JPS6046179B2 - イオンプレ−テイング用陽極 - Google Patents

イオンプレ−テイング用陽極

Info

Publication number
JPS6046179B2
JPS6046179B2 JP52024464A JP2446477A JPS6046179B2 JP S6046179 B2 JPS6046179 B2 JP S6046179B2 JP 52024464 A JP52024464 A JP 52024464A JP 2446477 A JP2446477 A JP 2446477A JP S6046179 B2 JPS6046179 B2 JP S6046179B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
anode
ion
blating
substrate
view
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP52024464A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS53109876A (en
Inventor
主税 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP52024464A priority Critical patent/JPS6046179B2/ja
Publication of JPS53109876A publication Critical patent/JPS53109876A/ja
Publication of JPS6046179B2 publication Critical patent/JPS6046179B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はイオンブレーティング用陽極、特に多細胞構造
としたイオンブレーティング用陽極に関する。
従来公知のイオンブレーティング装置の典型的な構成を
第1図に示す。
図においてサブストレート1(被膜形成すべき品物)と
蒸発源4(蒸発源4は、第1図では蒸発物2−以下エバ
ポラントという一を収容した加熱用ボート3から成る)
を、低圧(たとえば1トール)のアルゴン・ガス中で相
対向する位置に置き、蒸発源4とサブストレート1の間
に負の高圧(たとえば−5KV)を印加し、(この場合
、サブストレート1は陰極、蒸発源は陽極となる)。エ
バポラント2を加熱蒸発させると、エバポラント2がグ
ロー放電領域を通過して行く間にその1部がイオン化し
、サブストレート1にイオンとして打込まれる。通常、
エバポラントは、抵抗加熱式蒸発源の場合には、或る長
さの線源から、また電子ビーム式蒸発源の場合には、点
源から、それぞれ蒸発すること)なる。
従つて、サブストレート1が比較的広い面積を有する板
状あるいはシート状物体の場合には、蒸発源4を多数配
置するか、サブストレート1を蒸発源4に対して適当に
動かすなどの工夫が必要となるが、前者の場合には電極
構造が複雑となる。
後者の場合には駆動のための機構が大がかりとなるなど
種々の条件が重複して設備が高価となるばかりでなく、
装置の運転、保守も面倒となる。本発明はこの種、従来
装置の諸欠点を排除するために種々研究の結果開発され
たものであり、本発明陽極の構成は前記特許請求の範囲
各項に明記したとおりのものてある。本発明の主たる目
的は、サブストレートが非常に大きい場合にも容易に均
一なイオンブレーティングができるような、安価にして
単純な構造の陽1極(蒸発源)を提供することにある。
本発明の他の目的は、単なる通常のイオン・プレテイン
グのみならず、磁場の加わつた空間内で起るペニング放
電を利用したイオン・ブレーティングを行なうときに、
その効果が最大限に発揮で・きるような陽極を提案する
ことにある。
更に、本発明の他の目的は、抵抗加熱のみでは事実上蒸
発が困難な物質、たとえばクロームの如き蒸発物につい
ても容易に上記した目的が実現できる陽極を提供するこ
とにある。
更に、また本発明は、比較的小さな陽極を、必要な個数
だけ効果的に連結することによつて容易にスケール・ア
ップを実現できる方法をも提供するものである。
本発明陽極の具体的な数例を添附図面に基いて更に詳述
するが、本発明はこれら実施例のみに限定するものでは
ない。
第2図は、網目状陽極の1例を示し、たとえばタングス
テン線12,12,・・・を網目状に編み、これを同じ
くタングステン棒で作つた両側の端子11,11へ溶着
固定したものを示す。
13は、この網目状陽極14の網目に、ほS゛等間隔に
陽極に対して垂直方向に突出して引掛けられた(結びつ
けたり、巻きつけたり種々の取付け方が選択できる)エ
バポラント、たとえばアルミニウム線片を示す。
このような網目状陽極14を、サブストレート(図示せ
ず)とほS゛同じ形状と面積を有するように作成、設置
してイオンブレーティングを行なうことにより、均一な
被膜形成作業が容易に施行できる。
第3図は第2図に示す網目状陽極を巾広に作成した例で
、被膜形成の条件に応じてエバポラントの配置を適宜変
更し得ることは勿論である。
第4図は第2図に示す網目状陽極を3相交流結線に適用
した例であるが、このように並列的に結合することもで
き、また直列的に結合して大面積を覆うこともできる。
第5図は第2図に示す網目状陽極の他の変形例で、網目
を構成する各素線12,12,・・・は、両端子間で互
に接蝕することなく張られている。
(図には示されていないが、使用中におけるたわみもし
くはたるみを防止するため、全体を絶縁物,製の枠て支
持することもてきる)さらに、この例に示された端子2
1,22,23,24は、これらを一体的にまとめて結
線してもよく、また22,23,24+21の3組を、
たとえば第4図に示したように3相交流に結線し−ても
よい。
後者の場合、第5図に示した陽極を3の倍数個用意して
、これらを並列に結線し広い面積を覆うようにして用い
てもよいことは勿論である。
また、22,23,24+21に、同時的に通電して全
体を同時に蒸発させるのでなく、これらに順次通電して
、間欠的に蒸発を行なつてもよい。第6図は前述の実施
態様とは少しく異なる他の例を示したもので、たとえば
図示のように波形に成形したタングステン製リボン32
,32,を、両端の端子11,11へ溶着固定したもの
を示す。
このような多細胞構造を有する陽極35へ、たとえばク
ロームで作られた円柱状のエバポラント33,33,・
・・を適宜間隔に挿入保持しておき、これを充分に収束
された高エネルギー・ビーム,たとえばレーザー光線ま
たは粒子線ビームを該多細胞構造陽極35と平行に(矢
印A,Bいずれの方向でも構わない)エバポラント33
,33,の先端部へ照射してこれらを加熱蒸発させる。
実際の使用に当つては、たとえば該多細胞構造陽極35
を固定しておき、レーザー光線をBの方゛向から照射し
、フィルム状のサブストレート(図示せず)をAの方向
へ連続的に送りながらイオン◆ブレーティングを行つて
もよい。第7図は第6図に示す構造の陽極の網目の数を
増加したもので、スケールアップが極めて容易なことを
示す。
本発明陽極は、ペニング放電を利用した高速連続イオン
・ブレーティングを行うに当りて電極として用いること
ができ、その詳細については本願と同日出願の特願昭5
2−24463号明細書(特開昭53−10988〔D
に明記してある。
本発明は前述の如き構成からなるものであるから、その
作業・効果を列記すれば次の通りである:(1)サブス
トレート表面積の大小に拘らず均一なイオン・ブレーテ
ィングが容易である。
(2)構造が簡単、安価である。
(3)ペニング放電を利用する高速連続イオン・ブレー
ティングに最大限の効果が発揮できる。
(4)抵抗加熱のみでは事実上蒸発困難な物質、例へば
クロム等の蒸発物質についても容易に所期の目的が達成
され得る。(5)小さな陽極構造体を連結することによ
り、容易にスケールアップすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来公知のイオンブレーティング装置の略図、
第2図は本発明多細胞陽極のうち、網目状陽極の平面図
及び側面図、第3図は第2図に示す網目状陽極の巾広と
した平面図及ひ側面図、第4図は第2図の陽極を3相交
流結線に適用した平面図及ひ側面図、第5図は第2図の
陽極の他の変形例の斜視図、第6図は他の形状の多細胞
構造の陽極の平面図及び側面図、第7図は第6図の陽極
の細胞の数をふやしたものの平面図及ひ側面図を示し、
図中、1はサブストレート、2は蒸発物、3は加熱ボー
ト、4は蒸発源、11,21,22,23,24は通電
用端子、12はタングステン線、14は網目状陽極、3
2はタングステンリボン、13,33はエバポラント、
35は多細胞陽極を夫々示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 多細胞構造体の一部又は全部を通電用端子を介して
    通電加熱し得る構成とし、被蒸発物質を該多細胞構造体
    の陽極面に対して垂直方向に突出させ、かつ適当な間隔
    に配置してなる高エネルギー・ビームの照射を併用する
    ためのイオンブレーティング用陽極。 2 上記陽極を直列又は並列に複数個配置してなる特許
    請求の範囲第1項記載のイオンブレーティング用陽極。
JP52024464A 1977-03-08 1977-03-08 イオンプレ−テイング用陽極 Expired JPS6046179B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP52024464A JPS6046179B2 (ja) 1977-03-08 1977-03-08 イオンプレ−テイング用陽極

