JPS6045509B2 - Semiconductor read-only memory - Google Patents

Semiconductor read-only memory

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JPS6045509B2
JPS6045509B2 JP58213961A JP21396183A JPS6045509B2 JP S6045509 B2 JPS6045509 B2 JP S6045509B2 JP 58213961 A JP58213961 A JP 58213961A JP 21396183 A JP21396183 A JP 21396183A JP S6045509 B2 JPS6045509 B2 JP S6045509B2
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JP
Japan
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output
circuit
memory
series
mosfets
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JP58213961A
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JPS59132497A (en
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英夫 原
治夫 慶田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards

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  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体リードオンリメモリ(以下ROMと称す
)に関し、特に1本の出力線に対し複数個の絶縁ゲート
型電界効果トランジスタ(以下単にFETと称す)が直
列に接続されたROMに関するものであるにのようなも
のを縦型方式のROMと称す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor read-only memory (hereinafter referred to as ROM), and in particular to a semiconductor read-only memory (hereinafter referred to as ROM), in which a plurality of insulated gate field effect transistors (hereinafter simply referred to as FETs) are connected in series to one output line. ROMs such as those shown in FIG. 1 are referred to as vertical ROMs.

縦型方式のROMとしては、特願昭50−107350
に提案したようなものがある。
As a vertical type ROM, Japanese Patent Application No. 1973-107350
There is something similar to what was proposed.

その一例を第1図に示す。この例においては、出力端子
ADoと接地間にキヤパシターC、が接続され、負電源
−VDDと出力端子間にMOSFETM。
An example is shown in FIG. In this example, a capacitor C is connected between the output terminal ADo and ground, and a MOSFET is connected between the negative power supply -VDD and the output terminal.

が接続され、出力端子と接地間に上記キヤパシターC1
と並列にMOSFETMIないしMnが直列接続されて
いる。MOSFETMoは上記キヤパシターC1にプリ
チヤージするためのスイッチとして働き、直列接続され
たMOSFETM、ないしMnは入力AlないしAnを
受けるスイッチとして働く。
is connected, and the above capacitor C1 is connected between the output terminal and ground.
MOSFETs MI to Mn are connected in series in parallel with . MOSFETMo functions as a switch for precharging the capacitor C1, and the series-connected MOSFETs M to Mn function as switches for receiving inputs Al to An.

この例ではMOSFETM。はデプレツシヨン型であり
、入カヘを受けるゲート電極の電位にかかわらず、オン
している。すなわち、M2のソースドレイン間には電流
通路が形成されている。これに対し、MOSFETM、
、Mn−、、Mnはエンハンスメント型であり、ゲート
電位によりオンオフする。したがつて出力端子ADoと
接地間には上記エンハンスメント型MOSFETフの全
てがオンしていれば電流通路がつくられるし、どれか1
つでもオフしていれば電流回路がつくられない。この例
では、第2図にタイムチャートを示すように、先ずクロ
ック信号φXが負電位−VDDとな5ることによりFE
TMoがオンし、キヤパシターC1にチャージアップさ
れる。
In this example, it is MOSFET. is a depletion type and remains on regardless of the potential of the gate electrode that receives input air. That is, a current path is formed between the source and drain of M2. On the other hand, MOSFETM,
, Mn-, , Mn are enhancement type and are turned on and off depending on the gate potential. Therefore, a current path is created between the output terminal ADo and the ground if all of the enhancement type MOSFETs are on, and if any one
If it is off at all times, a current circuit cannot be created. In this example, as shown in the time chart in FIG.
TMo is turned on and the capacitor C1 is charged up.

次いでクロック信号φゅのレベルが再び接地電位GND
にもどる。このとき、前記直列接続されたFETMlな
いしMnのうち、少なくとも1個がオフしていれば、キ
ャパシターC1の電荷は放電しない。したがつて、キャ
パシターC1の両端はプリチャージされたときのまま電
圧を維持する。FETMlないしMnの全てに電流通路
ができればキャパシターC1の電荷は放電する。
Then, the level of the clock signal φu returns to the ground potential GND.
Return to At this time, if at least one of the series-connected FETs Ml to Mn is off, the charge in the capacitor C1 is not discharged. Therefore, the voltage across the capacitor C1 remains as it was when it was precharged. If a current path is established in all of FET Ml to Mn, the charge in capacitor C1 will be discharged.

このキャパシターC1の両端の電圧は最終的に零となる
。この回路では、FETMlないしMnのどれか1つが
オフしているなら、キャパシターC1のプリチャージさ
れた電荷の変化が無いのでプリチャージ後、直ちに出力
端子ADOからの出力信号を利用してもさしつかえない
。しかしながら、Miないし■に電流通路が形成されて
いるときは、プリチャージ後のキャパシターCェの電荷
は直ちに0にならない。
The voltage across this capacitor C1 eventually becomes zero. In this circuit, if one of the FETs Ml to Mn is off, there is no change in the precharged charge of the capacitor C1, so it is okay to use the output signal from the output terminal ADO immediately after precharging. . However, when a current path is formed between Mi and (2), the charge of the capacitor C after precharging does not immediately become zero.

