JPS6042801B2 - 紫外線照射に依り重合可能の混合物 - Google Patents

紫外線照射に依り重合可能の混合物

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JPS6042801B2
JPS6042801B2 JP4049677A JP4049677A JPS6042801B2 JP S6042801 B2 JPS6042801 B2 JP S6042801B2 JP 4049677 A JP4049677 A JP 4049677A JP 4049677 A JP4049677 A JP 4049677A JP S6042801 B2 JPS6042801 B2 JP S6042801B2
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JP4049677A
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ウエルネル・キユステルス
マンフレ−ト・ヤコビ
ロルフ・オステルロ−
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Ciba Geigy AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/67Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C45/68Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms

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Description

【発明の詳細な説明】 特許第1259812号(特公昭59−28204号公
報)は、(a)少くとも1つの重合可能のC−C−多重
結合を有する化合物又は斯かる化合物を含有する混合物
と(b)光重合開始剤及び場合に依り普通の添加物質と
の紫外線照射に依り重合可能の混合物に係り、その特徴
とする所は光重合開始剤として式R−−A−−C−C−
Λ−R’)1よ石 XX’ (式中R及びR’はH)Cl、同一又は異なる種類のC
l−C4−アルキル−、Cl−C4−アルコキシ−、又
はCl−C4−アルコキシアルキルー残基を意味し、X
及びX’はC、−Co−アルキル−又はC、−Co−ア
ルコキシアルキル−残基を意味し、又はX及びX’は一
緒にてCnH2nを意味し、nは2乃至8を意味し、A
及びA’は同一又は異なる種類の6員の芳香族残基を意
味する)の芳香族1・2芳香ケトンのモノケタールを含
有する点に存する。
然るに前記発明について更に研究を進めた結果、容易に
製造可能にして且つ重合可能の混合物或は塊中にてその
普通の処理及び貯蔵に際し充分に安定であり、他方に於
ては塊の光硬化に際し良好な反応性を有し、且つこの場
合その特に僅少な黄変を生ずるに過ぎない芳香族1・2
ージケトンの新規の非環式非対称のモノケタールが見出
された。従て本発明は(a)少くとも1つの重合可能の
C−C一多重結合を有する化合物又は斯かる化合物を含
有する混合物と(b)特許第1259812号(特公昭
59−28204号公報)に依る光重合開始剤としての
芳香族1・2ージケトンのモノケタールとの紫外線照射
に依り重合可能の混合物に係り、その特徴とする所は、
芳香族1・2ージケトンのモノケタールとして次の式(
1)(式中 A1及びA2は場合に依り置換基を有する同一又は異な
る芳香族残基、且つR1及びR2は互に異なる基であつ
て、場合に依り置換基を有する炭素原子1乃至12個を
有する炭化水素残基を示す)非環式非対称のモノケター
ルを含有する点に存する。
この種の芳香族1・2ージケトンの非環式非対称のモノ
ケタールは今まで知られていない。
本発明に依る混合物中に含有されている新規の光重合開
始剤は式(■)(式中A1及びA2は前記の意味を有す
る)に依る芳香族1・2ージケトンを有機溶剤中にてア
ルキル化剤(R1)NX及びアルコラート(R2O).
