JPS6033040A - オ−ジエ電子分析装置 - Google Patents
オ−ジエ電子分析装置Info
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- JPS6033040A JPS6033040A JP58141049A JP14104983A JPS6033040A JP S6033040 A JPS6033040 A JP S6033040A JP 58141049 A JP58141049 A JP 58141049A JP 14104983 A JP14104983 A JP 14104983A JP S6033040 A JPS6033040 A JP S6033040A
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- electron
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- analyzer
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- 238000011896 sensitive detection Methods 0.000 claims 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 32
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/227—Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、固体表面のオージェ電子分析装置に関し、特
に元素分布分析における試料の幾何学的形状効果等を除
去するために好適な装置に関するものである。
に元素分布分析における試料の幾何学的形状効果等を除
去するために好適な装置に関するものである。
固体試料表面に数KeVに加速した一次電子線を照射す
ると、その照射領域からオージェ電子を含む二次電子が
放出される。オージェ電子とは原子の内殻準位にある電
子がイオン化された場合の緩和過程で生ずるもので、各
オージェ電子は元素の種類に固有な運動エネルギーを有
する。したがって、オージェ電子をエネルギー分析する
ことに定の対象となるオージェ電子の運動エネルギーは
通常2000eV以下であるため、オージェ電子分析に
寄与する試料の有効深さは僅か20m程度である。この
特徴により、オージェ電子分析法は固体表面の元素分析
を行なう表面計測法として固体表面の研究に利用されて
いる。特に、最近半導体素子の微細化に伴い、−次電子
線のプローブ径を1μm以下に細束化した装置は走査型
オージェ電子分析装置と呼ばれ現在広く用いられている
。
ると、その照射領域からオージェ電子を含む二次電子が
放出される。オージェ電子とは原子の内殻準位にある電
子がイオン化された場合の緩和過程で生ずるもので、各
オージェ電子は元素の種類に固有な運動エネルギーを有
する。したがって、オージェ電子をエネルギー分析する
ことに定の対象となるオージェ電子の運動エネルギーは
通常2000eV以下であるため、オージェ電子分析に
寄与する試料の有効深さは僅か20m程度である。この
特徴により、オージェ電子分析法は固体表面の元素分析
を行なう表面計測法として固体表面の研究に利用されて
いる。特に、最近半導体素子の微細化に伴い、−次電子
線のプローブ径を1μm以下に細束化した装置は走査型
オージェ電子分析装置と呼ばれ現在広く用いられている
。
走査型オージェ電子分析法では、試料表面上にて一次電
子線を収束および走査し、−次電子線の照射領域から放
出されたオージェ電子のうち電子エネルギー分析器の検
出立体角に入射したオージェ電子のみをエネルギー分析
することによって、オージェ電子のエネルギースペクト
ルを得る。次に、試料表面における特定元素の濃度分布
を観察するために、ブラウン管のビーム走査と試料表面
上の一次電子線走査を同期して、上記特定元素のスペク
トル線信号強度をブラウン管上の輝度変調信号として用
いる。このようにすると、元素の濃度分布をブラウン管
上で白黒のコントラストとして表示することができる。
子線を収束および走査し、−次電子線の照射領域から放
出されたオージェ電子のうち電子エネルギー分析器の検
出立体角に入射したオージェ電子のみをエネルギー分析
することによって、オージェ電子のエネルギースペクト
ルを得る。次に、試料表面における特定元素の濃度分布
を観察するために、ブラウン管のビーム走査と試料表面
上の一次電子線走査を同期して、上記特定元素のスペク
トル線信号強度をブラウン管上の輝度変調信号として用
いる。このようにすると、元素の濃度分布をブラウン管