このときキャパシターは、オン状態におけるFETMl
ないしMnのソースドレイン間の直列接続された抵抗に
より短絡された状態となり入力A1ないしAnに応じて
出力端子ADOの電位が適正な値となるまでに時間ちを
要する。したがつて出力端子ADOを入力端子に接続す
る次の回路(図示しない)は、第1図の回路がプリチャ
ージされてからt1時間経過した後人力信号を受けるよ
うにされる。
At this time, the capacitor is FET Ml in the on state.
Since the resistors connected in series between the source and drain of Mn to Mn become short-circuited, it takes time for the potential of the output terminal ADO to reach an appropriate value in accordance with the inputs A1 to An. The next circuit (not shown) connecting the output terminal ADO to the input terminal is therefore made to receive the human input signal after a time t1 after the circuit of FIG. 1 has been precharged.

第1図の回路は、出力端子鳩。The circuit in Figure 1 is an output terminal pigeon.

と接地間に直列接続されたMOSFETを選択的にエン
ハンスメント型、デプレツシヨン型にすることにより、
入力A1ないしAnに対する論理を任意に変更できる。
このような論理の変更方法はマトリクス配置されたMO
SFETによつてROMを構成するときに適する。例え
ばマトリクス配置されたMOSFETのうち列方向に配
置されたMOSFETのソース・ドレインを直列接続し
、この列と直交する方向にゲ.ート電極とする複数の入
力配線、例えは第1図のA1ないしA..およびφぇを
はわせ、上記MOSFETのうち、選択されたものをデ
プレツシヨン型とする。このようにするとマトリクス配
置の各列からそれぞれ所望の論理出力を取り出すことが
でき・る。第1図の例はまた電源−VDDにはクロック
パルスφXが負電位になつたときのみ電流が流れるのみ
であるので低消費電力である。
By selectively making the MOSFETs connected in series between and ground into enhancement type or depletion type,
The logic for inputs A1 to An can be changed arbitrarily.
This method of changing the logic is based on MOs arranged in a matrix.
Suitable when configuring a ROM using SFETs. For example, among MOSFETs arranged in a matrix, the sources and drains of MOSFETs arranged in a column direction are connected in series, and a gate electrode is connected in series in a direction perpendicular to the columns. A plurality of input wirings serving as ground electrodes, for example A1 to A. .. and φe, and the selected MOSFET is made into a depletion type MOSFET. In this way, desired logic outputs can be extracted from each column of the matrix arrangement. The example shown in FIG. 1 also has low power consumption because current flows through the power supply -VDD only when the clock pulse φX becomes a negative potential.

しかしながら、この回路は、沢山の入力信号を受ける
ために沢山のMOSFETを直列接続すると、この直列
接続MOSFETのソース●ドレイン間抵抗が増加し、
したがつて信号を入力してから7出力端子に充分なレベ
ルの信号が得られるようになるまでの時間を長くしなけ
ればならない。
However, when this circuit connects many MOSFETs in series to receive many input signals, the source-drain resistance of the series-connected MOSFETs increases.
Therefore, it is necessary to increase the time from when a signal is input until a signal of sufficient level can be obtained at the 7 output terminals.

すなわちアクセス時間が長くなる。 したがつて、本発
明の目的とするところは、アクセスタイムの高速化を図
つたROMを提供するOことにある。
In other words, the access time becomes longer. Therefore, it is an object of the present invention to provide a ROM with faster access time.

本発明の他の目的は簡単な構成でアクセスタイムの高
速化が図れるROMを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a ROM that has a simple configuration and can achieve faster access times.

上記目的を達成するため本発明では直列接続をク要す
るMOSFETが複数のグループに分割され、この複数
のグループからの出力信号が後で合成される。
In order to achieve the above object, according to the present invention, MOSFETs that require series connection are divided into a plurality of groups, and the output signals from the plurality of groups are later combined.

以下実施例を説明する。 Examples will be described below.

第3図において、2は第1のROM回路、3はl第2
のROM回路、4はNOR回路、5はインバータである
In FIG. 3, 2 is the first ROM circuit, 3 is the second ROM circuit, and 3 is the second ROM circuit.
4 is a NOR circuit, and 5 is an inverter.

ROM回路2は出力端子01と負電源−■。ROM circuit 2 has output terminal 01 and negative power supply -■.

。との間にキャパシターC1へのプリチャージのための
MOSFETMOlが接続され、出力端子01と接地間
にMOSFETMllないしMlnが直列接続されてい
る。MOSFETMOlのゲートはクロックパルスφ8
のための端子に接続され、MOSFETMllないしM
lnのゲートはそれぞれ入力信号AllないしAlnを
受けるための端子に接続されている。ROM回路3は出
力端子02と負電源−■DDとの間にキャパシターC2
へのプリチャージのためのMOSFETMO2が接続さ
れ、出力端子02と接地間にMOSFETM2lないし
M2nが直列接続されている。
. A MOSFET MOl for precharging the capacitor C1 is connected between the output terminal 01 and the ground, and MOSFETs Mll to Mln are connected in series between the output terminal 01 and the ground. The gate of MOSFET MOl is clock pulse φ8
is connected to the terminal for MOSFET Mll to M
The gates of ln are respectively connected to terminals for receiving input signals All to Aln. The ROM circuit 3 has a capacitor C2 between the output terminal 02 and the negative power supply -DD.
A MOSFET MO2 for precharging is connected, and MOSFETs M2l to M2n are connected in series between the output terminal 02 and ground.

