JPS6031901B2 - プラズマ溶射皮膜形成方法 - Google Patents

プラズマ溶射皮膜形成方法

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JPS6031901B2
JPS6031901B2 JP56163311A JP16331181A JPS6031901B2 JP S6031901 B2 JPS6031901 B2 JP S6031901B2 JP 56163311 A JP56163311 A JP 56163311A JP 16331181 A JP16331181 A JP 16331181A JP S6031901 B2 JPS6031901 B2 JP S6031901B2
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JP
Japan
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plasma
spraying
hardness
spray coating
sprayed
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JP56163311A
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JPS5864371A (ja
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誉 原
祥悟 松木
敏機 金子
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Honda Motor Co Ltd
Original Assignee
Honda Motor Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/134Plasma spraying

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプラズマ溶射によってワーク表面に形成される
密着性を維持しつつ耐摩耗性に優れ、且つ高硬度の溶射
皮膜形成方法に関する。
従来から、浸炭、窒化、焼入れ、硬質クロムメッキ、金
属溶射、ガス溶射等の表面硬化法(ハードフェーシング
)によって各種材料、部品の表面に硬質層或いは硬化膜
を形成し、耐摩耗性等の向上を図っており、また最近に
おいては、プラズマ溶射法による表面硬化法が利用され
るに至っている。
斯るプラズマ溶射法はMo(モリブデン)、W(タング
ステン)、Ni(ニッケル)、セラミックス或いは超耐
熱材料であるサーメツトなどの高硬度、高融点の物質を
1000餅G〜20000午0という極めて高温のプラ
ズマ炎の中に投入して、溶融した微粒子とし、これを3
50〜430の/secのジェット流によって高速度で
素材表面に吹き付けて一様な溶射皮膜を形成するように
したものである。
そして上記ジェット流をなす作動ガスとしてふ(アルゴ
ン)He(ヘリウム)、日2(水素)、N2(チッ素)
、C0(一酸化炭素)などがあるが、一般的にはArガ
ス或いはArガスにN2及び4などを混入したものを用
い、トーチの電極材料の保護及び消耗を少〈し、安定し
たジェット流を長時間維持するとともに、高温度領域を
拡大し加熱を強力に行なうようにしている。
ここで従来のプラズマ溶射においては、溶射皮膜の酸化
防止を図り密着性を向上せるめる目的から、ガスによっ
てシールドした無酸化雰囲気中でプラズマ溶射を行なう
ようにしている。
しかしながら、無酸化雰囲気におけるプラズマ溶射によ
って形成される溶射皮膜の硬度は400〜45雌mV程
度であり、これでは耐摩耗性が増々要求されるピニオン
シャフト、シフトフオーク等の表面に形成する被膜とし
て不充分である。これに対し、比較的硬度を高める手段
としてガス溶射があり、このガス溶射にってMoの皮膜
を形成する場合には、該皮膜の硬度は斑0〜62凪mV
程度となるので硬度的には満足するものであるが、皮膜
の剥離強度が260〜275k9/地となるので実用に
供し得ない。
本発明者等は所定範囲の割合で溶射剤の酸化物が混在す
る溶射皮膜は、密着性が阻害されることなく硬度のみが
向上するという知見に基き、上誌従釆例の課題を解決す
べく本発明をなしたものである。
即ち、本発明の目的は、プラズマジェットの作動ガス中
に、あえて適量の空気を供給混合せしめることで、熔射
剤中に適量の酸化物を混在せしめ且つ該酸化物を構成す
る酸素の割合が4.0〜80重量%とした耐摩耗性と硬
度の双方を同時に満足するプラズマ溶射皮膜形成方法を
提供するにある。
以下に本発明の好適一実施例を添付した参考写真ととも
に詳述する。参考写真1は本発明に係る溶射皮膜形成方
法によって得られた溶射皮膜をION群こ拡大したもの
であり、その製造方法は次の通りである。
先ずワーク表面にプラズマジェットを噴出するトーチ内
にAr等の不活性作動ガスを送給するとともに、トーチ
内の陽極と陰極間に高周波放電を行なし、ア−クを発生
せしめ、作動ガスを加熱する。
すると作動ガスの一部は電離状態となって所謂プラズマ
を発生し、プラズマジェットとしてトーチから噴出する
。このときMoなどの溶射材の粉末をプラズマジェット
中に送給するとともに、該プラズマジェット中に露点が