上で白黒のコントラストとして表示することができる。
このような元素分布像をEPMA(XMA)のX線像に
対応してオージェ電子像と呼んでいる。
対応してオージェ電子像と呼んでいる。
以上述べたような従来の方法では、オージェ電子像の解
釈に元素分布のみならず他の因子が入ってくることがあ
る。それについて以下に記す。
釈に元素分布のみならず他の因子が入ってくることがあ
る。それについて以下に記す。
第1図は、電子エネルギー分析器に入射するオージェ電
子数の試料形状による変化を説明するための図である。
子数の試料形状による変化を説明するための図である。
第1図(a)に示したように、オージェ電子3を含む二
次電子は試料20表面からあらゆる方向に放出するが、
電子エネルギー分析器4の検出立体角5に入射するオー
ジェ電子3のみが実際に用いられる。このため、従来の
方法では、表面が同一元素から構成され、表面上に凹凸
のある試料2に対して、試料表面で発生したオージェ電
子3が凹凸のかげで遮断され電子エネルギー分析器4に
入射するオージェ′電子3の個数が著しく減少したり(
第1図(b))%あるいは検出立体角5に入射するオー
ジェ電子3の個数が凸部では増大したりしく第1図(C
) ) 、見かけ上オージェ電子信号が増減する現象が
生じ試料形状の影響を受けたオージェ電子像が得られ、
試料表面における忠実な元素分布像が得られないという
欠点があった。また、オージェ電子信号強度は一次電子
流に比例するため、電界放射型電子銃の一次電子流のよ
うに長時間もしくは短時間の電流変動率がかなりある場
合、元素分布像において上記時間的変動に起因したコン
トラストがあられれるという欠点があった。
次電子は試料20表面からあらゆる方向に放出するが、
電子エネルギー分析器4の検出立体角5に入射するオー
ジェ電子3のみが実際に用いられる。このため、従来の
方法では、表面が同一元素から構成され、表面上に凹凸
のある試料2に対して、試料表面で発生したオージェ電
子3が凹凸のかげで遮断され電子エネルギー分析器4に
入射するオージェ′電子3の個数が著しく減少したり(
第1図(b))%あるいは検出立体角5に入射するオー
ジェ電子3の個数が凸部では増大したりしく第1図(C
) ) 、見かけ上オージェ電子信号が増減する現象が
生じ試料形状の影響を受けたオージェ電子像が得られ、
試料表面における忠実な元素分布像が得られないという
欠点があった。また、オージェ電子信号強度は一次電子
流に比例するため、電界放射型電子銃の一次電子流のよ
うに長時間もしくは短時間の電流変動率がかなりある場
合、元素分布像において上記時間的変動に起因したコン
トラストがあられれるという欠点があった。
本発明の目的は、試料表面の幾何学的形状及び−次電子
流の経時変化がオージェ電子分布分析に及ぼす影響を取
除き、試料表面における忠実な元素分布が得られるオー
ジェ電子分析装置を提供することにある。
流の経時変化がオージェ電子分布分析に及ぼす影響を取
除き、試料表面における忠実な元素分布が得られるオー
ジェ電子分析装置を提供することにある。
一次電子線1
ギー分析器方向に放出され同分析器に入射する二次電子
流の強度もまたオージェ電子信号強度と同様に試料形状
の影響を受ける。したがって、オージェ電子信号強度の
試料形状による変動は二次電子流の強度のそれにほぼ比
例するので、オージェ電子信号強度を二次電子流強度で
割算することによって、試料表面の幾何学的形状効果及
び−次電子流の変動を取除いたオージェ電子像の観察が
可能となる。
流の強度もまたオージェ電子信号強度と同様に試料形状
の影響を受ける。したがって、オージェ電子信号強度の
試料形状による変動は二次電子流の強度のそれにほぼ比
例するので、オージェ電子信号強度を二次電子流強度で
割算することによって、試料表面の幾何学的形状効果及
び−次電子流の変動を取除いたオージェ電子像の観察が
可能となる。
以下、本発明の一実施例を第2図により説明する。第2
図は、上記走査型オージェ′電子分析装置の一例で、元
素分布分析に応用した例である。
図は、上記走査型オージェ′電子分析装置の一例で、元
素分布分析に応用した例である。
第2図において、1は一天竜子線、2Fi試料、3はオ
ージェ電子を含む二次電子、4は電子エネルギー分析器
、5は上記分析器4の検出立体角、6は一次電子線源、
7は一次電子線1を加速し引出す電極、8は一次電子線
収束用の電磁レンズ、9は一次電子線1を試料20表面
上でXY各方向に走査させるための偏向コイル、10は
電子エネルギー分析器4に掃引電圧を印加するための掃
引電源、11は荷電粒子検出器、12はロックイン増幅
器、13は割算回路、14はロックイン増幅器12から
の出力信号を輝度変調信号として用いてオージェ電子像
