JPS6042801B2 - 紫外線照射に依り重合可能の混合物 - Google Patents
紫外線照射に依り重合可能の混合物Info
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 31
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 title claims 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 aromatic sulfonic acids Chemical class 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 6
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000002026 chloroform extract Substances 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006700 (C1-C6) alkylthio group Chemical group 0.000 description 1
- RNHDAKUGFHSZEV-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane;hydrate Chemical compound O.C1COCCO1 RNHDAKUGFHSZEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWTKJPFBOJYYEG-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-amino-3-oxoprop-1-enyl)phenyl]prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=CC1=CC=CC(C=CC(N)=O)=C1 PWTKJPFBOJYYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006497 3-methoxybenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006181 4-methyl benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFFRSDWQMJYQNE-UHFFFAOYSA-N 6-azaniumylhexylazanium;hexanedioate Chemical compound [NH3+]CCCCCC[NH3+].[O-]C(=O)CCCCC([O-])=O UFFRSDWQMJYQNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100097467 Arabidopsis thaliana SYD gene Proteins 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical group N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- 101100495925 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) chr3 gene Proteins 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde dimethyl acetal Natural products COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVVXFPNTQJIKNH-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) sulfate Chemical compound C=CCOS(=O)(=O)OCC=C KVVXFPNTQJIKNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- YYOPMOJGBLCDKZ-UHFFFAOYSA-N bromomethylbenzene sulfuric acid Chemical compound S(O)(O)(=O)=O.C(C1=CC=CC=C1)Br YYOPMOJGBLCDKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000011094 fiberboard Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 210000004905 finger nail Anatomy 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEZVWXXAUZTXJR-UHFFFAOYSA-N n-[[3-[(prop-2-enoylamino)methyl]phenyl]methyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCC1=CC=CC(CNC(=O)C=C)=C1 PEZVWXXAUZTXJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- WBGWGHYJIFOATF-UHFFFAOYSA-M potassium;methyl sulfate Chemical compound [K+].COS([O-])(=O)=O WBGWGHYJIFOATF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 210000003296 saliva Anatomy 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004250 tert-Butylhydroquinone Substances 0.000 description 1
- 235000019281 tert-butylhydroquinone Nutrition 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
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Description
【発明の詳細な説明】
特許第1259812号(特公昭59−28204号公
報)は、(a)少くとも1つの重合可能のC−C−多重
結合を有する化合物又は斯かる化合物を含有する混合物
と(b)光重合開始剤及び場合に依り普通の添加物質と
の紫外線照射に依り重合可能の混合物に係り、その特徴
とする所は光重合開始剤として式R−−A−−C−C−
Λ−R’)1よ石 XX’ (式中R及びR’はH)Cl、同一又は異なる種類のC
l−C4−アルキル−、Cl−C4−アルコキシ−、又
はCl−C4−アルコキシアルキルー残基を意味し、X
及びX’はC、−Co−アルキル−又はC、−Co−ア
ルコキシアルキル−残基を意味し、又はX及びX’は一
緒にてCnH2nを意味し、nは2乃至8を意味し、A
及びA’は同一又は異なる種類の6員の芳香族残基を意
味する)の芳香族1・2芳香ケトンのモノケタールを含
有する点に存する。
報)は、(a)少くとも1つの重合可能のC−C−多重
結合を有する化合物又は斯かる化合物を含有する混合物
と(b)光重合開始剤及び場合に依り普通の添加物質と
の紫外線照射に依り重合可能の混合物に係り、その特徴
とする所は光重合開始剤として式R−−A−−C−C−
Λ−R’)1よ石 XX’ (式中R及びR’はH)Cl、同一又は異なる種類のC
l−C4−アルキル−、Cl−C4−アルコキシ−、又
はCl−C4−アルコキシアルキルー残基を意味し、X
及びX’はC、−Co−アルキル−又はC、−Co−ア
ルコキシアルキル−残基を意味し、又はX及びX’は一
緒にてCnH2nを意味し、nは2乃至8を意味し、A
及びA’は同一又は異なる種類の6員の芳香族残基を意
味する)の芳香族1・2芳香ケトンのモノケタールを含
有する点に存する。
然るに前記発明について更に研究を進めた結果、容易に
製造可能にして且つ重合可能の混合物或は塊中にてその
普通の処理及び貯蔵に際し充分に安定であり、他方に於
ては塊の光硬化に際し良好な反応性を有し、且つこの場
合その特に僅少な黄変を生ずるに過ぎない芳香族1・2
ージケトンの新規の非環式非対称のモノケタールが見出
された。従て本発明は(a)少くとも1つの重合可能の
C−C一多重結合を有する化合物又は斯かる化合物を含
有する混合物と(b)特許第1259812号(特公昭
59−28204号公報)に依る光重合開始剤としての
芳香族1・2ージケトンのモノケタールとの紫外線照射
に依り重合可能の混合物に係り、その特徴とする所は、
芳香族1・2ージケトンのモノケタールとして次の式(
1)(式中 A1及びA2は場合に依り置換基を有する同一又は異な
る芳香族残基、且つR1及びR2は互に異なる基であつ
て、場合に依り置換基を有する炭素原子1乃至12個を
有する炭化水素残基を示す)非環式非対称のモノケター
ルを含有する点に存する。
製造可能にして且つ重合可能の混合物或は塊中にてその
普通の処理及び貯蔵に際し充分に安定であり、他方に於
ては塊の光硬化に際し良好な反応性を有し、且つこの場
合その特に僅少な黄変を生ずるに過ぎない芳香族1・2
ージケトンの新規の非環式非対称のモノケタールが見出
された。従て本発明は(a)少くとも1つの重合可能の
C−C一多重結合を有する化合物又は斯かる化合物を含
有する混合物と(b)特許第1259812号(特公昭
59−28204号公報)に依る光重合開始剤としての
芳香族1・2ージケトンのモノケタールとの紫外線照射
に依り重合可能の混合物に係り、その特徴とする所は、
芳香族1・2ージケトンのモノケタールとして次の式(
1)(式中 A1及びA2は場合に依り置換基を有する同一又は異な
る芳香族残基、且つR1及びR2は互に異なる基であつ
て、場合に依り置換基を有する炭素原子1乃至12個を
有する炭化水素残基を示す)非環式非対称のモノケター
ルを含有する点に存する。
この種の芳香族1・2ージケトンの非環式非対称のモノ
ケタールは今まで知られていない。
ケタールは今まで知られていない。
本発明に依る混合物中に含有されている新規の光重合開
始剤は式(■)(式中A1及びA2は前記の意味を有す
る)に依る芳香族1・2ージケトンを有機溶剤中にてア
ルキル化剤(R1)NX及びアルコラート(R2O).