MOSFETMO2のゲートはクロックパルスφxのた
めの端子に接続され、MOSFETM2lないしM2.
.のゲートはそれぞれ入力信号A2lないしA2j,を
受けるための端子に接続されている。 この例において
、本発明を制限するものでないが全てのMOSFETは
Pチャンネル型であり、こ′ れらは周知の製造技術
によつて1つのN型シリコン基板上につくられている。
The gate of MOSFET MO2 is connected to the terminal for clock pulse φx, and the gate of MOSFET MO2 is connected to the terminal for clock pulse φx.
.. The gates of are connected to terminals for receiving input signals A2l to A2j, respectively. In this example, without limiting the invention, all MOSFETs are of the P-channel type and are fabricated on a single N-type silicon substrate by well-known fabrication techniques.

これらMOSFETのうちM33およびM35はデプレ
ツシヨン型であり、残りはエンハンスメント型である。
ROM回路2,3は、クロックパルスφ。
Of these MOSFETs, M33 and M35 are of the depletion type, and the rest are of the enhancement type.
The ROM circuits 2 and 3 receive a clock pulse φ.

によりそれぞれの出力端子01,02に接続されたキャ
パシターCl,C2に負電源からオン状態のMOSFE
TMOl,MO2を介してプリチャージされる。
The on-state MOSFE is connected to the capacitors Cl and C2 connected to the output terminals 01 and 02 from the negative power supply.
It is precharged via TMO1 and MO2.

次いてMOSFETMOl,MO2がオフしたとき、入
力信号AllないしAlnおよびA2lないしA2j.
の状態によつてキャパシターC1およびC2の電荷がM
OSFETMllないしMlnおよびM2lないしM2
n,の直列通路により放電させられるかどうかが決めら
れる。NOR回路4のMOSFETM3lのゲートはR
OM回路2の出力端子01に接続され、MOSFETM
32のゲートはROM回路3の出力端子02に接続され
ている。
Then, when MOSFET MOl, MO2 are turned off, input signals All to Aln and A2l to A2j.
Depending on the state of the capacitors C1 and C2, the charges M
OSFETM Mll to Mln and M2l to M2
The series path of n, determines whether it is discharged or not. The gate of MOSFET M3l of NOR circuit 4 is R
It is connected to the output terminal 01 of the OM circuit 2, and the MOSFET
The gate of 32 is connected to the output terminal 02 of the ROM circuit 3.

NOR回路4の出力端子、すなわち負荷MOSFETM
33とMOSFETM32との共通接続端子には、M3
lおよびM32の少なくとも一方がオフすれば負電源電
位が現われる。インバータ回路5は上記NOR回路4の
出力を反転する。
The output terminal of the NOR circuit 4, that is, the load MOSFET
The common connection terminal between 33 and MOSFET M32 has M3
When at least one of I and M32 is turned off, a negative power supply potential appears. The inverter circuit 5 inverts the output of the NOR circuit 4.

これら回路2ないし5により、出力端子03には、入力
信号AllないしA.およびA2lないしA2.nをそ
れぞれ受けるMOSFETMllないしMlnおよびM
,lないしM2mからなる2つの直列接続回路の少なく
とも一方がオンすると出力端子03には接地電位が現わ
れる。
These circuits 2 to 5 output input signals All to A to the output terminal 03. and A2l to A2. MOSFETs Mll to Mln and M each receiving n
, l to M2m, when at least one of the two series-connected circuits is turned on, a ground potential appears at the output terminal 03.

この第3の回路は、入力AllないしATnおよびA2
lないしA2..に同時に応答することができる。
This third circuit has inputs All to ATn and A2
l to A2. .. can be responded to at the same time.

入力信号がメモリ(図示しない)のためのアドレス信号
であり、図のようにしm=n=12なら、A。ないしA
lnのうちの1つとA.lないしA2.nのうちの1つ
との対を制御することにより、例えばAllないしAl
nを0ないし2047番地のためのデコーダ用とし、A
2lないしA6を2048ないし409幡地のためのデ
コーダ用として使用することができる。このようにm+
n個のMOSFETをm個とn個に分割する方法におい
てはm+n個のMOSFETの合成抵抗をm:nに分割
できるので、それぞれの出力端子01,02と接地間の
MOSFETの合成抵抗を減少できる。前記のようにm
=n=12なら、24個のMOSFETを直列接続する
場合に比べ半分にできる。他方、キャパシターC1はM
OSFETMllのドレインと半導体基板間およびM。
If the input signal is an address signal for a memory (not shown) and m=n=12 as shown, then A. or A
one of ln and A. l to A2. By controlling the pairing with one of n, for example, All to Al
Let n be a decoder for addresses 0 to 2047, and A
2l to A6 can be used as a decoder for 2048 to 409 fields. Like this m+
In the method of dividing n MOSFETs into m and n, the combined resistance of m+n MOSFETs can be divided into m:n, so the combined resistance of the MOSFETs between each output terminal 01, 02 and ground can be reduced. . m as above
= n = 12, it can be halved compared to the case where 24 MOSFETs are connected in series. On the other hand, capacitor C1 is M
between the drain of OSFETMll and the semiconductor substrate and M.

lのソースと半導体基板間のPn接合容量およびM3i
のゲートと半導体基板間の容量によつて構成され、同様
にキャパシターC2はr!402のソース、M2iのド
レインおよびM32のゲートと半導体基板問に形成され
る。これらキャパシターCl,C2のそれぞれの容量値
は前記第1図のC1とほとんど変らない。したがつて第
3図のROM回路2と3において直列接続されたMOS
FETのソース・ドレイン間抵抗とキャパシターCl,
C2とにより形成されるそれぞれの時定数回路の時定数
は、m+n個のFETを何ら分割しない場合に比べほぼ
半分となる。
Pn junction capacitance between the source of l and the semiconductor substrate and M3i
Similarly, capacitor C2 is configured by the capacitance between the gate of r! and the semiconductor substrate. It is formed between the source of 402, the drain of M2i, and the gate of M32 and the semiconductor substrate. The capacitance values of these capacitors Cl and C2 are almost the same as those of C1 in FIG. Therefore, the MOS connected in series in ROM circuits 2 and 3 in FIG.
FET source-drain resistance and capacitor Cl,
The time constant of each time constant circuit formed by C2 is approximately half that of the case where m+n FETs are not divided at all.