の観察を行なうための陰極線管(CRT)、15は一次
電子線1の試料表面上における走査とCRT14のビー
ム走査を同期して行なわせるための同期発振器、16は
篭子エネルギー分析器40入射口近傍に設けた本発明の
電極、17は同電極16で検出した微小電流を増幅する
ための電流増幅器である。
ージェ電子を含む二次電子、4は電子エネルギー分析器
、5は上記分析器4の検出立体角、6は一次電子線源、
7は一次電子線1を加速し引出す電極、8は一次電子線
収束用の電磁レンズ、9は一次電子線1を試料20表面
上でXY各方向に走査させるための偏向コイル、10は
電子エネルギー分析器4に掃引電圧を印加するための掃
引電源、11は荷電粒子検出器、12はロックイン増幅
器、13は割算回路、14はロックイン増幅器12から
の出力信号を輝度変調信号として用いてオージェ電子像
の観察を行なうための陰極線管(CRT)、15は一次
電子線1の試料表面上における走査とCRT14のビー
ム走査を同期して行なわせるための同期発振器、16は
篭子エネルギー分析器40入射口近傍に設けた本発明の
電極、17は同電極16で検出した微小電流を増幅する
ための電流増幅器である。
電子線源6から発生した一次電子線1は引出し用電極7
によって加速され、−天竜子線収束用電磁レンズ8と偏
向コイル9によって試料2の表面上にて収束及び偏向さ
れる。−天竜子線1の照射により、オージェ電子3は試
料表面から放出されるが、電子エネルギー分析器4の検
出立体角5に入射した電子のみが上記分析器4の分散場
に入り、さらに特定のエネルギーをもった電子が荷電粒
子検出器11に達し、ロックイン増幅器12で増幅きれ
る。この時、掃引電源10を用いて上記分析器4に印加
する電圧を掃引することによって、オージェ電子3のエ
ネルギースペクトルが得られる。
によって加速され、−天竜子線収束用電磁レンズ8と偏
向コイル9によって試料2の表面上にて収束及び偏向さ
れる。−天竜子線1の照射により、オージェ電子3は試
料表面から放出されるが、電子エネルギー分析器4の検
出立体角5に入射した電子のみが上記分析器4の分散場
に入り、さらに特定のエネルギーをもった電子が荷電粒
子検出器11に達し、ロックイン増幅器12で増幅きれ
る。この時、掃引電源10を用いて上記分析器4に印加
する電圧を掃引することによって、オージェ電子3のエ
ネルギースペクトルが得られる。
次に、試料2の表面における特定元素の濃度分布を観桜
するために、上記分析器4に印加する掃引電圧を固定し
エネルギースペクトル中の上記特定元素に相当するスペ
クトル線信号強度を得て、同信号強度をCRT14上の
輝度変調信号とじて用いる。同時に、CRT14のビー
ム走査と試料20表面上における一次電子線走査を同期
発振器15によって同期させて、試料表面における上記
特定元素の濃度分布をCRT14上で白黒のコントラス
トとして表示する。
するために、上記分析器4に印加する掃引電圧を固定し
エネルギースペクトル中の上記特定元素に相当するスペ
クトル線信号強度を得て、同信号強度をCRT14上の
輝度変調信号とじて用いる。同時に、CRT14のビー
ム走査と試料20表面上における一次電子線走査を同期
発振器15によって同期させて、試料表面における上記
特定元素の濃度分布をCRT14上で白黒のコントラス
トとして表示する。
ここで、ロックイン増幅器12からの出力信号には、先
に述べたように、試料形状の影響や一次電子流の経時変
化が會まれている。それらによるオージェ電子信号強度
の変動は、上記エネルギー分析器4の近傍に設置した電
極16に流入する二次電子流強度のそれにほぼ比例する
。したがって、オージェ電子信号強度を二次電子流強度
で割算し、その出力信号をCRT14の輝度変調信号と
すれば、試料形状の影響や一次電子流の経時変化を取除
いた元素分布像を得ることができる。
に述べたように、試料形状の影響や一次電子流の経時変
化が會まれている。それらによるオージェ電子信号強度
の変動は、上記エネルギー分析器4の近傍に設置した電
極16に流入する二次電子流強度のそれにほぼ比例する
。したがって、オージェ電子信号強度を二次電子流強度
で割算し、その出力信号をCRT14の輝度変調信号と
すれば、試料形状の影響や一次電子流の経時変化を取除
いた元素分布像を得ることができる。
なお、電極16に流入する二次電子流は少ないため、電
流増幅器17によって十分増幅する。
流増幅器17によって十分増幅する。
以上説明したごとく本発明によれば、走査型オージェ電
子分析装置において試料表面上の凹凸や一次電子流の経
時変化がオージェ電子像に及ぼす影響を取除くことがで
きるので、試料表面における忠実な元素分布像の観察を
可能ならしめる効果がある。