.Me(この場合R1及びR2は前記の意味を有し且つ
異なる残基を示し、n及びmは1乃至3の整数を示し、
−Xは一乃至三塩基性酸残基を意味し、Meは元素の周
期系の最初の3主属の金属を意味する)と反応せしめる
時は簡単且つ有利に製造される。
始剤は式(■)(式中A1及びA2は前記の意味を有す
る)に依る芳香族1・2ージケトンを有機溶剤中にてア
ルキル化剤(R1)NX及びアルコラート(R2O).
.Me(この場合R1及びR2は前記の意味を有し且つ
異なる残基を示し、n及びmは1乃至3の整数を示し、
−Xは一乃至三塩基性酸残基を意味し、Meは元素の周
期系の最初の3主属の金属を意味する)と反応せしめる
時は簡単且つ有利に製造される。
式■の適当な芳香族ケトンは、特にN及びA2が置換さ
れたペンゾールを示すものであつて、この場合置換基と
しては殊にC1一乃至Cl。一炭化水素残基例えばアル
キルー又はフェニル残基、C1一乃至ClO−アルコキ
シアルキル残基、C1一乃至ClO−アルコキシ残基、
C1一乃至C6−アルキルチオ残基又はハロゲン原子が
挙げられる。本発明に依るモノケタールが誘導される芳
香族1・2ージケトンの例は、ベンジル及び置換された
ベンジル例えば4●4″−ジメチルベンジル、4●4″
ージイソプロピルベンジル、4●4″−ジフェニルベン
ジル、2●2′ージメトキシベンジル、4・4″ージメ
トキシベンジル、4−メチルベンジル、3−メトキシベ
ンジル、2・2″−ジメチルベンジル、4−クロルー4
′−フェニルベンジル、4●4′ージクロルベンジル、
3●3′ージブロムベンジル、2・4・2″・4″−テ
トラメチルベンジル、2●4●6−トリメチルベンジル
、2●4ージクロルー4″−メチルベンジルである。
れたペンゾールを示すものであつて、この場合置換基と
しては殊にC1一乃至Cl。一炭化水素残基例えばアル
キルー又はフェニル残基、C1一乃至ClO−アルコキ
シアルキル残基、C1一乃至ClO−アルコキシ残基、
C1一乃至C6−アルキルチオ残基又はハロゲン原子が
挙げられる。本発明に依るモノケタールが誘導される芳
香族1・2ージケトンの例は、ベンジル及び置換された
ベンジル例えば4●4″−ジメチルベンジル、4●4″
ージイソプロピルベンジル、4●4″−ジフェニルベン
ジル、2●2′ージメトキシベンジル、4・4″ージメ
トキシベンジル、4−メチルベンジル、3−メトキシベ
ンジル、2・2″−ジメチルベンジル、4−クロルー4
′−フェニルベンジル、4●4′ージクロルベンジル、
3●3′ージブロムベンジル、2・4・2″・4″−テ
トラメチルベンジル、2●4●6−トリメチルベンジル
、2●4ージクロルー4″−メチルベンジルである。
これ等ベンジル誘導体の製造は文献中に記載されている
;製造は例えば相当するベンゾインの酸化に依り行われ
ることができる。非対称のモノケタールの製造のために
適するアルキル化剤は前記の式(R1)6Xを有し、且
つ一乃至三塩基性酸、殊に硫黄−、燐一又はハロゲン原
子を含有する酸のエステルである。
;製造は例えば相当するベンゾインの酸化に依り行われ
ることができる。非対称のモノケタールの製造のために
適するアルキル化剤は前記の式(R1)6Xを有し、且
つ一乃至三塩基性酸、殊に硫黄−、燐一又はハロゲン原
子を含有する酸のエステルである。
硫酸、亜硫酸、燐酸及び亜燐酸のエステル、ハロゲン化
水素酸のエステル例えばクロリド、プロミド及びヨジド
並びに脂肪族及び芳香族スルフォン酸のエステル例えば
メシラート、トシラート、プロシラート及びベンゾール
スルフオナートが挙げられる。スルフアート、ハロゲニ
ド及びスルフォン酸エステルが特に適し、これ等の中ス
ルフアート及びプロミドが殊に有利に使用される。アル
キル化剤に対する例はジメチルスルフアート、ジアリル
スルフアート、ジクロチルスルフアート、ベンジルプロ
ミド又はアリルプロミドである。残基R1は場合に依り
置換基を有する炭素原子1乃至12個を有する炭化水素
残基であつて、その中殊に相当するアルキルー(殊にC
1一乃至C6ーアルキルー)、アルアルキルー(殊にC
7一乃至C9一アルアルキル)−、アルケニルー(殊に
C3−乃至C5−アルケニルー)、アルアルケニルー(
殊にC9一又はCll−アルアルケニルー)一残基及び
基Z−(CHR3−CHR4)p一又はZ−(CHR3
)p−を挙げることができ、これ等式中pは1乃至3の
整数、R3及びR4はH又はCH3、且つZはハロゲン
原子又は0R5、SR5、0Ar又はSArを示し、R
5はC1一乃至C4−アルキル又はC1一乃至q−アル
コキシアルキルを示し、Nは6員の芳香族残基を示すこ
とができる。
水素酸のエステル例えばクロリド、プロミド及びヨジド
並びに脂肪族及び芳香族スルフォン酸のエステル例えば
メシラート、トシラート、プロシラート及びベンゾール
スルフオナートが挙げられる。スルフアート、ハロゲニ
ド及びスルフォン酸エステルが特に適し、これ等の中ス
ルフアート及びプロミドが殊に有利に使用される。アル
キル化剤に対する例はジメチルスルフアート、ジアリル
スルフアート、ジクロチルスルフアート、ベンジルプロ
ミド又はアリルプロミドである。残基R1は場合に依り
置換基を有する炭素原子1乃至12個を有する炭化水素
残基であつて、その中殊に相当するアルキルー(殊にC
1一乃至C6ーアルキルー)、アルアルキルー(殊にC
7一乃至C9一アルアルキル)−、アルケニルー(殊に
C3−乃至C5−アルケニルー)、アルアルケニルー(
殊にC9一又はCll−アルアルケニルー)一残基及び
基Z−(CHR3−CHR4)p一又はZ−(CHR3
)p−を挙げることができ、これ等式中pは1乃至3の