したがつて、MOSFETMOl,MO2によりキャパ
シターCl,C2をプリチャージしてから後、入力Al
lないしAlnおよびA2iないしA2mによりこれら
キャパシターCl,C2の電荷が放電して所望レベルに
なるまでの時間は第1図の回路を使用する楊合に比べほ
ぼ半減する。第3図の実施例において、回路の高速化の
ために、直列接続MOSFETの分割によりキャパシタ
ーCl,C2の放電用抵抗を半減する考えは、更に3分
割、4分割への考えへ拡張され得ることは明らかであろ
う。
Therefore, after precharging the capacitors Cl and C2 by the MOSFETs MOl and MO2, the input Al
The time it takes for the charges in these capacitors Cl and C2 to discharge to a desired level due to I to Aln and A2i to A2m is approximately halved compared to the case where the circuit of FIG. 1 is used. In the embodiment of FIG. 3, the idea of halving the discharging resistance of capacitors Cl and C2 by dividing the series-connected MOSFETs in order to speed up the circuit can be further extended to dividing into three or four. should be obvious.

第3図では、出力端子01もしくは02のいずれか一方
が接地電位となつたとき出力端子03に接地電位が出力
されるようにされたが、必要によつては出力端子01お
よび02が同時に接地電位になつたとき出力端:FO3
に接地電位が出力されるようにすることもできる。
In Fig. 3, the ground potential is output to the output terminal 03 when either output terminal 01 or 02 becomes the ground potential, but if necessary, the output terminals 01 and 02 may be grounded at the same time. Output terminal when the potential is reached: FO3
It is also possible to output a ground potential to the terminal.

このような要求に対しては第3図のNOR回路4に代つ
て第4図のようなNAND回路を使用することができる
For such a request, a NAND circuit as shown in FIG. 4 can be used in place of the NOR circuit 4 shown in FIG.

また第3図では、例えばROM回路3において、キャパ
シターC2へのプリチャージ時にMOSFETM2lな
いしM2..が全てオンしていると電源−■C.Dと接
地間に直流通路が形成される。
Further, in FIG. 3, for example, in the ROM circuit 3, when precharging the capacitor C2, MOSFETs M2l to M2. .. If all are on, the power -■C. A DC path is formed between D and ground.

このような直流通路が望ましくない場合は、第5図の門
ようにMOSFETM2、と接地間に、プリチャージ時
にオフするMOSFETMO3を挿入することができる
。第3図において、出力01と02とを合成するための
回路は更に他の回路に変更することが可能で)あり、イ
ンバータ回路3は必要に応じて省略することができる。
If such a DC path is not desirable, a MOSFET MO3 that turns off during precharging can be inserted between the MOSFET M2 and the ground as shown in FIG. In FIG. 3, the circuit for combining outputs 01 and 02 can be replaced with another circuit), and the inverter circuit 3 can be omitted if necessary.

第6図は第3図の実施例をメモリマトリクスに使用した
場合の応用例を示す。
FIG. 6 shows an example of application in which the embodiment of FIG. 3 is used in a memory matrix.

この例では同図に示すようにアドレスデコーダ3及びメ
インマトリクス出力ブロック4〜6をそれぞれ上下に2
分割し、それぞれを個別的に駆動できるようにする。
In this example, as shown in the figure, the address decoder 3 and main matrix output blocks 4 to 6 are arranged vertically in two directions.
Divide them so that they can each be driven individually.

すなわち、メモリマトリクスの第1の出力ブロック4を
4aと4bに、また第2の出力ブロック5を5aと5b
に、さらに第3の出力ブロック6を6aと6bに上下2
段に分割し、上段のメモリマトリクス4a〜6aは2分
割したうちの一方のアドレスデコーダ3aによつて駆動
し、下段のメモリマトリクス4b〜6bはアドレスデコ
ーダ3bによつて駆動する。そして、それぞれのメモリ
マトリクスの対応する出力ブロック4aと4b15aと
5b16aと6bの出力を0R回路L1〜Lを介して出
力V。l〜■oとして取り出す。以上のような構成の本
発明のROMでは、2分割されたアドレスデコーダのい
ずれか一方を選択することにより、その選択されたアド
レスデコーダによつて上下いずれかのメモリマトリクス
の出力ブロックを動作させることができる。
That is, the first output block 4 of the memory matrix is connected to 4a and 4b, and the second output block 5 is connected to 5a and 5b.
In addition, the third output block 6 is placed above and below 6a and 6b.
The memory matrices 4a to 6a in the upper stage are driven by one of the two divided address decoders 3a, and the memory matrices 4b to 6b in the lower stage are driven by the address decoder 3b. Then, the outputs of the corresponding output blocks 4a, 4b15a, 5b16a, and 6b of the respective memory matrices are output V via the 0R circuits L1 to L. Take out as l~■o. In the ROM of the present invention having the above configuration, by selecting one of the two divided address decoders, the output block of either the upper or lower memory matrix can be operated by the selected address decoder. I can do it.