.Me(この場合R1及びR2は前記の意味を有し且つ
異なる残基を示し、n及びmは1乃至3の整数を示し、
−Xは一乃至三塩基性酸残基を意味し、Meは元素の周
期系の最初の3主属の金属を意味する)と反応せしめる
時は簡単且つ有利に製造される。
式■の適当な芳香族ケトンは、特にN及びA2が置換さ
れたペンゾールを示すものであつて、この場合置換基と
しては殊にC1一乃至Cl。一炭化水素残基例えばアル
キルー又はフェニル残基、C1一乃至ClO−アルコキ
シアルキル残基、C1一乃至ClO−アルコキシ残基、
C1一乃至C6−アルキルチオ残基又はハロゲン原子が
挙げられる。本発明に依るモノケタールが誘導される芳
香族1・2ージケトンの例は、ベンジル及び置換された
ベンジル例えば4●4″−ジメチルベンジル、4●4″
ージイソプロピルベンジル、4●4″−ジフェニルベン
ジル、2●2′ージメトキシベンジル、4・4″ージメ
トキシベンジル、4−メチルベンジル、3−メトキシベ
ンジル、2・2″−ジメチルベンジル、4−クロルー4
′−フェニルベンジル、4●4′ージクロルベンジル、
3●3′ージブロムベンジル、2・4・2″・4″−テ
トラメチルベンジル、2●4●6−トリメチルベンジル
、2●4ージクロルー4″−メチルベンジルである。
これ等ベンジル誘導体の製造は文献中に記載されている
;製造は例えば相当するベンゾインの酸化に依り行われ
ることができる。非対称のモノケタールの製造のために
適するアルキル化剤は前記の式(R1)6Xを有し、且
つ一乃至三塩基性酸、殊に硫黄−、燐一又はハロゲン原
子を含有する酸のエステルである。
硫酸、亜硫酸、燐酸及び亜燐酸のエステル、ハロゲン化
水素酸のエステル例えばクロリド、プロミド及びヨジド
並びに脂肪族及び芳香族スルフォン酸のエステル例えば
メシラート、トシラート、プロシラート及びベンゾール
スルフオナートが挙げられる。スルフアート、ハロゲニ
ド及びスルフォン酸エステルが特に適し、これ等の中ス
ルフアート及びプロミドが殊に有利に使用される。アル
キル化剤に対する例はジメチルスルフアート、ジアリル
スルフアート、ジクロチルスルフアート、ベンジルプロ
ミド又はアリルプロミドである。残基R1は場合に依り
置換基を有する炭素原子1乃至12個を有する炭化水素
残基であつて、その中殊に相当するアルキルー(殊にC
1一乃至C6ーアルキルー)、アルアルキルー(殊にC
7一乃至C9一アルアルキル)−、アルケニルー(殊に
C3−乃至C5−アルケニルー)、アルアルケニルー(
殊にC9一又はCll−アルアルケニルー)一残基及び
基Z−(CHR3−CHR4)p一又はZ−(CHR3
)p−を挙げることができ、これ等式中pは1乃至3の
整数、R3及びR4はH又はCH3、且つZはハロゲン
原子又は0R5、SR5、0Ar又はSArを示し、R
5はC1一乃至C4−アルキル又はC1一乃至q−アル
コキシアルキルを示し、Nは6員の芳香族残基を示すこ
とができる。
アルコラートとしては、非対称のモノケタールを製造す
るために、アルキル化剤に相当しない残基R2を有する
アルコラートが使用され、従つて例えばジメチルスルフ
アートを使用する場合にはエチラート例えばナトリウム
エチラート又はカリウムメチラートが使用され、又はア
リルプロミドを使用する場合には例えばナトリウムメチ
ラートが使用される。
然らずんば残基R2の種類に関しては、残卑?1に対し
てなされた前記の記載が同様に該当する。ナトリウム及
びカリカムのアルコラートが殊に有利である。モノケタ
ールの製造のための有機溶剤の中、芳香族溶剤例えばペ
ンゾール又はトルオール及び殊にジメチルフォルムアミ
ド及びジオキサンが挙げられる。
理論的にはモノケタールを製造するために、前記の式(