整数、R3及びR4はH又はCH3、且つZはハロゲン
原子又は0R5、SR5、0Ar又はSArを示し、R
5はC1一乃至C4−アルキル又はC1一乃至q−アル
コキシアルキルを示し、Nは6員の芳香族残基を示すこ
とができる。
アルコラートとしては、非対称のモノケタールを製造す
るために、アルキル化剤に相当しない残基R2を有する
アルコラートが使用され、従つて例えばジメチルスルフ
アートを使用する場合にはエチラート例えばナトリウム
エチラート又はカリウムメチラートが使用され、又はア
リルプロミドを使用する場合には例えばナトリウムメチ
ラートが使用される。
るために、アルキル化剤に相当しない残基R2を有する
アルコラートが使用され、従つて例えばジメチルスルフ
アートを使用する場合にはエチラート例えばナトリウム
エチラート又はカリウムメチラートが使用され、又はア
リルプロミドを使用する場合には例えばナトリウムメチ
ラートが使用される。
然らずんば残基R2の種類に関しては、残卑?1に対し
てなされた前記の記載が同様に該当する。ナトリウム及
びカリカムのアルコラートが殊に有利である。モノケタ
ールの製造のための有機溶剤の中、芳香族溶剤例えばペ
ンゾール又はトルオール及び殊にジメチルフォルムアミ
ド及びジオキサンが挙げられる。
てなされた前記の記載が同様に該当する。ナトリウム及
びカリカムのアルコラートが殊に有利である。モノケタ
ールの製造のための有機溶剤の中、芳香族溶剤例えばペ
ンゾール又はトルオール及び殊にジメチルフォルムアミ
ド及びジオキサンが挙げられる。
理論的にはモノケタールを製造するために、前記の式(
R1)NXのアルキル化剤1/nモルが1●2ージケト
ン1モル及び同様に前記の式(R2O)MMeのアルコ
ラート1/mモルと反応せしめられ、この場合n及びm
は芳香族1●2ージケトンの非対称のモノアセタールを
生成するために使用されるアルキル化剤或はアルコラー
トの式中の数n或はmに相当する。
R1)NXのアルキル化剤1/nモルが1●2ージケト
ン1モル及び同様に前記の式(R2O)MMeのアルコ
ラート1/mモルと反応せしめられ、この場合n及びm
は芳香族1●2ージケトンの非対称のモノアセタールを
生成するために使用されるアルキル化剤或はアルコラー
トの式中の数n或はmに相当する。
然し乍ら一般に完全な反応を達成するためには、若干の
反応関与体を過剰量.に於て使用するのが好ましい。即
ち1・2ージケトン1モルにつきアルキル化剤1/n乃
至10/nモル又は夫以上殊に1/n乃至4/nモル及
びアルコラート1/m乃至10/m又は夫以上殊に1/
m乃至4/mモルを使用することができる。反応.溶液
の処理の特に有利な可能性は、水の添加後溶剤を共沸蒸
溜に依り反応混合物より除去する点に存する。斯くして
特に冷却に際し水中に不溶性のモノアセタールが結晶性
物質として又は油状物質として屡々分析上純粋な形にて
又は分析上殆んど・純粋な形にて分離される。本発明に
依る混合物或は塊中に、前記の1・2ージケトンのモノ
アセタールが感光性混合物或は光重合可能の化合物に関
し0.01乃至1踵量%殊に0.05乃至約4重量%の
量に於て含有されているのが適当である。
反応関与体を過剰量.に於て使用するのが好ましい。即
ち1・2ージケトン1モルにつきアルキル化剤1/n乃
至10/nモル又は夫以上殊に1/n乃至4/nモル及
びアルコラート1/m乃至10/m又は夫以上殊に1/
m乃至4/mモルを使用することができる。反応.溶液
の処理の特に有利な可能性は、水の添加後溶剤を共沸蒸
溜に依り反応混合物より除去する点に存する。斯くして
特に冷却に際し水中に不溶性のモノアセタールが結晶性
物質として又は油状物質として屡々分析上純粋な形にて
又は分析上殆んど・純粋な形にて分離される。本発明に
依る混合物或は塊中に、前記の1・2ージケトンのモノ
アセタールが感光性混合物或は光重合可能の化合物に関
し0.01乃至1踵量%殊に0.05乃至約4重量%の
量に於て含有されているのが適当である。
本発明に依る混合物或は塊に対しては、光重合開始剤と
混合して重合せしめられることができる少くとも1つの
C−C一多重結合を有する総ての化合物が適する。
混合して重合せしめられることができる少くとも1つの
C−C一多重結合を有する総ての化合物が適する。
例えばアリ−ルー、カルボニルー、アミドー、エステル
ー、カルボキシー又はシアニドー基、ハロゲン原子又は
C−C−ニ重一又はC−C−三重結合に依り活性化され
たC−C一j二重結合を有する化合物及び物質が極めて
適する。例えばスチロール、ビニルトルオール、アクリ
ル酸及びメタクリル酸並びにそのエステル、シアニド又
はアミド例えばアクリルアミド、N−メチロールアクリ
ルアミド、グリコール1モル及びN−メチロールアクリ
ルアミド2モルよりのジエーテル、メタクリル酸メチル
エステル、メチレン−ビスーアクリルアミド、m−フエ
ニレンービスーアクリルアミド又はm−キシレンービス
ーアクリルアミド並びに少くとも2つの(メタ)アクリ
ル基を有するジウレタンが挙げられる。その混合物の夫
々の使用目的に対する選択が当業者に熟知されている光
重合可能の化合物には、公知の方法にて不飽和及び(又
は)飽和ポリマー及び(又は)公知の添加物質例えば熱
重合に対する抑制剤例えばヒドロキノン又は第3級ブチ
ルヒドロキノン、被膜形成物質例えばパラフィン、潤滑
剤例えばシリコン油、填料及び(又は)顔料又は染料が
普通の量に於て添加されていることができる。
ー、カルボキシー又はシアニドー基、ハロゲン原子又は
C−C−ニ重一又はC−C−三重結合に依り活性化され
たC−C一j二重結合を有する化合物及び物質が極めて
適する。例えばスチロール、ビニルトルオール、アクリ