すなわち、例えば、アドレスデコーダ3aが選択された
とすると、上段に存するメモリマトリクス4a〜6aか
らの情報を得ることができる。仮に出力ブロック4aの
出力が“゜1゛すなわち接地電位とすると、その出力ラ
イン01に“1゛2レベルが取り出され、このブロック
に対応する下段ブロック4bの出力ライン02が選択さ
れていない時は゜゜0゛レベル(すなわち負電位)とな
つているから0R回路Lの出力V。lに“1゛レベルが
得られる。以下同様にしてメモリマトリクス5aが0の
ときは0Rゲート回路L2の出力V。2に゜“0゛レベ
ル,が得られ、6aが1のときはV。
That is, for example, if address decoder 3a is selected, information from memory matrices 4a to 6a located in the upper stage can be obtained. If the output of the output block 4a is "゜1", that is, the ground potential, the "1゛2 level will be taken out to the output line 01, and when the output line 02 of the lower block 4b corresponding to this block is not selected, the output line 01 will be "゜゛. Since it is at 0゛ level (that is, negative potential), the output V of 0R circuit L. ``1'' level is obtained at l.Similarly, when memory matrix 5a is 0, the output of 0R gate circuit L2 is V. 2 is obtained at 0'' level, and when 6a is 1, V is output.

3が“゜r゛レベルとなる。また、アドレスデコーダ3
bが選択されたときは、下段のメモリマトリクスの出力
ブロック4b〜6bが動作可能となる。このようにして
上下いずれかの出力ブロックが選ばれているとき.にそ
の出力点に設けられているゲート回路の出力に選ばれた
ブロックの出力が得られることになる。以上の説明から
明らかなように、本発明によれば、分割された出力ブロ
ックが個別的に駆動され;ることになる。
3 becomes the "゜r゛ level. Also, the address decoder 3
When b is selected, the output blocks 4b to 6b of the lower memory matrix become operable. When either the upper or lower output block is selected in this way. Then, the output of the selected block is obtained as the output of the gate circuit provided at the output point. As is clear from the above description, according to the present invention, the divided output blocks are individually driven.

そして、それぞれ分割されたメモリマトリクスのライン
に直列接続されるFETの数は分割しない場合に比して
半分になる。このため、メモリマトリクス回路のディス
チャージ時間はほぼ半分になり、したがつてアクセスタ
イムも約2倍に高速化されることになる。また、本発明
は、その目的達成のために若干の数の0R回路(第5図
では!〜LJ)を追加するだけであり、その追加面積も
ROM全体として見た場合には殆んど無視できる程度の
ものであるから集積度に影響を与えることはない。 本
発明の他の例に従うと、アドレスデコーダが2つに分割
される。
The number of FETs connected in series to each divided memory matrix line is halved compared to the case where the memory matrix is not divided. Therefore, the discharge time of the memory matrix circuit is approximately halved, and the access time is therefore approximately doubled. In addition, the present invention only adds a small number of 0R circuits (!~LJ in Figure 5) to achieve its purpose, and the additional area is almost ignored when looking at the ROM as a whole. Since it is possible to do so, it does not affect the degree of integration. According to another example of the invention, the address decoder is divided into two parts.

メモリマトリクスの入力側にフ設けられた第1のアドレ
スデコーダから分割された第2のアドレスデコーダは、
メモリマトリクスとそのプリチャージ用MOSFETと
の間に挿入される。この様にして、第1及び第2のアド
レスデコーダによつてメモリマトリクスのどの列を有効
・にするかを決めることができる。 この第2のアドレ
スデコーダを使用する回路は次の第7図に示した実施例
によつて理解されるであろう。
The second address decoder separated from the first address decoder provided on the input side of the memory matrix is
It is inserted between the memory matrix and its precharge MOSFET. In this way, it can be determined by the first and second address decoders which columns of the memory matrix are to be enabled. A circuit using this second address decoder will be understood by the embodiment shown in FIG. 7 below.

この第7図の例では、4キロビットROMの例を示す
The example of FIG. 7 shows an example of a 4 kilobit ROM.

同図では、本発明の特徴部分であるアドレスデコーダと
メモリマトリクス部分の接続関係を重点的に示す。他の
タイミングパルス印加部分、出力信号取扱い部分等は図
示していない。 図においてラインADs3の例を第9
図に示すように、丸印はエンハンスメント型MOSFE
Tが有ることを示し、矢印は、この矢印の示す位置にお
いてMOSFETのゲートラインが有ることを示す。
この例は一部を省略した形式で書かれているが1つのア
ドレス入力に対し、8ビットの情報V。lないしV。8
が出力する。3a1はアドレス信号A,〜Allが印加
される上段第1のアドレスデコーダであり、アドレスデ
コードラインADO−AD63に対してMOSFETが
それぞi れ任意に直列接続される。
In this figure, the connection relationship between the address decoder and the memory matrix section, which is a characteristic part of the present invention, is mainly shown. Other timing pulse application parts, output signal handling parts, etc. are not shown. In the figure, the example of line ADs3 is
As shown in the figure, the circles are enhancement type MOSFEs.
The arrow indicates that there is a MOSFET gate line at the position indicated by the arrow.
This example is written in a format with some parts omitted, but for one address input, 8 bits of information V. L or V. 8
outputs. 3a1 is an upper-stage first address decoder to which address signals A, .about.All are applied, and MOSFETs are arbitrarily connected in series to address decode lines ADO-AD63.

