JPS604187A - ピラゾ−ル化合物 - Google Patents

ピラゾ−ル化合物

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JPS604187A
JPS604187A JP58111370A JP11137083A JPS604187A JP S604187 A JPS604187 A JP S604187A JP 58111370 A JP58111370 A JP 58111370A JP 11137083 A JP11137083 A JP 11137083A JP S604187 A JPS604187 A JP S604187A
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JP
Japan
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compound
ethoxycarbonyl
lower alkyl
group
pyrazolo
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JP58111370A
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Kazuo Ogawa
和男 小川
Tadafumi Terada
寺田 忠文
Takatsugu Honna
隆次 本那
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Taiho Pharmaceutical Co Ltd
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Taiho Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なピラゾール化合物に関する。
本発明のピラゾール化合物は一般式 (式中、R1は低級アルキル基、及びフェニル基R2は
低級アルキル基、又はベンジル基、R3はアセチル基、
又は低級アルコキシカルボニル基を示す)で表される。
上記一般式(1)中、R1及びR2で示される低級アル
キル基としては、炭素数1〜6のアルキル基を、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル
、t−ブチル、ヘキシル基等を例示できる。 又、R3
で表される低級アルコキシカルボニル基としては、炭素
数2〜7のアルコキシカルボニル基を、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルポニ
ル、ヘキシルオキシカルボニル基等を例示できる。
本発明の上記一般式(1)で表される化合物は鎮痛消炎
作用及びコレステロール低下作用を有し、医薬として有
用である。
本発明の上記一般式(1)で表される化合物は例えば下
記に示す方法により製造される。
即ち、一般式 (式中、R1、R2及びR3は前記に同じ)で表される
ピラゾロン化合物を光照射する事により、製造される。
 本発明における上記反応は通常、溶媒中で行われる。
 溶媒としては反応に関与しない限り限定されないが、
特にアセトニトリル、アセトン、ジオキサン等を用いる
と有利に進行する。 又、光照射としては高圧、及び低
圧水銀ランプを使用するのが一般に好ましい。
前記製造法により得られる本発明化合物は通常の分離手
段、例えばカラムクロマトグラフィー、再結晶等により
単離精製可能である。
次に本発明を具体的に説明する為、実施例を挙げる。
実施例 1 3.7−シメチルー2−エトキシカルボニル−IH,5
1(−ピラゾT:1 (1,2a)−ピラゾLルー1,
5−ジオン 0.5gをアセトニトリル50m1に溶解
し、高圧水銀ランプで2時間光照射した。 反応後、溶
媒を留去して得た残渣はイソプロピルアルコールより再
結晶を行いm、p=129〜130°Cの2.7−シメ
チルー3−エトキシカルボニル−5H−ピラゾロ(5,
1−b)(1,3)−オキサチン−5−オン(化合物1
)を0.3g得た。(収率60%) 実施例 2 実施例 1と同様の操作を行い化合物2及び3を合成し
た。
実施例 3 3−メチル−7−フェニル−2−エトキシカルボニル−
IH,5H−ピラゾl:l (1,2−a)ピラゾール
−1,5−ジオン 0.33gをアセトン100m1に
熔解し低圧水銀ランプで4時間光照射した。反応後溶媒
を留去し、得られた残渣はカラムクロマトグラフィー(
シリカゲル、展開溶媒 CHCl3:エタノール−3:
 1)にて分離精製した。 エタノールより再結晶して
m、p”’154−155°Cの2−メチル−7−フェ
ニル−3−エトキシカルボニル−5H−ピラゾロ(5、
,1b)(1,3)オキサチン−5−オン(化合物4)
を0.18g得た。(収率54.5%)実施例 4 実施例 3と同様の操作を行い化合物5を合成した。
次に本発明の一般式(1)で表される化合物の代表例を
表1に示す。 表中MSはマススペクトル分析結果(M
 )を示し、IRは臭化カリウムで測定した赤外吸収ス
ペクトル分析結果νC=O(cm )を示し、又UVは
エタノール中で測定した紫外吸収スペクトル分析結果λ
max(nm)及びε値を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■ 一般式 (式中、R1は低級アルキル基、及びフェニル基R2は
    低級アルキル基、又はベンジル基、R3&よアセチル基
    、又は低級アルコキシカルボニル基を示す)で表される
    ピラゾール化合物。
JP58111370A 1983-06-20 1983-06-20 ピラゾ−ル化合物 Granted JPS604187A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0491601U (ja) * 1990-12-27 1992-08-10
US6072117A (en) * 1996-02-27 2000-06-06 Canon Kabushiki Kaisha Photovoltaic device provided with an opaque substrate having a specific irregular surface structure

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0491601U (ja) * 1990-12-27 1992-08-10
US6072117A (en) * 1996-02-27 2000-06-06 Canon Kabushiki Kaisha Photovoltaic device provided with an opaque substrate having a specific irregular surface structure

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