JPS60259935A - 濁度計 - Google Patents

濁度計

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JPS60259935A
JPS60259935A JP59115409A JP11540984A JPS60259935A JP S60259935 A JPS60259935 A JP S60259935A JP 59115409 A JP59115409 A JP 59115409A JP 11540984 A JP11540984 A JP 11540984A JP S60259935 A JPS60259935 A JP S60259935A
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JP
Japan
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semiconductor
laser diode
turbidity
temperature
semiconductor laser
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JP59115409A
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English (en)
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Isao Endo
遠藤 勲
Teruyuki Nagamune
輝行 長棟
Ichiro Inoue
一郎 井上
Kozo Inoue
浩三 井上
Tadashi Nohira
野平 正
Ikuzo Kagami
加賀美 幾三
Tatsuya Iwakura
達也 岩倉
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KOMATSUGAWA KAKOKI KK
Japan Science and Technology Agency
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
Fuji Facom Corp
Original Assignee
KOMATSUGAWA KAKOKI KK
Research Development Corp of Japan
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
Fuji Facom Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は濁度計、特に発酵装置の培養液の濁度を測定す
るのに好適な濁度計に関するものである。
(従来技術) 従来、工業的装置内における懸濁液の濁度を測定する場
合、光源としてはタングステンランプを用いることが多
かった。しかし、光源としてのタングステンランプは光
量の変化が大きいこと、寿命が短いこと、発熱すること
、被測定液の色の影響を受けることなどの多くの欠点が
あった。このような欠点を除去するために、例えば特公
昭56−49551号公報に記載されているように光源
として発光ダイオードを用いる濁度計が知られている。
しかしながら、発光ダイオードから放射される出力光は
弱いため10%程度の高い濁度では測定できないこと、
温度の影響を大きく受けることなどの理由のため、直接
装置内の被測定液に濁度計を入れないで、フローセルに
被測定液を手動でまたはバイパス経路を経て導いて測定
したり、稀釈して測定する必要があり、装置が大型で複
雑となり易い欠点があった。特に被測定液を稀釈して測
定する場合には稀釈誤差の影響で測定精度が悪くなる欠
点もある。
さらに、[A +1111 ied M icrobi
ologyVol、 27. No 、 5.1974
May、第874〜877頁や実開昭57−20195
4号公報には光源としてHe−Neガスレーザを用い、
受光器として光電子増倍管を用いた濁度計が記載されて
いる。この濁度計ではHe−Neガスレーザから強力な
レーザ光が得られるので相当濁度の大きい被測定液を稀
釈しないで測定することができる可能性があるが、He
−Neガスレーザ装置や光電子増倍管を含む装置は大型
となり、これらと検出部と一体化して工業的装置に直接
装着することは困難である。したがってHe−IJeガ