3a21,3a.22は4本のアドレス信号ん〜A3が
印加される上段第2のアドレスデコーダであり(データ
ラインにMOSFETがそれぞれ任意に直列接続される
3a21, 3a. Reference numeral 22 designates an upper second address decoder to which four address signals A3 to A3 are applied (MOSFETs are arbitrarily connected in series to the data lines, respectively).

また、3b1はアドレス信号A4〜Allが印加される
下( 段の第1のアドレスデコーダであり、アドレス
デコードラインAD64〜ADl27にMOSFETが
任意に直列接続される。3b21,3Y)22はアドレ
ス信号A。
Further, 3b1 is the first address decoder of the stage to which the address signals A4 to All are applied, and MOSFETs are arbitrarily connected in series to the address decode lines AD64 to ADl27. 3b21, 3Y) 22 is the address signal A .

〜A3が印加される下段第2のアドレスデコーダであり
データラインに任意に直列接続されたMOSFETから
なる。さらに、4a,5aは上段メモリマトリクスの出
力ブロックであり、4b,5bは上記4a,5aに対応
する下段メモリマトリクスの出力ブロックである。そし
て、出力ブロック4a,4bの出力はそれぞれアドレス
デコーダ3a2,,31),1を介して0R回路L1の
入力点に印加され、出力ブロック5a,5bの出力はそ
れぞれアドレスデコーダ3a22,3b,2を介して0
R回路!の入力点に印加される。0R回路!ないしL8
の出力V。
This is the second address decoder in the lower stage to which ~A3 is applied, and is composed of MOSFETs arbitrarily connected in series to the data line. Further, 4a and 5a are output blocks of the upper memory matrix, and 4b and 5b are output blocks of the lower memory matrix corresponding to 4a and 5a. The outputs of output blocks 4a and 4b are applied to the input point of 0R circuit L1 via address decoders 3a2, 31), 1, respectively, and the outputs of output blocks 5a and 5b are applied to address decoders 3a22, 3b, 2, respectively. via 0
R circuit! is applied to the input point of 0R circuit! Or L8
output V.

lないしV。8をROMの出力とする。L or V. 8 is the output of the ROM.

なお、LO,L,〜L6はインバータであり、特に、L
Oは最上段に存するアドレスラインAllに連らなつて
おり、アドレスデコーダ3a1と3b1を切替えて動作
させるためのものである。第7図図示の回路は同一半導
体基板に形成される。
Note that LO, L, ~L6 are inverters, and in particular, L
0 is connected to the address line All at the top stage, and is used to switch and operate the address decoders 3a1 and 3b1. The circuit shown in FIG. 7 is formed on the same semiconductor substrate.

アドレスデコードラインAD63近傍の半導体基板の平
面図を第8図Aに示す。第8図A−A″における断面図
すなわちアドレスデコードラインAD63に関連する部
分の断面を第8図Bに示す。第8図においてMOSFE
TはPチャンネル型であり、N型シリコン基板10上に
つくられている。
A plan view of the semiconductor substrate in the vicinity of address decode line AD63 is shown in FIG. 8A. FIG. 8B shows a cross-sectional view taken along line A-A'' in FIG.
T is a P-channel type and is fabricated on an N-type silicon substrate 10.

第8図Aにおいて、破線はP型領域を示し、二点鎖線は
ポリシリコン層を示し、実線はアルミニウム電極を示す
。一点鎖線は酸化膜31またはCVD法によるシリコン
酸化膜32に孔を設けてアルミニウム電極とP型領域お
よび基板もしくはポリシリコン層とをコンタクトさせて
いる部分を示している。MOSFETQlないしQ2の
ソース●ドレインは図面上で横方向に配置されている(
このQ1ないしQ7はアドレスデコーダ3a1のための
ものである)。
In FIG. 8A, the broken line shows the P-type region, the two-dot chain line shows the polysilicon layer, and the solid line shows the aluminum electrode. The one-dot chain line indicates a portion where a hole is provided in the oxide film 31 or the silicon oxide film 32 formed by the CVD method to bring the aluminum electrode into contact with the P-type region and the substrate or polysilicon layer. The sources and drains of MOSFETs Ql and Q2 are arranged horizontally in the drawing (
Q1 to Q7 are for address decoder 3a1).

Q1のソース領域11は電極31により基板10と短絡
され、ドレイン領域12はQ2のソース領域と共通構造
になつている。各P型領域11ないし30の対ではさま
れた部分の基板表面にはMOSFETのゲート領域のた
めの薄い酸化膜が形成されている。各ゲート領域上には
ポリシリコン層All9AlO9■9φX9AD563
が延長している〇この例では、Q2,Q,がデプレツシ
ヨン型であり、それぞれAlO,瓦b信号レベルにかか
わらず、常時オン状態である。このデプレツシヨン型M
OSFETは、第7図のマトリクス3a1,3a21,
3a22,3b1,3b21,3Y)22,4a,4b
,5aおよび5bの丸印がつけられたエンハンス型MO
SFETを示す交点以外の交点に配置される。
The source region 11 of Q1 is short-circuited to the substrate 10 by an electrode 31, and the drain region 12 has a common structure with the source region of Q2. A thin oxide film for a gate region of a MOSFET is formed on the surface of the substrate in a portion sandwiched between each pair of P-type regions 11 to 30. On each gate region is a polysilicon layer All9AlO9■9φX9AD563
In this example, Q2 and Q are depletion type, and are always on regardless of the AlO and tile b signal levels, respectively. This depression type M
The OSFETs are arranged in matrices 3a1, 3a21, and 3a21 in FIG.
3a22, 3b1, 3b21, 3Y) 22, 4a, 4b
, 5a and 5b are marked with circles.
It is placed at an intersection other than the intersection indicating the SFET.