ル酸及びメタクリル酸並びにそのエステル、シアニド又
はアミド例えばアクリルアミド、N−メチロールアクリ
ルアミド、グリコール1モル及びN−メチロールアクリ
ルアミド2モルよりのジエーテル、メタクリル酸メチル
エステル、メチレン−ビスーアクリルアミド、m−フエ
ニレンービスーアクリルアミド又はm−キシレンービス
ーアクリルアミド並びに少くとも2つの(メタ)アクリ
ル基を有するジウレタンが挙げられる。その混合物の夫
々の使用目的に対する選択が当業者に熟知されている光
重合可能の化合物には、公知の方法にて不飽和及び(又
は)飽和ポリマー及び(又は)公知の添加物質例えば熱
重合に対する抑制剤例えばヒドロキノン又は第3級ブチ
ルヒドロキノン、被膜形成物質例えばパラフィン、潤滑
剤例えばシリコン油、填料及び(又は)顔料又は染料が
普通の量に於て添加されていることができる。
斯かる混合物は当業者には公知であつて、添加物の種類
及び量は殊に混合物の使用様式に依り左右される。ポリ
エステル樹脂中に於ける新規の光重合開始剤は、紫外線
照射にて硬化可能の被膜の製造に際し特に適当であるこ
とが判明した。
及び量は殊に混合物の使用様式に依り左右される。ポリ
エステル樹脂中に於ける新規の光重合開始剤は、紫外線
照射にて硬化可能の被膜の製造に際し特に適当であるこ
とが判明した。
不飽和ポリエステル樹脂よりの適当な塊は、例えば(1
)普通の不飽和ポリエステル40乃至8唾量%:(2)
少くとも1つの共重合可能のオレフィン系不飽和モノマ
ー60乃至15重量%;(3)光重合開始剤0.5乃至
5重量%及び場合に依り(4)更に他の普通の添加物質
より成る。この場合適当な不飽和ポリエステル(1)は
、多価殊に2価のアルコールとエステル状に結合されて
おり、且つ場合に依り追加的に1価のカルボン酸の残基
及び(又は)1価のアルコールの残基及び(又は)ヒド
ロキシカルボン酸の残基を含有している多価殊に2価の
カルボン酸よりの普通の重縮合生成物である。
)普通の不飽和ポリエステル40乃至8唾量%:(2)
少くとも1つの共重合可能のオレフィン系不飽和モノマ
ー60乃至15重量%;(3)光重合開始剤0.5乃至
5重量%及び場合に依り(4)更に他の普通の添加物質
より成る。この場合適当な不飽和ポリエステル(1)は
、多価殊に2価のアルコールとエステル状に結合されて
おり、且つ場合に依り追加的に1価のカルボン酸の残基
及び(又は)1価のアルコールの残基及び(又は)ヒド
ロキシカルボン酸の残基を含有している多価殊に2価の
カルボン酸よりの普通の重縮合生成物である。
不飽和ポリエステル樹脂用のオレフィン系不飽和モノマ
ー化合物(2)としては、不飽和ポリエステルと共重合
可能の総て普通のモノマー化合物殊にビニルアロマート
例えばスチロール及びアクリル酸又はメタクリル酸と炭
素原子1乃至8個を有するアルカノールとのエステル例
えばアクリル酸一第3級一ブチルエステル又はメタクリ
ル酸メチルエステル、並びにこれ等モノマーの混合物が
適する。
ー化合物(2)としては、不飽和ポリエステルと共重合
可能の総て普通のモノマー化合物殊にビニルアロマート
例えばスチロール及びアクリル酸又はメタクリル酸と炭
素原子1乃至8個を有するアルカノールとのエステル例
えばアクリル酸一第3級一ブチルエステル又はメタクリ
ル酸メチルエステル、並びにこれ等モノマーの混合物が
適する。
有利に使用される混合物中には、成分(2)は60乃至
拓殊に50乃至25重量%まで含有されている。新規の
光重合開始剤は、光情報定着のシステムを製作するため
に、殊に光重合体版木又は光抵抗層を製作するために使
用される光重合可能の塊中に於ても有利である。このた
めに適当な少くとも1つの光重合可能のC−C一多重結
合を有する化合物との混合物は、主としては少くとも2
つの光重合可能のC−C−ニ重結合を有するモノマー、
例えば脂肪族ジオールのジ(メタ)アクリラート、炭素
原子2乃至8個を有する脂肪族又は芳香族ジアミンのビ
ス(メタ)アクリルアミド、又は少くとも2つの(メタ
)アクリル基の外にエステル又はアミド並びにウレタン
ー又は尿素基を含有するモノマー約10乃至(4)殊に
15乃至35重量%と有機溶剤例えばアルコール、ケト
ン又はエーテル中に可溶性のポリマー90717至菊殊
に85乃至65重量%との混合物である。
拓殊に50乃至25重量%まで含有されている。新規の
光重合開始剤は、光情報定着のシステムを製作するため
に、殊に光重合体版木又は光抵抗層を製作するために使
用される光重合可能の塊中に於ても有利である。このた
めに適当な少くとも1つの光重合可能のC−C一多重結
合を有する化合物との混合物は、主としては少くとも2
つの光重合可能のC−C−ニ重結合を有するモノマー、
例えば脂肪族ジオールのジ(メタ)アクリラート、炭素
原子2乃至8個を有する脂肪族又は芳香族ジアミンのビ
ス(メタ)アクリルアミド、又は少くとも2つの(メタ
)アクリル基の外にエステル又はアミド並びにウレタン
ー又は尿素基を含有するモノマー約10乃至(4)殊に
15乃至35重量%と有機溶剤例えばアルコール、ケト
ン又はエーテル中に可溶性のポリマー90717至菊殊
に85乃至65重量%との混合物である。
この場合ポリマーとしては、例えばコポリアミド例えば
ε一カプロラクタム、ヘキサメチレンージアンモニウム
ーアジパート及びPIP−ジアミノージシクロヘキシル
メタンーアジパートよりのコポリアミド、更に可溶性ポ
リウレタン、ポリ尿素、ブタジエンー又はイソプレン−
コポリマー並びにブ七ツクコポリマー又は可溶性繊維素
誘導体も挙げられる。適当なモノマー及び(又は)ポリ
マー及び(又は)混合物の選択及びその処理に関する詳