スレーザ装置や光電子増倍管を含む装置は被測定系にお
ける懸濁液が入った工業的装置から離れたところに設置
し、これらを光ファイバを介して連結する構成とする必
要があるので、光フアイバ通過中でのレーザ光の損失や
光フアイバ接合部における損失があるため高出力のレー
ザ光を十分有効に利用することはできない。また、装置
全体は非常に大骨りなものとなると共に点検、保守も非
常に面倒となる欠点もある。
(発明の目的) 本発明の目的は、上述した従来の欠点を除去し、広範囲
の濁度を正確に測定することができると共に被測定系に
直接装着することができる程度に小型軽量であり、しか
も温度による影響を受けにくい濁度計を提供しようとす
るものである。ここで非測定系に直接装着するとは、懸
濁液が入っている装置、例えば、発酵槽又は発酵液(懸
濁液)が流れているパイプ等に直接本発明の濁度計を取
りつけることで、それにより目的とする、内部の発酵液
をサンプリングする等しないで、直ちに濁度を測定する
ものである。
(発明の概要) 本発明の濁度計は、半導体レーザダイオードと半導体フ
ォトダイオードとを、半導体レーザダイオードから放射
されるレーザ光が、濁度を測定すべき試料を経て半導体
フォトダイオードに入射するように検出部に一体的に装
着し、この検出部を、被測定系に直接装着するよう構成
したことを特徴とするものである。
、本発明者等は種々の実験検討を行ない、光源として半
導体レーザダイオードを用い、受光器として半導体フォ
トダイオードを用い、これらを検出一部と一体的に組込
むことにより小形軽量であると共に被測定系としての工
業的装置に直接装着することができる濁度計の開発に成
功したものである。
半導体レーザダイオードの光出力は非常に高く、安定し
ており、寿命も長い。また被測定液の着色の影響を受け
にくい。したがって高濁度、高着色の懸濁液の濁度をも
正確に測定することができる。
本発明の濁度計は種々の用途に用いることができるが、
特に発酵装置における培養液の濁度測定に用いるのに好
適である。このような場合には測定濁度と菌体濃度との
相関性が大きいので、培養液を稀釈せずに広い範囲に渡
って菌体濃度を直接測定することができる。また、この
ような発酵装置では高温殺菌が行なわれるが、その都度
濁度計を取出す必要はない。すなわち、半導体レーザダ
イオードおよび半導体フォトダイオードの通電時の許容
最高温度は通常60〜70℃と低いが、これらのダイオ
ードに通電して濁度を測定するときの発酵液の温度は通
常50℃以下で上記の許容最高温度より低く測定に支障
はない。また、殺菌時の発酵槽温度は120〜125℃
と高温になるが、半導体レーザダイオードや半導体フォ
トダイオードの非通電時の許容最高温度は60〜125
℃と高いので、非通電時の許容最高温度が125℃と高
いものを使用すればなんら問題はない。さらに後述する
実施例によって示すように断熱部材を設けることにより
、これらダイオードの周囲温度を許容最高温度以下に保
持し、かつ殺菌時には半導体フォトダイオードを強制的
に非通電状態とする回路を設けたりすることによって、
これらダイオードが破壊するのを確実に防止することが
できる。
(実施例) 第1図は本発明の濁度計の一実施例の要部を示す断面図
である。本実施例の濁度計においては、半導体レーザダ
イオード1を含む発光部2と、半導体フォトダイオード
3を含む受光部4とを並べて検出部Sと一体になるよう
に配置する。また、半導体レーザダイオード1から放射
されるレーザ光を検出部Sの下端の開口部5まで導くプ
リズム6および拡散板7を配置すると共に開口部5に存
在する被測定液8を透過したレーザ光を半導体フォトダ
イオード3へ導く拡散板9およびプリズム10を配置す
る。拡散板7および9は、半透明石英(泡入り水晶)、
オパールグラスなどで構成することができ、プリズム6
および10は石英、パイレックスガラス、水晶などの材
料で造ることができる。また、プリズム6および10の
入射面および出射面を除く側面はアルミニウムを蒸着し
て鏡面11および12とすることができる。開口部5の
間隔りは測定対象に応じて適切に選択できるが、発酵培
養液の場合には、例えば1mm〜2n+n+とすること
ができる。
発光部2の半導体レーザダイオード2から放射される高
出力のレーザ光はプリズム6内を透過し、拡散板7で拡
散され、開口部5に存在する被測定液8に照射される。
このとき、レーザ光は被測定液8中の粒子によって散乱