R1)NXのアルキル化剤1/nモルが1●2ージケト
ン1モル及び同様に前記の式(R2O)MMeのアルコ
ラート1/mモルと反応せしめられ、この場合n及びm
は芳香族1●2ージケトンの非対称のモノアセタールを
生成するために使用されるアルキル化剤或はアルコラー
トの式中の数n或はmに相当する。
然し乍ら一般に完全な反応を達成するためには、若干の
反応関与体を過剰量.に於て使用するのが好ましい。即
ち1・2ージケトン1モルにつきアルキル化剤1/n乃
至10/nモル又は夫以上殊に1/n乃至4/nモル及
びアルコラート1/m乃至10/m又は夫以上殊に1/
m乃至4/mモルを使用することができる。反応.溶液
の処理の特に有利な可能性は、水の添加後溶剤を共沸蒸
溜に依り反応混合物より除去する点に存する。斯くして
特に冷却に際し水中に不溶性のモノアセタールが結晶性
物質として又は油状物質として屡々分析上純粋な形にて
又は分析上殆んど・純粋な形にて分離される。本発明に
依る混合物或は塊中に、前記の1・2ージケトンのモノ
アセタールが感光性混合物或は光重合可能の化合物に関
し0.01乃至1踵量%殊に0.05乃至約4重量%の
量に於て含有されているのが適当である。
本発明に依る混合物或は塊に対しては、光重合開始剤と
混合して重合せしめられることができる少くとも1つの
C−C一多重結合を有する総ての化合物が適する。
例えばアリ−ルー、カルボニルー、アミドー、エステル
ー、カルボキシー又はシアニドー基、ハロゲン原子又は
C−C−ニ重一又はC−C−三重結合に依り活性化され
たC−C一j二重結合を有する化合物及び物質が極めて
適する。例えばスチロール、ビニルトルオール、アクリ
ル酸及びメタクリル酸並びにそのエステル、シアニド又
はアミド例えばアクリルアミド、N−メチロールアクリ
ルアミド、グリコール1モル及びN−メチロールアクリ
ルアミド2モルよりのジエーテル、メタクリル酸メチル
エステル、メチレン−ビスーアクリルアミド、m−フエ
ニレンービスーアクリルアミド又はm−キシレンービス
ーアクリルアミド並びに少くとも2つの(メタ)アクリ
ル基を有するジウレタンが挙げられる。その混合物の夫
々の使用目的に対する選択が当業者に熟知されている光
重合可能の化合物には、公知の方法にて不飽和及び(又
は)飽和ポリマー及び(又は)公知の添加物質例えば熱
重合に対する抑制剤例えばヒドロキノン又は第3級ブチ
ルヒドロキノン、被膜形成物質例えばパラフィン、潤滑
剤例えばシリコン油、填料及び(又は)顔料又は染料が
普通の量に於て添加されていることができる。
斯かる混合物は当業者には公知であつて、添加物の種類
及び量は殊に混合物の使用様式に依り左右される。ポリ
エステル樹脂中に於ける新規の光重合開始剤は、紫外線
照射にて硬化可能の被膜の製造に際し特に適当であるこ
とが判明した。
不飽和ポリエステル樹脂よりの適当な塊は、例えば(1
)普通の不飽和ポリエステル40乃至8唾量%:(2)
少くとも1つの共重合可能のオレフィン系不飽和モノマ
ー60乃至15重量%;(3)光重合開始剤0.5乃至
5重量%及び場合に依り(4)更に他の普通の添加物質
より成る。この場合適当な不飽和ポリエステル(1)は
、多価殊に2価のアルコールとエステル状に結合されて
おり、且つ場合に依り追加的に1価のカルボン酸の残基
及び(又は)1価のアルコールの残基及び(又は)ヒド
ロキシカルボン酸の残基を含有している多価殊に2価の
カルボン酸よりの普通の重縮合生成物である。
不飽和ポリエステル樹脂用のオレフィン系不飽和モノマ
ー化合物(2)としては、不飽和ポリエステルと共重合
可能の総て普通のモノマー化合物殊にビニルアロマート
例えばスチロール及びアクリル酸又はメタクリル酸と炭
素原子1乃至8個を有するアルカノールとのエステル例