FETQ8,Ql3のソース・ドレイン領域は図面上で
縦方向に配置されている。このQ8,Ql3はメモリマ
トリクス4a,5aのためのものである。以上のような
ROMによれば、インバータL。によつていずれかのア
ドレスデコーダ3a1又は3b1が選ばれると他方のア
ドレスデコーダは非選択となる。また0R回路レ及び!
によつて必ず1つの単位ブロックの信号が読み出される
ものとなることより通常のROMとしての機能を有する
とともに、前述のようにアクセスタイムの高速化が図れ
るROMとなる。上記第7図の実施例によれば、第1の
アドレスデコーダ3a1(3b1)と第2のアドレスデ
コーダ3a21,3a22・・・・ ・(3b2、,3
b2。
The source and drain regions of FETQ8 and Ql3 are arranged vertically in the drawing. These Q8 and Ql3 are for the memory matrices 4a and 5a. According to the above ROM, the inverter L. When either address decoder 3a1 or 3b1 is selected by , the other address decoder becomes non-selected. Also, 0R circuit and!
As a result, the signal of one unit block is always read out, so that the ROM has the function of a normal ROM and can achieve high-speed access time as described above. According to the embodiment shown in FIG. 7, the first address decoder 3a1 (3b1) and the second address decoders 3a21, 3a22... (3b2, 3
b2.

・・ ・・・りとが設けられる。各第2のアドレスデコ
ーダ例えば3!は、メモリマトリクス4aと信号φYに
よつて駆動されるプリチャージ用FETとの間に挿入さ
れる。従つてこの場合には、メモリマトリクスの各列は
、上記第2のアドレスデコーダを構成するFET列に対
応する分だけ余計にプリチャージに要する時間が増える
ことになる。しかしながら、上記第2のアドレスデコー
ダを設けることにより、ROM全体から見ると、プリチ
ャージ時間の短縮を図ることができる。すなわち、RO
Mにおけるプリチャージ時間は、上記信号φYによるメ
モリマトリクス4aへのプリチャージ時間のみならず、
信号φxによる第1のアドレスデコーダ37a1へのプ
リチャージ時間によつて決まる。特に、第1のアドレス
デコーダへのプリチャージにおいては、上記第1のアド
レスデコーダを構成する縦続FET列へのプリチャージ
の他に上記メモリマトリクスを構成するFETのゲート
容量に対して5もプリチャージがなされなければならな
いので、比較的長いプリチャージ時間を要する。その結
果、ROMにおけるプリチャージ時間が、第1のアドレ
スデコーダ3a1へのプリチャージ時間に左右されるこ
とになる。したがつて本実施例の様Oに、アドレスデコ
ーダを分割して第1のアドレスデコーダへのプリチャー
ジ時間を実質的に短縮することが、ROM全体から見た
場合のプリチャージ時間の短縮に寄与しうることになる
。本発明は上記実施例に限定されす種々の変形を用いる
ことができる。
・・・・・・Rito will be established. Each second address decoder e.g. 3! is inserted between memory matrix 4a and a precharge FET driven by signal φY. Therefore, in this case, the time required for precharging each column of the memory matrix increases by an amount corresponding to the FET column constituting the second address decoder. However, by providing the second address decoder, the precharge time can be shortened from the perspective of the ROM as a whole. That is, R.O.
The precharge time in M includes not only the precharge time to the memory matrix 4a by the signal φY, but also
It is determined by the precharging time of the first address decoder 37a1 by the signal φx. In particular, in precharging the first address decoder, in addition to precharging the series of cascaded FETs constituting the first address decoder, 5 is also precharged to the gate capacitance of the FET constituting the memory matrix. must be performed, which requires a relatively long precharge time. As a result, the precharge time in the ROM depends on the precharge time to the first address decoder 3a1. Therefore, as in this embodiment, dividing the address decoder and substantially shortening the precharging time to the first address decoder contributes to shortening the precharging time from the perspective of the entire ROM. It will be possible. The present invention is not limited to the embodiments described above, but various modifications can be made.

例えば上記実施例では各出力ブロックを2分割すること
にしたが、それ以上に分割することも可能であり、かか
る場合にはアクセスタイムの高速化が更に図れるものと
なる。
For example, in the above embodiment, each output block is divided into two parts, but it is also possible to divide each output block into more parts, and in such a case, the access time can be further increased.

また、上記実施例では上下の出力ブロックの出力を選択
するために0R回路を用いたがこれに限らず、各ブロッ
クの出力を直接出力回路に印加するものとしてもよい。
Further, in the above embodiment, the 0R circuit is used to select the output of the upper and lower output blocks, but the present invention is not limited to this, and the output of each block may be directly applied to the output circuit.