細な点は、当業者にとつて充分な程度に公知の特許文献
中に記載されている。
ε一カプロラクタム、ヘキサメチレンージアンモニウム
ーアジパート及びPIP−ジアミノージシクロヘキシル
メタンーアジパートよりのコポリアミド、更に可溶性ポ
リウレタン、ポリ尿素、ブタジエンー又はイソプレン−
コポリマー並びにブ七ツクコポリマー又は可溶性繊維素
誘導体も挙げられる。適当なモノマー及び(又は)ポリ
マー及び(又は)混合物の選択及びその処理に関する詳
細な点は、当業者にとつて充分な程度に公知の特許文献
中に記載されている。
混合物の光重合成は光網状化を惹起する光用の放射源と
しては、230乃至450r1rn,の波長の光を送出
するような放射源が特に有利に使用される。第一に30
075至380nmの範囲の放射極大を有する放射源又
はこの波長範囲の光の充分に高い割合を送出するような
放射源が挙げられる。水銀中圧放射器が特に適するが、
水銀高圧一又は水銀低圧放射器並びに超化学りん光体管
も適する。前記のランプは場合に依りドーピングされて
いることができる。本発明に依る新規の光重合開始剤を
含有する混合物は、被膜特にポリエステル樹脂をベース
とする被膜を製造するために、殊に光重合体印刷版を製
造するために、ホログラム、光抵抗ラツカー、ポロメル
皮(POrOmerfell)を製造するために、一般
に情報定着のために、且つ紫外線硬化可能の印刷インキ
のために適する。
しては、230乃至450r1rn,の波長の光を送出
するような放射源が特に有利に使用される。第一に30
075至380nmの範囲の放射極大を有する放射源又
はこの波長範囲の光の充分に高い割合を送出するような
放射源が挙げられる。水銀中圧放射器が特に適するが、
水銀高圧一又は水銀低圧放射器並びに超化学りん光体管
も適する。前記のランプは場合に依りドーピングされて
いることができる。本発明に依る新規の光重合開始剤を
含有する混合物は、被膜特にポリエステル樹脂をベース
とする被膜を製造するために、殊に光重合体印刷版を製
造するために、ホログラム、光抵抗ラツカー、ポロメル
皮(POrOmerfell)を製造するために、一般
に情報定着のために、且つ紫外線硬化可能の印刷インキ
のために適する。
ベンジルジメチルアセタールのタイプの対称ベンジルモ
ノアセタールを含有する混合物に比し、本発明に依る混
合物は硬化された塊の比較的僅少な黄変を惹起するに過
ぎないことに依り優れている。次の諸例中に挙げられた
部及び%は重量部及び重量%に係る。
ノアセタールを含有する混合物に比し、本発明に依る混
合物は硬化された塊の比較的僅少な黄変を惹起するに過
ぎないことに依り優れている。次の諸例中に挙げられた
部及び%は重量部及び重量%に係る。
容量部対重量部の比は′対Kgの比である。例1
ベンジル52.5部及びベンジルプロミドスルフアート
68.4部をジメチルフォルムアミド40喀量部中に溶
解せる溶液に、室温に於て攪拌しつつ3時間内にナトリ
ウムメチラート21.6部を少しづつ添加する。
68.4部をジメチルフォルムアミド40喀量部中に溶
解せる溶液に、室温に於て攪拌しつつ3時間内にナトリ
ウムメチラート21.6部を少しづつ添加する。
次に反応混合物をなお3紛間室温に於て攪拌し、次に水
200喀量部中に攪拌混入する。沈澱する沈澱を濾別し
、水にて洗滌し且つ乾燥す・る。次にこれを石油エーテ
ル15喀量部中に懸濁し、吸引p別し、石油エーテルに
て一度洗滌し且つ乾燥する。83乃至84℃の熔融点を
有するベンジルメチルベンジルモノアセタール62虹部
が得られる。
200喀量部中に攪拌混入する。沈澱する沈澱を濾別し
、水にて洗滌し且つ乾燥す・る。次にこれを石油エーテ
ル15喀量部中に懸濁し、吸引p別し、石油エーテルに
て一度洗滌し且つ乾燥する。83乃至84℃の熔融点を
有するベンジルメチルベンジルモノアセタール62虹部
が得られる。
・例2
ベンジル52.5部及びジメチルスルフアート63部を
ジオキサン25喀量部中に溶解せる溶液に、室温に於て
攪拌しつつ1時間内にナトリウムエチラート34部を少
しづつ添加する。
ジオキサン25喀量部中に溶解せる溶液に、室温に於て
攪拌しつつ1時間内にナトリウムエチラート34部を少
しづつ添加する。
水30喀量部及びノ固状苛性ソーダ液坐部の添加後、反
応混合物を30分間還流しつつ加熱し、次にジオキサン
ー水−・共沸混合物350容量部を反応混合物より溜別
し、且つ残留する残滓を室温に冷却せる後、クロロフォ
ルム15喀量部にて抽出する。クロロフォルムー抽出物
を獣炭2部と混和、煮沸し、濾過し且つ回転蒸発器に於
て溶剤を蒸発する。充分に無色の油状残滓は暫時の後結
晶する。熔融点:52乃至54℃。例3 ベンジル105部及びアリルプロミド121部をジメチ
ルフォルムアミド50喀量部中に溶解せる溶液に、室温
に於て攪拌しつつ2.時間内にナトリウムメチラート4
8部を少しづつ添加する。
応混合物を30分間還流しつつ加熱し、次にジオキサン
ー水−・共沸混合物350容量部を反応混合物より溜別
し、且つ残留する残滓を室温に冷却せる後、クロロフォ
ルム15喀量部にて抽出する。クロロフォルムー抽出物
を獣炭2部と混和、煮沸し、濾過し且つ回転蒸発器に於
て溶剤を蒸発する。充分に無色の油状残滓は暫時の後結
晶する。熔融点:52乃至54℃。例3 ベンジル105部及びアリルプロミド121部をジメチ
ルフォルムアミド50喀量部中に溶解せる溶液に、室温
に於て攪拌しつつ2.時間内にナトリウムメチラート4
8部を少しづつ添加する。
水200喀量部の添加後、反応混合物クロロフォルム夫
々10喀量部にて4回抽出し、次に合併したクロロフォ