えばアクリル酸一第3級一ブチルエステル又はメタクリ
ル酸メチルエステル、並びにこれ等モノマーの混合物が
適する。
有利に使用される混合物中には、成分(2)は60乃至
拓殊に50乃至25重量%まで含有されている。新規の
光重合開始剤は、光情報定着のシステムを製作するため
に、殊に光重合体版木又は光抵抗層を製作するために使
用される光重合可能の塊中に於ても有利である。このた
めに適当な少くとも1つの光重合可能のC−C一多重結
合を有する化合物との混合物は、主としては少くとも2
つの光重合可能のC−C−ニ重結合を有するモノマー、
例えば脂肪族ジオールのジ(メタ)アクリラート、炭素
原子2乃至8個を有する脂肪族又は芳香族ジアミンのビ
ス(メタ)アクリルアミド、又は少くとも2つの(メタ
)アクリル基の外にエステル又はアミド並びにウレタン
ー又は尿素基を含有するモノマー約10乃至(4)殊に
15乃至35重量%と有機溶剤例えばアルコール、ケト
ン又はエーテル中に可溶性のポリマー90717至菊殊
に85乃至65重量%との混合物である。
この場合ポリマーとしては、例えばコポリアミド例えば
ε一カプロラクタム、ヘキサメチレンージアンモニウム
ーアジパート及びPIP−ジアミノージシクロヘキシル
メタンーアジパートよりのコポリアミド、更に可溶性ポ
リウレタン、ポリ尿素、ブタジエンー又はイソプレン−
コポリマー並びにブ七ツクコポリマー又は可溶性繊維素
誘導体も挙げられる。適当なモノマー及び(又は)ポリ
マー及び(又は)混合物の選択及びその処理に関する詳
細な点は、当業者にとつて充分な程度に公知の特許文献
中に記載されている。
混合物の光重合成は光網状化を惹起する光用の放射源と
しては、230乃至450r1rn,の波長の光を送出
するような放射源が特に有利に使用される。第一に30
075至380nmの範囲の放射極大を有する放射源又
はこの波長範囲の光の充分に高い割合を送出するような
放射源が挙げられる。水銀中圧放射器が特に適するが、
水銀高圧一又は水銀低圧放射器並びに超化学りん光体管
も適する。前記のランプは場合に依りドーピングされて
いることができる。本発明に依る新規の光重合開始剤を
含有する混合物は、被膜特にポリエステル樹脂をベース
とする被膜を製造するために、殊に光重合体印刷版を製
造するために、ホログラム、光抵抗ラツカー、ポロメル
皮(POrOmerfell)を製造するために、一般
に情報定着のために、且つ紫外線硬化可能の印刷インキ
のために適する。
ベンジルジメチルアセタールのタイプの対称ベンジルモ
ノアセタールを含有する混合物に比し、本発明に依る混
合物は硬化された塊の比較的僅少な黄変を惹起するに過
ぎないことに依り優れている。次の諸例中に挙げられた
部及び%は重量部及び重量%に係る。
容量部対重量部の比は′対Kgの比である。例1 ベンジル52.5部及びベンジルプロミドスルフアート
68.4部をジメチルフォルムアミド40喀量部中に溶
解せる溶液に、室温に於て攪拌しつつ3時間内にナトリ
ウムメチラート21.6部を少しづつ添加する。
次に反応混合物をなお3紛間室温に於て攪拌し、次に水
200喀量部中に攪拌混入する。沈澱する沈澱を濾別し
、水にて洗滌し且つ乾燥す・る。次にこれを石油エーテ
ル15喀量部中に懸濁し、吸引p別し、石油エーテルに
て一度洗滌し且つ乾燥する。83乃至84℃の熔融点を
有するベンジルメチルベンジルモノアセタール62虹部
が得られる。
・例2 ベンジル52.5部及びジメチルスルフアート63部を
ジオキサン25喀量部中に溶解せる溶液に、室温に於て
攪拌しつつ1時間内にナトリウムエチラート34部を少
しづつ添加する。
水30喀量部及びノ固状苛性ソーダ液坐部の添加後、反
応混合物を30分間還流しつつ加熱し、次にジオキサン