さらに、アドレスデコーダ3a1と3b1の選択手段と
してインバータL。を最も重みを大きくしてなる最上段
のアドレスライン(8Kビットの中間である2048ビ
ットのライン)Allに接続するものとしたが、これに
限らず他のアドレスラインに接続してもよい。しかし、
上記のようにアドレスラインAllに接続した方が分割
し易くなることは言うまでもいない。すなわち、上段の
アドレスデコーダ3a1,3a2が選択されたときは、
2046ビット以下のビットが読み出され、下段のアド
レスデコーダ3b1,31),が選ばれたときは204
6ビット以上,のビットが読み出されることになる。ま
た、ゲート電極の電位によりスイッチする必要のないF
ETを得るために、第8図にようなデプレツシヨン型で
なく、例えば第10図のように全てをエンハンスメント
型にしておき、必要に応2じ、アルミニウム電極31,
32でソース・ドレイン領域を短絡するようにすること
もできる。
Further, an inverter L is used as a selection means for address decoders 3a1 and 3b1. is connected to the uppermost address line (a line of 2048 bits, which is between 8K bits) with the largest weight, but the connection is not limited to this, and may be connected to other address lines. but,
Needless to say, it is easier to divide the signal if it is connected to the address line All as described above. That is, when the upper address decoders 3a1 and 3a2 are selected,
When 2046 bits or less are read and the lower address decoder 3b1, 31) is selected, 204 bits or less are read.
Six or more bits will be read. In addition, F
In order to obtain ET, everything is not a depletion type as shown in FIG. 8, but an enhancement type as shown in FIG. 10, and the aluminum electrode 31,
It is also possible to short-circuit the source/drain regions at 32.

第10図の方法はアルミニウムの抵抗が半導体領域より
もはるかに小さいことにより、抵抗を減少させることが
できる。本発明は、上記実施例のように狙ビットのRO
Mに適用できるのみならず、それ以外の容量のROMに
も広く適用できることは言うまでもない。
The method of FIG. 10 can reduce the resistance because the resistance of aluminum is much lower than that of the semiconductor region. The present invention provides the RO of the target bit as in the above embodiment.
Needless to say, the present invention is not only applicable to M, but also widely applicable to ROMs of other capacities.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の縦型ROMの一例を示す回路図、第2図
はその動作説明のためのタイミングチャート、第3図は
本発明の1実施例の回路図、第4図および第5図は第3
図の変形例の回路図、第6図は第3図の回路の応用例の
ブロック図、第7図は他の実施例の回路図、第8図Aは
第7図を半導体集積化したときのラインAD63近傍の
平面図、第8図Bは同図A(7)A−Nにおける断面図
、第9図は第7図の部分の回路図、第10図は他の半導
体集積回路の断面図、第11図は第7図のタイミングチ
ャートである。 1,3a,3b,3a1,3a21,3a22,3b1
,3b21,3b22・・・・アドレスデコーダ、2,
4a,5a,6a,4b,5b,6b・・・・・・メモ
リマトリクス出力ブロック、7・・・・・フリップフロ
ップ回路〜LOp′!o1ゲ7卜回路)Q1ゞQ649
MlゞMlO・・・・FET。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a conventional vertical ROM, FIG. 2 is a timing chart for explaining its operation, FIG. 3 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention, and FIGS. 4 and 5 is the third
6 is a block diagram of an application example of the circuit in FIG. 3, FIG. 7 is a circuit diagram of another embodiment, and FIG. 8A is a circuit diagram of a modified example of the circuit in FIG. 7. FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line A(7)AN in the figure, FIG. 9 is a circuit diagram of the portion shown in FIG. 7, and FIG. 10 is a cross-section of another semiconductor integrated circuit. 11 is a timing chart of FIG. 7. 1, 3a, 3b, 3a1, 3a21, 3a22, 3b1
, 3b21, 3b22...address decoder, 2,
4a, 5a, 6a, 4b, 5b, 6b...Memory matrix output block, 7...Flip-flop circuit~LOp'! o1 game 7 circuit) Q1ゞQ649
MlゞMlO...FET.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 それぞれ複数の出力点と上記複数の出力点のそれぞ
れと所定電位点との間に互いに直列に接続される複数の
FETを有する複数の直列回路とを含む複数のメモリブ
ロックと、上記複数のメモリブロックの出力を受けるゲ
ート回路とを備え、上記ゲート回路によつて上記複数の
メモリブロックの出力のうちの1つを取り出すようにし
て成る半導体リードオンリメモリであつて、上記ゲート
回路は、上記複数のメモリブロックのそれぞれの出力を
受ける複数の入力点を有し、メモリブロックのそれぞれ
の出力点がアドレス信号にもとづいてスイッチ制御され
るFETを介して上記ゲート回路の入力点に結合される
ようにされてなることを特徴とする半導体リードオンリ
メモリ。 2 上記ゲート回路は、その出力の電位が上記複数の入
力点の電位に応じて定められるように構成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体リー
ドオンリメモリ。
[Claims] 1. A plurality of memory blocks each including a plurality of output points and a plurality of series circuits each having a plurality of FETs connected in series between each of the plurality of output points and a predetermined potential point. and a gate circuit receiving outputs from the plurality of memory blocks, the semiconductor read-only memory comprising: a gate circuit receiving outputs from the plurality of memory blocks, the gate circuit taking out one of the outputs from the plurality of memory blocks; The gate circuit has a plurality of input points that receive outputs from each of the plurality of memory blocks, and each output point of the memory block is connected to the input point of the gate circuit via an FET whose switch is controlled based on an address signal. A semiconductor read-only memory characterized by being coupled to a semiconductor. 2. The semiconductor read-only memory according to claim 1, wherein the gate circuit is configured such that the potential of its output is determined according to the potentials of the plurality of input points.
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