−5℃〜15oCの乾燥空気を強制的に供給源合する。
斯る乾燥空気を供給するのは、自然に巻込まれる空気は
水分を含んでおり、熔射皮膜中に水分が混入すると皮膜
の剥離強度が低下するからである。このようにして溶射
材はプラズマジェットの熱によって溶融し、その一部は
上記強制的に供給した空気によって酸化せしめられ、ワ
ーク表面に吹付け形成される溶射皮膜には参考写真1及
び第1図に示す如く、空孔1・・・の間に細長い形状を
した溶射材の酸化物2・・・がマトリックス状に混在す
ることとなる。また参考写真D‘ま酸素・アセチレンガ
ス炎を用し、てMo線村を溶融してワーク表面に皮膜を
形成するガス溶射皮膜を10M部こ拡大して示したもの
であり、この参考写真からも明らかな如く、炎の温度が
約3200qoと低いガス溶射による場合は溶融して飛
行するMo粒子の粒径も100〜150仏と大きいため
、皮膜の組織自体が阻大化し、後述の実験結果からも明
らかな如く、剥離強度の面において欠点がある。そして
参考写真mは通常のプラズマ溶射、即ち無酸化雰囲気に
おいて行なったプラズマ溶射によって得られた溶射皮膜
を100倍拡大したものであり、この参考写真mからも
明らかな如く、通常のプラズマ溶射による場合は皮膜組
織は繊密であるが、溶射材の酸化物の混在は殆んどなく
、後述する実験結果からも明らかな如く硬度が不足する
こととなる。次に溶射条件として、 1.プラズマ溶射材:プラズマダイン製 SGIOOガ
ン2.作 動 電 流:90M 3.;電圧:28V 4. ガ ス:Aflo瓜CFH5.溶 射
距 離:30肌/机 6.港 射 材:99.9% Mo粉末 7.空気流量(強制供給):700そ/分内径5中のノ
ズルよりプ ラズマ炎中へ混入する。
の条件によってワーク表面に形成した溶射皮膜の摩耗テ
ストを第2図に示す装置によって行なった結果を〔表1
〕に示す。
尚図中Wはワークであり、その材質はSCM22で外周
には0.3肌厚のMo溶射皮膜3が形成されている。ま
た4はステータであり、その材質はSCM22からなる
浸炭材で、回転数は20比pm更に接触中10帆で圧力
を30kg/地として潤滑油(ホンダウルトラS)を介
して20時間ワークに接触回転するようにしている。表
1この〔表1〕から明らかな如く、溶射皮膜中の酸素
量が4.0重量%未満では硬度も充分といえず、且つ摩
耗量も大きい。
また酸素量が8.の重量%を超えると硬度は飛躍的に向
上し摩耗量は減少するが、剥離強度が低下する欠点があ
る。尚、強制的に供給する空気の供給量で表わさず、酸
素の重量%で表わしたのは、空気の供給量は綾射条件*
*によて異なること及び被膜の硬度に直接影響するのは
酸化物の量であることによる。次に本発明方法の溶射皮
膜と、ガス溶射及び無酸化雰囲気におけるプラズマ溶射
によって形成された溶射皮膜とを硬度及び剥離強度の点
で比較して〔表2〕に示す。
表 2 この〔表2〕から明らかな如く、ガス溶射による場合は
ある程度の硬度を得ることができるが、剥離強度に劣り
実用に供せず、また通常の無酸化雰囲気におけるプラズ
マ溶射による場合は充分な剥離強度を得ることができる
が、硬度が不足し、ピニオンシャフト或はシフトフオー
クの如く高硬度が要求されている部材には適用できない
これに反し適量の空気を強制的にプラズマジェット中に
混入せしめ、皮膜中に所定量の溶射材酸化物を含有する
ようにしたものは、硬度及び剥離強度のいずれをも満足
することが分かる。以上の説明で明らかな如く本発明に
よれば溶融した溶射材をワーク表面に吹付けるプラズマ
ジェット中に、あえて空気を強制的に供給混合すること
で、溶射皮膜中にその割合が4.0〜8.の重量%であ
る酸素によって構成される溶射材の酸化物混在せしめた
ので、高硬度と剥離強度の双方を同時に満足する溶射皮
膜を得ることができ、しかも組織が繊密で均一なものが
得られる。
したがってシフトフオーク或いはピニオンシャフト等の
高硬度及び耐摩耗性が要求される部材に適用して極めて
効果的である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の好適一実施例を示すものであり、第1図
は本発明に係る溶射皮膜の拡大図、第2図は耐摩耗性テ
ストを行なう装置の概略側断面図である。 尚、図面中1は空孔、2は酸化物、3は港射皮膜、4は
ステータ、Wはワークである。 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 プラズマ溶射における溶射粒子の飛行雰囲気を無酸
    化雰囲気とするとともに該雰囲気中への空気の巻込みが
    殆んどないような溶射距離とし、更に溶射皮膜中の酸化
    物を構成する酸素の割合が溶射皮膜全体に対して4.0
    〜8.0重量%となる量の露点−5℃〜15℃の乾燥空
    気を、プラズマジエツト炎中に強制的に供給するように
    したことを特徴とするプラズマ溶射皮膜形成方法。
JP56163311A 1981-10-12 1981-10-12 プラズマ溶射皮膜形成方法 Expired JPS6031901B2 (ja)

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JPS5864371A JPS5864371A (ja) 1983-04-16
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