ルム抽出物を水夫々20喀量部にて3回洗滌する。クロ
ロフォルム相を回転蒸発器に於て濃縮し、続いて残滓を
真空中にて蒸溜する。135乃至136℃/0.3TW
1Hgに於て沸騰するベンジルメチルアリルアセタール
115部が得られる。
々10喀量部にて4回抽出し、次に合併したクロロフォ
ルム抽出物を水夫々20喀量部にて3回洗滌する。クロ
ロフォルム相を回転蒸発器に於て濃縮し、続いて残滓を
真空中にて蒸溜する。135乃至136℃/0.3TW
1Hgに於て沸騰するベンジルメチルアリルアセタール
115部が得られる。
例4例3に記載せると同様にして140乃至145℃/
0.3TmnHgの沸点を有するベンジルメチルクロチ
ルモノアセタールを製造する。
0.3TmnHgの沸点を有するベンジルメチルクロチ
ルモノアセタールを製造する。
収率:119部(理論の80%)。例5
マレイン酸アンヒドリド431部及びフタル酸アンヒド
リド325部をプロピレングリコールー1、2:525
部にてエステル化することに依り不飽和ポリエステルを
製造する。
リド325部をプロピレングリコールー1、2:525
部にてエステル化することに依り不飽和ポリエステルを
製造する。
ヒドロキノン0.01%の添加後、ポリエステルをスチ
ロール中に溶解せる66%溶液を製造する(溶液A)。
溶液A97部を光重合開始剤3部と混和する(溶液B)
。
ロール中に溶解せる66%溶液を製造する(溶液A)。
溶液A97部を光重合開始剤3部と混和する(溶液B)
。
この混合物より、光遮断の下に60℃に於て貯蔵安定性
(ゲル化の開始)を測定する。光硬化試験のために、溶
液B1(1)部にノΣうフィン(軟化範囲50乃至5第
)をスチロール中に溶解せる1%溶液10mを添加し、
且つ樹脂を印画紙にて被覆された硬質繊維板上にフィル
ム貼着装置(細隙幅500p瓦)にて塗着した。約2分
間空気にさらした後、フィルムを4C!nの間隔に於て
設けられた高い紫外線光割合を有するりん光体ランプに
てフィルムを露光した。硬化速度はケーニツヒに依る振
子硬度の測定に依り(DIN53l57)測定され、表
1中に硬化されたフィルムの測色と共に集録されている
。例6 ビスフェノールーA−ジグリシジルエーテル1モルとア
クリル酸2モルとよりの反応生成物を、ブタンジオール
ジアクリラート中に溶解して65%溶液となす。
(ゲル化の開始)を測定する。光硬化試験のために、溶
液B1(1)部にノΣうフィン(軟化範囲50乃至5第
)をスチロール中に溶解せる1%溶液10mを添加し、
且つ樹脂を印画紙にて被覆された硬質繊維板上にフィル
ム貼着装置(細隙幅500p瓦)にて塗着した。約2分
間空気にさらした後、フィルムを4C!nの間隔に於て
設けられた高い紫外線光割合を有するりん光体ランプに
てフィルムを露光した。硬化速度はケーニツヒに依る振
子硬度の測定に依り(DIN53l57)測定され、表
1中に硬化されたフィルムの測色と共に集録されている
。例6 ビスフェノールーA−ジグリシジルエーテル1モルとア
クリル酸2モルとよりの反応生成物を、ブタンジオール
ジアクリラート中に溶解して65%溶液となす。
この溶液に表2及び3中に記載せる光重合開始剤3重量
%を添加する。クリヤーラツカーを80μmの層にて白
色印画紙上に塗布し、且つ水銀高圧ランプ(出力80ワ
ット/C7nアーク長さ)にて照射する。ランプ/ラツ
カーフイルムの間隔は10αである。試料をその走行速
度に於て連続的に制御可能の運搬帯上に於て、紫外線ラ
ンプ下を通過せしめる。ラツカーフイルムの丁度なお耐
引かき性硬化が達成されることができる運搬帯速度(M
lmin)を測定する。゛’耐引かき性硬化’’とは、
ラツカー表面を指の爪にて強くすることに依りフィルム
表面に何等中断を生じないことを意味する。
%を添加する。クリヤーラツカーを80μmの層にて白
色印画紙上に塗布し、且つ水銀高圧ランプ(出力80ワ
ット/C7nアーク長さ)にて照射する。ランプ/ラツ
カーフイルムの間隔は10αである。試料をその走行速
度に於て連続的に制御可能の運搬帯上に於て、紫外線ラ
ンプ下を通過せしめる。ラツカーフイルムの丁度なお耐
引かき性硬化が達成されることができる運搬帯速度(M
lmin)を測定する。゛’耐引かき性硬化’’とは、
ラツカー表面を指の爪にて強くすることに依りフィルム
表面に何等中断を生じないことを意味する。
更に白色度(ベルゲルに依る)を11wLIminにて
硬化された試料に於て測定する。20℃及び65℃に於
て5日間貯蔵せる後、光重合開始剤と混和されたクリヤ
ーラツカーを再び試験[する(表3参照)。
硬化された試料に於て測定する。20℃及び65℃に於
て5日間貯蔵せる後、光重合開始剤と混和されたクリヤ
ーラツカーを再び試験[する(表3参照)。
ジイソシアナート1モルとヒドロキシプロピルアクリラ
ート2モルとを反応せしめることに依り製造されたウレ
タンアクリラートを1・1・1ートリメチロールプロパ
ンートリアクリラート中に溶解して70%溶液となし、
ベンジルメチル−エチルケタール2重量%及び連鎖移動
アミンとしてのメチルジエタノールアミン3重量%と混
和する。
ート2モルとを反応せしめることに依り製造されたウレ
タンアクリラートを1・1・1ートリメチロールプロパ
ンートリアクリラート中に溶解して70%溶液となし、
ベンジルメチル−エチルケタール2重量%及び連鎖移動
アミンとしてのメチルジエタノールアミン3重量%と混
和する。
溶液を硝子板上に20μmの層にて塗布し、且つ例5に
記載したように露光する。クリヤーラツカーは50几I
minの帯速度に於て耐引かき性に硬化した。追加の関
係本願は特許第12598[号(特公昭59−2820