ー水−・共沸混合物350容量部を反応混合物より溜別
し、且つ残留する残滓を室温に冷却せる後、クロロフォ
ルム15喀量部にて抽出する。クロロフォルムー抽出物
を獣炭2部と混和、煮沸し、濾過し且つ回転蒸発器に於
て溶剤を蒸発する。充分に無色の油状残滓は暫時の後結
晶する。熔融点:52乃至54℃。例3 ベンジル105部及びアリルプロミド121部をジメチ
ルフォルムアミド50喀量部中に溶解せる溶液に、室温
に於て攪拌しつつ2.時間内にナトリウムメチラート4
8部を少しづつ添加する。
水200喀量部の添加後、反応混合物クロロフォルム夫
々10喀量部にて4回抽出し、次に合併したクロロフォ
ルム抽出物を水夫々20喀量部にて3回洗滌する。クロ
ロフォルム相を回転蒸発器に於て濃縮し、続いて残滓を
真空中にて蒸溜する。135乃至136℃/0.3TW
1Hgに於て沸騰するベンジルメチルアリルアセタール
115部が得られる。
例4例3に記載せると同様にして140乃至145℃/
0.3TmnHgの沸点を有するベンジルメチルクロチ
ルモノアセタールを製造する。
収率:119部(理論の80%)。例5 マレイン酸アンヒドリド431部及びフタル酸アンヒド
リド325部をプロピレングリコールー1、2:525
部にてエステル化することに依り不飽和ポリエステルを
製造する。
ヒドロキノン0.01%の添加後、ポリエステルをスチ
ロール中に溶解せる66%溶液を製造する(溶液A)。
溶液A97部を光重合開始剤3部と混和する(溶液B)
この混合物より、光遮断の下に60℃に於て貯蔵安定性
(ゲル化の開始)を測定する。光硬化試験のために、溶
液B1(1)部にノΣうフィン(軟化範囲50乃至5第
)をスチロール中に溶解せる1%溶液10mを添加し、
且つ樹脂を印画紙にて被覆された硬質繊維板上にフィル
ム貼着装置(細隙幅500p瓦)にて塗着した。約2分
間空気にさらした後、フィルムを4C!nの間隔に於て
設けられた高い紫外線光割合を有するりん光体ランプに
てフィルムを露光した。硬化速度はケーニツヒに依る振
子硬度の測定に依り(DIN53l57)測定され、表
1中に硬化されたフィルムの測色と共に集録されている
。例6 ビスフェノールーA−ジグリシジルエーテル1モルとア
クリル酸2モルとよりの反応生成物を、ブタンジオール
ジアクリラート中に溶解して65%溶液となす。
この溶液に表2及び3中に記載せる光重合開始剤3重量
%を添加する。クリヤーラツカーを80μmの層にて白
色印画紙上に塗布し、且つ水銀高圧ランプ(出力80ワ
ット/C7nアーク長さ)にて照射する。ランプ/ラツ
カーフイルムの間隔は10αである。試料をその走行速
度に於て連続的に制御可能の運搬帯上に於て、紫外線ラ
ンプ下を通過せしめる。ラツカーフイルムの丁度なお耐
引かき性硬化が達成されることができる運搬帯速度(M
lmin)を測定する。゛’耐引かき性硬化’’とは、
ラツカー表面を指の爪にて強くすることに依りフィルム
表面に何等中断を生じないことを意味する。
更に白色度(ベルゲルに依る)を11wLIminにて
硬化された試料に於て測定する。20℃及び65℃に於
て5日間貯蔵せる後、光重合開始剤と混和されたクリヤ
ーラツカーを再び試験[する(表3参照)。
ジイソシアナート1モルとヒドロキシプロピルアクリラ
ート2モルとを反応せしめることに依り製造されたウレ
タンアクリラートを1・1・1ートリメチロールプロパ
ンートリアクリラート中に溶解して70%溶液となし、
ベンジルメチル−エチルケタール2重量%及び連鎖移動
アミンとしてのメチルジエタノールアミン3重量%と混
和する。
溶液を硝子板上に20μmの層にて塗布し、且つ例5に
記載したように露光する。クリヤーラツカーは50几I
minの帯速度に於て耐引かき性に硬化した。追加の関