されるので被測定液を透過する゛光量は濁度に反比例し
たものとなる。すなわち、被測定液8の濁度が高い場合
には透過光は減少し、濁度が低い場合には透過光は増大
する。
この透過レーザ光を拡散板9およびプリズム10を経て
半導体フォトダイオード3に入射させる。
したがって、この半導体フォトダイオード3の出力を処
理することにより被測定液8の濁度を測定することがで
きる。
第2図は本発明による濁度計を工業的装置である発酵装
置の壁面に取付けた状態を示す断面図である。半導体レ
ーザダイオードから半導体フォトダイオードに到る光学
系は第1図に示したものと −基本的に同一であるので
、同じ部分には同じ符号を付けて示す。本例では検出部
Sのハウジングを円筒部15と、支持部16とキャップ
部17とを以って構成し、これらをねじにより連結する
。半導体レーザダイオード1を含む発光部2と半導体フ
ォトダイオード3を含む受光部4とは支持部16の円板
16aの上面に取付け、プリズム6および10は、この
円板16aにあけた孔の中に嵌合保持する。また、両プ
リズム6および10の間には、不透明なスペーサ18を
配置する。円筒部15の上部には袋ねじ15aを形成し
、被測定液8を含む装置の壁19に形成した孔を画成す
る円筒19aに形成したねじと螺合させて、濁度計を壁
19に装着する。このとき円筒部15の下端が被測定液
8中に浸入するようにする。この円筒部15の下端には
孔15bをあけると共に金属性のネッ1−20を設ける
。このネット20は細かい気泡が濁度計内に侵入するの
を防止する作用を有している。また、22は液出口であ
る。さらにキャップ部17にはコネクタを介してコード
21を連結し、発光部2および受光部4を外部回路へ接
続するように構成する。
第2図に示すように、被測定液8を収容する装置、例え
ば発酵装置の壁19に濁度計を装着すると、半導体レー
ザダイオード1および半導体フォトダイオード3は発酵
装置の外部に配置されることになると共に被測定液8で
ある培養液と半導体レーザダイオード1および半導体フ
ォトダイオード3との間には熱伝導性の悪いプリズム6
および10が介在しているため、半導体レーザダイオー
ド1や半導体フォトダイオード3が熱の影響を受けるの
を軽減することができる。すなわち、本例ではプリズム
6および10は断熱部材としても作用することになる。
また、ハウジングを介して半導体レーザダイオード1や
半導体フォトダイオード3に熱が伝導されるのを防止す
るために、これらダイオードを囲む空岡に断熱部材23
を充填する。発酵装置においては、通常の発酵を行なっ
ているときの被測定液8の温度は約20〜50℃であり
、この程度の温度では半導体レーザダイオード1や半導
体フォトダイオード3は通電中であっても破壊されるこ
とはない。また発酵装置を高温殺菌するときには、12
0〜125℃程度の蒸気を長時間に渡って使用するが、
特に本実施例では半導体レーザダイオード1および半導
体フォトダイオード3を装置外に配置するとともに、プ
リズム6.10.および断熱部材23によって断熱して
いるので、半導体レーザダイオード1や半導体フォトダ
イオード3の周囲温度はそれらの非通電時の許容最高温
度に上昇することはなく・、同時に高温殺菌時には、半
導体レーザダイオード1および半導体フォトダイオ−・
ド3を不作動状態にすることにより、上述した破壊の問
題はまったく生せず、温度計を発酵装置から取外す必要
はない。このことは、発酵の自動制御、省力化に対し、
非常に有効である。
本例では、以下説明するように駆動回路に工夫を施し、
測定領域が所定の温度以上のときには装置が不作動とな
るように構成する。
第3図は上述したような温度保護回路を組込んだ駆動回
路の一例の構成を示すものである。電源入力端子25a
 、25bに印加される交流電力をパワースイッチ26
および変成器27を経て直流定電圧源28に供給する。
この定電圧源28から出力される電圧を半導体レーザダ
イオード1および半導体フォトダイオード3のオン・オ
フスイッチ29およびスイッチング回路30を経て駆動
回路31へ印加し得るように構成する。この駆動回路3
1からの駆動信号を導線21aを経て半導体レーザダイ
オード1に印加する。スイッチング回路30はリレーコ
イル30aとリレー接点30bを具えており、常時は図
面に示すような状態となっているが、リレーコイル30
aが附勢されるとリレー接点30bが切替わり、定電圧
源28と駆動回路31との接続を断つようになっている