4号公報)の追加出願であり、特願昭特許第12598
12号(特公昭59−28204号公報)は、(a)少
くとも1つの重合可能のC−C−多重結合を有する化合
物又は斯かる化合物を含有する混合物と(b)光重合開
始剤及び場合に依り普通の添加物質との紫外線照射に依
り重合可能の混合物に係り、その特徴とする所は光重合
開始剤として式(式中R及びR″はH.Cl、同一又は
異なる種類のC1−C4−アルキルー、C1−C4−ア
ルコキシー、又はC1−C4−アルコキシアルキルー残
基を意味し、X及びX″はC1−C4−アルキルー又は
C1−C,一アルコキシアルキルー残基を意味し、又は
X及びx″は一緒にてCnH2nを意味し、nは2乃至
8を意味し、A及びA″は同一又は異なる種類の6員の
芳香族残基を意味する)の芳香族1・2ージケトンのモ
ノケタールを含有する点に存する。
記載したように露光する。クリヤーラツカーは50几I
minの帯速度に於て耐引かき性に硬化した。追加の関
係本願は特許第12598[号(特公昭59−2820
4号公報)の追加出願であり、特願昭特許第12598
12号(特公昭59−28204号公報)は、(a)少
くとも1つの重合可能のC−C−多重結合を有する化合
物又は斯かる化合物を含有する混合物と(b)光重合開
始剤及び場合に依り普通の添加物質との紫外線照射に依
り重合可能の混合物に係り、その特徴とする所は光重合
開始剤として式(式中R及びR″はH.Cl、同一又は
異なる種類のC1−C4−アルキルー、C1−C4−ア
ルコキシー、又はC1−C4−アルコキシアルキルー残
基を意味し、X及びX″はC1−C4−アルキルー又は
C1−C,一アルコキシアルキルー残基を意味し、又は
X及びx″は一緒にてCnH2nを意味し、nは2乃至
8を意味し、A及びA″は同一又は異なる種類の6員の
芳香族残基を意味する)の芳香族1・2ージケトンのモ
ノケタールを含有する点に存する。
然るに前記発明を更に拡張に於て、容易に製造可能にし
て且つ重合可能の混合物或は塊中にてその普通の処理及
び貯蔵に際し充分に安定であり、他方に於ては塊の光硬
化に際し良好な反応性を有し、且つこの場合その特に僅
少な黄変を生ずるに過ぎない芳香族1・2ージケトンの
新規の非環式非対称のモノケタールが見出された。従つ
て本発明は(a)少くとも1つの重合可能のC一C一多
重結合を有する化合物又は斯かる化合物を含有する混合
物と(b)に依る光重合開始剤としての芳香族1●2ー
ジケトンのモノケタールとの紫外線照射に依り重合可能
の混合物に係り、その特徴とする所は、芳香族1・2ー
ジケトンのモノケタールとして次の式(1)(式中 A1及びA2は場合に依り置換基を有する同一又は異な
る芳香族残基、且つR1及びR2は場合に依り置換基を
有する異なる種類の炭素原子1乃至12個を有する炭化
水素残基を示す)の非環式非対称のモノケタールを含有
する点に存する。
て且つ重合可能の混合物或は塊中にてその普通の処理及
び貯蔵に際し充分に安定であり、他方に於ては塊の光硬
化に際し良好な反応性を有し、且つこの場合その特に僅
少な黄変を生ずるに過ぎない芳香族1・2ージケトンの
新規の非環式非対称のモノケタールが見出された。従つ
て本発明は(a)少くとも1つの重合可能のC一C一多
重結合を有する化合物又は斯かる化合物を含有する混合
物と(b)に依る光重合開始剤としての芳香族1●2ー
ジケトンのモノケタールとの紫外線照射に依り重合可能
の混合物に係り、その特徴とする所は、芳香族1・2ー
ジケトンのモノケタールとして次の式(1)(式中 A1及びA2は場合に依り置換基を有する同一又は異な
る芳香族残基、且つR1及びR2は場合に依り置換基を
有する異なる種類の炭素原子1乃至12個を有する炭化
水素残基を示す)の非環式非対称のモノケタールを含有
する点に存する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1(a)少くとも1つの重合可能のC−C−多重結合を
有する化合物又は斯かる化合物を含有する混合物と(b
)光重合開始剤としての芳香族1・2−ジケトンのモノ
ケタールとの紫外線照射に依り重合可能の混合物に於て
、芳香族1・2−ジケトンのモノケタールとして式▲数
式、化学式、表等があります▼ (式中 A^1及びA^2は場合に依り置換基を有する同一又は
異なる芳香族残基R^1及びR^2は場合に依り置換基
を有する炭素原子1乃至12個を有する炭化水素残基を
示し且つR^1及びR^2は異なる残基を示す)の非環
式非対称のモノケタールを含有することを特徴とする紫
外線照射に依り重合可能の混合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762616408 DE2616408A1 (de) | 1976-04-14 | 1976-04-14 | Durch uv-bestrahlung polymerisierbare gemische |
DE2616408.9 | 1976-04-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52126490A JPS52126490A (en) | 1977-10-24 |
JPS6042801B2 true JPS6042801B2 (ja) | 1985-09-25 |
Family
ID=5975369
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4049677A Expired JPS6042801B2 (ja) | 1976-04-14 | 1977-04-11 | 紫外線照射に依り重合可能の混合物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6042801B2 (ja) |