係本願は特許第12598[号(特公昭59−2820
4号公報)の追加出願であり、特願昭特許第12598
12号(特公昭59−28204号公報)は、(a)少
くとも1つの重合可能のC−C−多重結合を有する化合
物又は斯かる化合物を含有する混合物と(b)光重合開
始剤及び場合に依り普通の添加物質との紫外線照射に依
り重合可能の混合物に係り、その特徴とする所は光重合
開始剤として式(式中R及びR″はH.Cl、同一又は
異なる種類のC1−C4−アルキルー、C1−C4−ア
ルコキシー、又はC1−C4−アルコキシアルキルー残
基を意味し、X及びX″はC1−C4−アルキルー又は
C1−C,一アルコキシアルキルー残基を意味し、又は
X及びx″は一緒にてCnH2nを意味し、nは2乃至
8を意味し、A及びA″は同一又は異なる種類の6員の
芳香族残基を意味する)の芳香族1・2ージケトンのモ
ノケタールを含有する点に存する。
然るに前記発明を更に拡張に於て、容易に製造可能にし
て且つ重合可能の混合物或は塊中にてその普通の処理及
び貯蔵に際し充分に安定であり、他方に於ては塊の光硬
化に際し良好な反応性を有し、且つこの場合その特に僅
少な黄変を生ずるに過ぎない芳香族1・2ージケトンの
新規の非環式非対称のモノケタールが見出された。従つ
て本発明は(a)少くとも1つの重合可能のC一C一多
重結合を有する化合物又は斯かる化合物を含有する混合
物と(b)に依る光重合開始剤としての芳香族1●2ー
ジケトンのモノケタールとの紫外線照射に依り重合可能
の混合物に係り、その特徴とする所は、芳香族1・2ー
ジケトンのモノケタールとして次の式(1)(式中 A1及びA2は場合に依り置換基を有する同一又は異な
る芳香族残基、且つR1及びR2は場合に依り置換基を
有する異なる種類の炭素原子1乃至12個を有する炭化
水素残基を示す)の非環式非対称のモノケタールを含有
する点に存する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1(a)少くとも1つの重合可能のC−C−多重結合を
    有する化合物又は斯かる化合物を含有する混合物と(b
    )光重合開始剤としての芳香族1・2−ジケトンのモノ
    ケタールとの紫外線照射に依り重合可能の混合物に於て
    、芳香族1・2−ジケトンのモノケタールとして式▲数
    式、化学式、表等があります▼ (式中 A^1及びA^2は場合に依り置換基を有する同一又は
    異なる芳香族残基R^1及びR^2は場合に依り置換基
    を有する炭素原子1乃至12個を有する炭化水素残基を
    示し且つR^1及びR^2は異なる残基を示す)の非環
    式非対称のモノケタールを含有することを特徴とする紫
    外線照射に依り重合可能の混合物。
JP4049677A 1976-04-14 1977-04-11 紫外線照射に依り重合可能の混合物 Expired JPS6042801B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762616408 DE2616408A1 (de) 1976-04-14 1976-04-14 Durch uv-bestrahlung polymerisierbare gemische
DE2616408.9 1976-04-14

Publications (2)

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JPS52126490A JPS52126490A (en) 1977-10-24
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