１喀量％のジメチル−
ポリシロキサン油と９喀量％のキシレンを使用して繰返
した。

結果は１００％油を使用したものと同様であつた。例１
１〜１４ 例７〜１０を分子当り約２００の珪素一酸素団を持つ鎖
長のジメチル−ポリシロキサン油を使用して繰返した。

長い鎖長のこの油は、ゲツタ装置が１１２０試験中で大
きな耐性を示したので、例７〜１０に対して使用したも
のより好ましいことがわかつた。例１５〜１８ 分子当り約１４００の珪素一酸素団を持つ鎖長のジメチ
ル−ポリシロキサン油を使用して例７〜１０を−繰返し
た。

結果は例１１〜１４において見出されたのと同様であつ
たが、例１７においては障害が認められた（急速な泡形
成）。例１９〜２２ 分子当り約１０８の珪素一酸素団の鎖長を持ちそ．して
鎖中約１２％のフェニル置換を持つメチルフェニルポリ
シロキサン油を使用して例１１〜１４を繰返した。

結果は例１１〜１４において得られたのと同様であつた
。但し例２１における結果は例１３と較べて良好であつ
た。例２３〜２４例１９〜２２において使用したのと同
じメチルフェニルポリシロキサンを使用して例１及び２
を繰返した。

結果は例１及び２と同様であつた。Ｌ例２５〜２８ メチル ジクロロシラン（米国メルツク アンドカンパ
ニー社製ＮＯ５８９９）を使用して試験を行つた。

ゲツタ装置は空気中で（１）秒間メチルジクロロシラン
蒸気に曝されそして後例７〜１０と同様にして試験され
た。試験結果はすべて満足しうるものであつた。例２９
〜３２ 例２５〜２８をジクロロメチル メチル シラン（メル
ツク アンド カンパニー社製ＮＯ．８Ｏ４／８６）を
使用して繰返した。

ゲツタ装置は水試験浸漬中急速に泡を形成したが、フリ
ット試験には好適に合格した。例３３ この比較例は例１におけるような追加的先行技術未処理
対照用ゲツタの挙動を記録した。

例３４ これは、上記例において記載した水洗浄試験の各々にお
いて使用した未処理対照用ゲツタの挙動を記録した。

以上の例を以下の表１に総括して示す。

表において゜゜ｎ゛は式１において示したようなポリシ
ロキサンの分子当りの珪素一酸素団のおおよその数を示
す。

表において“油゛はポリシロキサン及びクロルシランの
製造業者識別番号を指す。

記ＡＫ及びＡＳに続く数字はセンチストーク単位での油
の粘性を示す。表において、゜゜排気容器゛は排気ガラ
ス容器内で純粋の油を使用してゲツタ装置を含浸させる
方法を表す。

゜“浴゛は油乃至油一溶剤混合物中に１５分間ゲツタ装
置を浸漬することによるゲツタ装置含浸法を表す。表中
、％油は浴のキシレン組成物に対する油の容積％である
。

“焼成゛は空気乾燥後動的真空中で３００℃において６
紛間の熱処理を指す。

“Ｈ２Ｏ試験゛においてゲツタ装置は温い水（約６０℃
）中に置かれそして泡形成までの時間が可視的に観測さ
れた。

゜゜フリット試験゛というのは、４２０℃で１時間大気
中熱処理し続いて真空中でフラッシュさせることを指す
。

“爆発゛はゲツタ装置から白熱状態の粒の激しい放出の
可視的な観察により確認された。上述した例において得
られた結果から、例３〜，９と例７〜１０を比較するこ
とにより純粋な油或いは油一溶剤混合物の使用が同等の
結果を与えることがわかつた。

例５、９、１λ１７の比較は、真空下での熱処理（焼成
）をしないなら“゜ｎ゛＝約１０８の油のみが相！当程
度の水処理保護性を与えることを示す。

例６、１０１１４、１８の比較は、“゜焼成゛処理が水
耐性をかなり改善しそして零以上の゜“ｎ゛に対して満
足すべきものであることを示す。例１９〜２２の結果か
らメチル−フェニル油に対しては焼成処理は必！要でな
いことがわかる。例３、４、７、８、１１、１２、１５
．１６は油処理ゲツタ装置が焼成処理を伴つてもまた伴
わずともブラッシングさせうることを示す。

例１９〜２２と例２３〜２４の比較は、“排気容器゛処
理と“゜浴゛処理との効率間に差異がないことを示す。

例２５〜２８と例２９〜３２との比較の結果から、ハロ
ゲン化シランは水保護性を与えるのにどちらかというと
選択性を示すことがわかる。例１９〜２２において使用
された油は約１０％フェニル置換のものであり、他方例
１〜２は６２．５％フェニル置換を持つ。

これらの比較から、鎖における両方フェニルの量及び両
方の珪素一酸素団の鎖の長さに対して同様の結果がもた
らされることがわかる（例１９〜２２に対して１０＆例
１〜２に対して３）。以上、本発明について説明したが
本発明の精神内で多くの改変を為しうることを銘記され
たい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に従うゲツタ装置の断面図てあり、第２
図は本発明方法を達成する為の装置の概略図であり、そ
して第３図は本発明の発熱性ゲツタ装置を２つ使用する
カラーディスプレイチューブの部分断面図である。 図面の主要要素は次の通りである：１０：ゲツタ装置、
１１：ホルダ、１２：バリウムーアルミニウム合金、１
３：ニツケル、１４：有機シランコーティング、２１：
ガラス容器、２３：支持体、１『，１『，１『″″：ゲ
ツタ装置、２４：有機シラン流体、２５：第１加熱装置
、２６：第２加熱装置、２７：冷却用コイル、３０：カ
ラーデイスプレイチユーブ、３１：シヤドウマスク、３
２：電子銃、３３：スクリーン。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ホルダと、該ホルダ内に収蔵される粉状ゲツタ物質
   混合物であつて、バリウム−アルミニウム合金と、ニッ
   ケル、チタン、鉄、モリブデン及びその合金から成る群
   から選択される発熱性共反応剤とを１：４〜４：１の重
   量比で混合して成る粉状ゲツタ物質混合物と、単量体シ
   ロキサン、ポリシロキサン、脂肪族シラン、芳香族シラ
   ン及びそれらの置換生成物から成る群から選択されるコ
   ーティングであつて、該ホルダ内粉状ゲツタ物質の少く
   とも露出粒子表面を覆うコーティングとから成るゲツタ
   装置。 ２ コーティングが下記式 I のポリシロキサン▲数式
   、化学式、表等があります▼・・・式 I （ここで、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾６、Ｒ＾７及
   びＲ＾８がアルキル、アリール、アラルキル、アルカリ
   ール及び水素から成る群から独立的に選択され（但し少
   く共１つはアルキル、アリール、アラルキル及びアルカ
   リールから成る群から選択される）、Ｒ＾４、Ｒ＾５が
   ルキル、アリール、アラルキル及びアルカリールから成
   る群から独立して選択され、そしてｎが零から２０００
   ０までの整数である）であることを特徴とする特許請求
   の範囲第２項記載のゲツタ装置。 ３ ポリシロキサンが下記式II ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・式II である特許請求の範囲第２項記載のゲツタ装置。 ４ ポリシロササンが下記式III ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・式III である特許請求の範囲第２項記載のゲツタ装置。