CH (1) | CH628651A5 (ja) |
DE (1) | DE2616408A1 (ja) |
FR (1) | FR2348228A2 (ja) |
GB (1) | GB1580968A (ja) |
IT (1) | IT1115955B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2348180A1 (fr) * | 1976-04-14 | 1977-11-10 | Basf Ag | Procede de preparation de monoacetals de 1,2-dicetones aromatiques et utilisation de ces substances comme photo-inducteurs pour des melanges durcissables sous l'action de radiations |
EP0108037B1 (de) * | 1982-10-01 | 1989-06-07 | Ciba-Geigy Ag | Propiophenonderivate als Photoinitiatoren für die Photopolymerisation |
JPS60230135A (ja) * | 1984-04-27 | 1985-11-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光重合性樹脂組成物 |
ATE87752T1 (de) * | 1988-01-15 | 1993-04-15 | Du Pont | Verfahren zur herstellung von reflexionshologrammen in photopolymerisierbaren schichten. |
DE3834029A1 (de) * | 1988-10-06 | 1990-04-12 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von symmetrischen und unsymmetrischen monoacetalen aromatischer 1,2-diketone |
JP4547598B2 (ja) * | 2003-09-08 | 2010-09-22 | Dic株式会社 | 調光層形成材料及び液晶デバイス |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1769854C3 (de) * | 1968-07-26 | 1982-08-19 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation |
CS151522B2 (ja) * | 1968-07-26 | 1973-10-19 | ||
US3715293A (en) * | 1971-12-17 | 1973-02-06 | Union Carbide Corp | Acetophenone-type photosensitizers for radiation curable coatings |
US3840448A (en) * | 1972-06-26 | 1974-10-08 | Union Carbide Corp | Surface curing of acrylyl or methacrylyl compounds using radiation of 2,537 angstroms |
FI60194C (fi) * | 1972-07-28 | 1981-12-10 | Ciba Geigy Ag | Foerfarande foer framstaellning av bensil-monoketaler |
-
1976
- 1976-04-14 DE DE19762616408 patent/DE2616408A1/de not_active Ceased
-
1977
- 1977-04-07 CH CH443677A patent/CH628651A5/de not_active IP Right Cessation
- 1977-04-11 JP JP4049677A patent/JPS6042801B2/ja not_active Expired
- 1977-04-13 GB GB1528877A patent/GB1580968A/en not_active Expired
- 1977-04-13 IT IT4895277A patent/IT1115955B/it active
- 1977-04-14 FR FR7711272A patent/FR2348228A2/fr active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1580968A (en) | 1980-12-10 |
IT1115955B (it) | 1986-02-10 |
DE2616408A1 (de) | 1977-11-03 |
FR2348228A2 (fr) | 1977-11-10 |
JPS52126490A (en) | 1977-10-24 |
FR2348228B2 (ja) | 1984-03-30 |
CH628651A5 (en) | 1982-03-15 |
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