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP52024464A JPS6046179B2 (ja) 1977-03-08 1977-03-08 イオンプレ−テイング用陽極

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS53109876A JPS53109876A (en) 1978-09-26
JPS6046179B2 true JPS6046179B2 (ja) 1985-10-15

Family

ID=12138878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP52024464A Expired JPS6046179B2 (ja) 1977-03-08 1977-03-08 イオンプレ−テイング用陽極

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6046179B2 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4913159A (ja) * 1972-04-11 1974-02-05
JPS4926181A (ja) * 1972-07-04 1974-03-08
JPS5120902U (ja) * 1974-07-31 1976-02-16

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4913159A (ja) * 1972-04-11 1974-02-05
JPS4926181A (ja) * 1972-07-04 1974-03-08
JPS5120902U (ja) * 1974-07-31 1976-02-16

Also Published As

Publication number Publication date
JPS53109876A (en) 1978-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5414267A (en) Electron beam array for surface treatment
US4006073A (en) Thin film deposition by electric and magnetic crossed-field diode sputtering
JPS6122547A (ja) 非熱イオン性中空陽極気体放電電子ビ−ム源
JP3375159B2 (ja) 改善された並列フィラメント電子銃
US3617740A (en) Modular electron source for uniformly irradiating the surface of a product
US5031200A (en) Cathode for an X-ray tube and a tube including such a cathode
US4209552A (en) Thin film deposition by electric and magnetic crossed-field diode sputtering
JPS6046179B2 (ja) イオンプレ−テイング用陽極
JP4875527B2 (ja) プラズマ発生装置およびこれを用いた薄膜形成装置
JP2004197207A (ja) 薄膜形成装置
US4091306A (en) Area electron gun employing focused circular beams
JP3717575B2 (ja) 薄膜形成装置
JPH11195397A (ja) 低エネルギー重イオン立体照射法
JPS5941509B2 (ja) 強付着性の特に硬質炭素層を大きな面積に蒸着するための装置
JPS6394535A (ja) 電子ビ−ムシ−ト形成装置
KR920000532B1 (ko) 무 개스 아아크 방전 이온 플레이팅 방법 및 그 장치
JPH088084B2 (ja) イオンビ−ム蒸着装置
JPS60123021A (ja) アモルフアス半導体膜生成装置
JPH04221066A (ja) 薄膜蒸着装置
JPH02277766A (ja) 電子放出用陰極構造体装置
JPH09228046A (ja) 巻き取り式成膜装置
JPH0594794A (ja) イオンソースグリツド
JPH03291375A (ja) イオン源装置、および連続蒸着媒体の製造方法
JPH04228570A (ja) 巻取式薄膜形成装置
JPH0765165B2 (ja) 薄膜蒸着装置