本例では、このリレーコイル30aを測定領域の温度に
よって制御し、温度がある設定温度以上となったときに
は、リレーコイル30aを付勢し、半導体レーザダイオ
ード1を不作動とするものである。この目的のために、
測定領域の温度を検知するサーミスタ32を設け、比較
器33に接続する。この比較器には温度設定用のポテン
ショメータ34をも接続し、サーミスタ32により検知
される温度が設定温度よりも高くなったときに比較器3
3から出力信号が発生される。この信号を増幅器35で
増幅した後、リレーコイル駆動回路36に供給する。こ
の駆動回路36はこの信号を受けると、リレーコイル3
0aを付勢し、リレー接点30bを図面に示す状態から
切換え、半導体レーザダイオード1の駆動回路31への
電源電圧の供給を遮断し、半導体レーザダイオード1を
不作動状態に維持する。このよ゛うにして、半導体レー
ザダイオード1を破壊から有効に保護することができる
一方、半導体フォトダイオード3の出力信号は導線21
bおよび増幅器37を経て中央処理装置(CPU)38
に供給し、ここで適切に処理して濁度を表わす信号を作
成する。この信号を表示器39に供給して測定した濁度
を表示することができると共に出力端子40を経て記憶
装置のような外部装置へ供給することもできる。また、
比較器33の出力を中央処理装置38へも供給して半導
体レーザダイオード1が不作動となっていることを検知
し、オペレータにこれを報知する手段を駆動する。ここ
で増幅器37の電源は、スイッチング回路30を経て印
加されるように構成しであるので、温度が上昇してスイ
ッチ接点30bが開となったときには半導体フォトダイ
オード3も不作動状態となる。
上述したように半導体レーザダイオードおよび半導体フ
ォトダイオードの温度による破壊は有効に防止する手段
を講じたが、半導体レーザダイオードの発光出力は温度
に応じて変動すると共に半導体フォトダイオードの動作
特性も温度に依存するので、これらの素子に対する温度
補償手段を講するのが好適である。
第4図は半導体レーザダイオードの光出力を温度変動に
拘らず一定に維持する手段を講じた発光部の一例の構成
を示す回路図である。発光部2には半導体レーザーダイ
オード1から放射されるレーザ光の一部を直接受光する
ように半導体フォトダイオード41を配置する。この半
導体フォトダイオード41のアノードを分圧抵抗42お
よび43を介して差動増幅器44の正側入力端子に接続
する。この差動増幅器44の負側入力端子はポテンショ
メータ45の摺動タップに接続する。この差動増幅器4
4の出力端子を、ダーリントン接続したトランジスタ4
6および47に接続する。
トランジスタ47のエミッタを抵抗48を経て半導体レ
ーザダイオード1のカソードに接続する。
半導体レーザダイオード1のアノードおよび半導体フォ
トダイオード41のカソードは共通に接地する。
今、半導体レーザダイオード1の周囲温度が上昇し、レ
ーザ光出力が減少すると、半導体フォトダイオード41
に入射する光も減少し、差動増幅器44の正側入力端子
の電位は低下し、その出力電圧も低下する。したがって
トランジスタ46および47は一層導通し、半導体レー
ザダイオード1には一層大ぎな電流が流れ、その出力光
は一層増大する。このようにして半導体レーザダイオー
ド1から放射されるレーザ光強度を周囲温度の変動に拘
らず一定に維持することができる。
本例では温度変動に対してレーザ光出力を一定に維持す
るように構成したが、電源電圧の変動に対してもレーザ
光出力を安定に維持することもできる。
第5図は、温度、電磁気、静電気などが、半導体フォト
ダイオード3に与える影響を補償する回路を設けた受光
部4の一例の構成を示すものである。半導体フォトダイ
オード3のアノードは端子4aを介してバイアス電圧−
VD に接続し、カソードは演算増幅器50の負側入力
端子に接続する。
この演算増幅器50の出力端子と負側入力端子との間に
は帰還抵抗51を接続する。また、演算増幅器50の正
側入力端子は、端子4bを介して基準電圧VSに接続す
る。ざらに電源端子は端子4c、4dを介してそれぞれ
+15Vおよび一15Vの電源電圧に接続する。演算増
幅器50の出力端子は端子4eに接続し、ここから外部
回路へ光電変換された出力信号を供給できるように構成
する。
本例の受光部4によれば帰還を施した演算増幅器50を
設けたため、ノイズが減少すると共に電磁気や静電気の
影響がなくなり、さらに温度変動に対しても安定に動作