子分析装置において試料表面上の凹凸や一次電子流の経
時変化がオージェ電子像に及ぼす影響を取除くことがで
きるので、試料表面における忠実な元素分布像の観察を
可能ならしめる効果がある。
第1図は、試料から放出されたオージェ電子のうち電子
エネルギー分析器に入射するオージェ電子数の割合が試
料形状によって変化することを示す説明図、第2図は、
本発明による走査型オージェ分析装置の一実施例のブロ
ック構成図である。 1・・・−天竜子線、2・・・試料、3・・・オージェ
電子を含む二次電子流、4・・・電子エネルギー分析器
、5・・・検出立体角、6・・・電子線源%7・・・−
天竜子線引出し用電極、8・・・−天竜子線収束用電磁
レンズ、9・・・偏向コイル、10・・・掃引電源、1
1・・・荷電粒子検出器、12・・・ロックイン増幅器
、13・・・割算回路、14・・・陰極線管(CRT)
%15・・・同期発振器、16・・・電極、17・・・
電流増幅器。
エネルギー分析器に入射するオージェ電子数の割合が試
料形状によって変化することを示す説明図、第2図は、
本発明による走査型オージェ分析装置の一実施例のブロ
ック構成図である。 1・・・−天竜子線、2・・・試料、3・・・オージェ
電子を含む二次電子流、4・・・電子エネルギー分析器
、5・・・検出立体角、6・・・電子線源%7・・・−
天竜子線引出し用電極、8・・・−天竜子線収束用電磁
レンズ、9・・・偏向コイル、10・・・掃引電源、1
1・・・荷電粒子検出器、12・・・ロックイン増幅器
、13・・・割算回路、14・・・陰極線管(CRT)
%15・・・同期発振器、16・・・電極、17・・・
電流増幅器。
Claims (1)
- 1、−天竜子線を発生させるための電子銃、−天竜子線
を試料表面上において収束および走査させるための゛電
子光学系、上記−天竜子線の照射によって試料より放出
したオージェ電子をエネルギー分析するための電子エネ
ルギー分析器、オージェ電子を検出するための荷電粒子
検出器、オージェ電子信号を増幅・位相敏感検波するロ
ックイン増幅器、試料表面上の一次電子線の走査に同期
してロックイン増幅器からのオージェ電子信号をブラウ
ン管上に輝度変調することができる画像表示装置から構
成される走査型オージェ分析装置において、電子エネル
ギー分析器の入射口の一部もしくは近傍に電気的に絶縁
した電極を設けたことを特徴とする走査型オージェ電子
分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58141049A JPS6033040A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | オ−ジエ電子分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58141049A JPS6033040A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | オ−ジエ電子分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6033040A true JPS6033040A (ja) | 1985-02-20 |
Family
ID=15283057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58141049A Pending JPS6033040A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | オ−ジエ電子分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6033040A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4740693A (en) * | 1984-12-14 | 1988-04-26 | Hitachi, Ltd. | Electron beam pattern line width measurement system |
-
1983
- 1983-08-03 JP JP58141049A patent/JPS6033040A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4740693A (en) * | 1984-12-14 | 1988-04-26 | Hitachi, Ltd. | Electron beam pattern line width measurement system |
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