することになり、高精度の測定を行なうことができる。
第6図は本発明の濁度計の他の実施例の構成を示す断面
図である。本例ではハウジングを2本の円筒部61.6
2と、これら円筒部を保持すると共に被測定液を収容す
る装置に取付けるための袋ねじ63aを形成した支持部
63と、この支持部に螺着されるキャップ部64とを以
って構成する。
円筒部61の先端には孔をあけ、ここに拡散板65を取
付けると共にこの拡散板と対向するように半導体レーザ
ダイオード66を含む発光部67を配置する。さらに円
筒部61の内部には断熱性を有すると共に電気絶縁性を
有する材料を充填して断熱部材68を形成する。この断
熱部材68は半導体レーザダイオード66から放射され
るレーザ光に対して透明なものである。発光部67から
の導線69は断熱部材68の中を延在させ、さらにコー
ド70を経て外部回路に接続する。他方の円筒部62の
内部も同様に構成し、下端にあけた孔に拡散板71を設
け、これに対向して半導体フォトダイオード72を有す
る受光部73を配置し、断熱部材74を充填する。この
断熱部材74を経て導線75を延在させ、コード70を
介して外部回路に接続するよう構成する。
本例においては、半導体レーザダイオード66および半
導体フォトダイオード72は断熱部材68および74に
よって周囲から断熱されているの′c湯温度より破壊す
ることはない。しかし、非通電時の許容最高温度が比較
的低い半導体レーザダイオード66および半導体フォト
ダイオード72の場合には装置内部に挿入して殺菌する
ときに高温の雰囲気に置かれるので第2図に示したよう
な濁度計を用いる方が有利である。
上述した本発明の濁度計で用いる半導体レーザダイオー
ドは、AI −Ga−As系、Qa−As・P系、In
 −As −P系の半導体レーザダイオードを以って構
成し、半導体フォトダイオードはシリコンまたはゲルマ
ニウム系のフォトダイオードを以って構成することがで
きるが、特に、A1・Ga−As系の半導体レーザダイ
オードとシリコン系の半導体ダイオードとの組合せが好
適である。また、半導体フォトダイオードとしては、特
に感度の高いPINフォトダイオードを用いるのが好適
である。
本発明は上述した実施例にのみ限定されるものではなく
、幾多の変形や変更を加えることができる。例えば上述
した実施例ではレーザ光の出射部および入射部に拡散板
を設けたが、これらの一方または双方を省くこともでき
る。また、第1図および第2図に示した実施例において
プリズムの代りに光学ファイバを用いることもできる。
さらに第4図に示した温度補償回路において、温度が非
常に高くなり、半導体レーザダイオード1に流れる電流
が非常に大きくなるのを検知し、これに応じて電流を遮
断する保護回路を組込むことができる。この場合には第
3図に示したサーミスタを含む保護回路は省くことがで
きる。
(発明の効果) 上述した本発明の効果を要約すると次の通りである。
(1)光源として半導体レーザダイオードを用い、受光
器として半導体フォトダイオードを用い、これらを検出
部に一体的に取付けた構成としたため、小形軽量である
と共に取扱いの容易な濁度計を提供することができる。
(2)半導体レーザダイオードを用いるので高輝度の光
出力が得られ、広範囲の濁度を正確に測定することがで
きる。
(3)半導体レーザダイオードおよび半導体フォトダイ
オードは安価に入手できるので、濁度計のコストを下げ
ることができる。
(4)半導体レーザダイオードおよび半導体フォトダイ
オードに対する温度の影響を軽減するように構成したた
め、これらが破壊されることがない。したがって発酵装
置に適用した場合、高温殺菌時にも濁度計を発酵装置か
ら取外す必要がなく、操作が簡単となる。
(5)半導体レーザダイオードおよび半導体フォトダイ
オードに対して温度補償手段を講じたため、温度変動に
も拘らず正確かつ安定な測定を行なうことができる。
(6)半導体フォトダイオードに対する電磁気。
静電気の影響を軽減できる°ので、マグネチツクスター
ラを用いる発酵槽に適用した場合でも正確な測定ができ
る。
(7)測定領域の温度を検知し、所定温度以上のときに
は半導体レーザダイオードを強制的に不作動とするため
、半導体レザーダイオードを破壊から有効に保護、でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の濁度計の要部の構成を示す断面図、 第2図は本発明の濁度計の一実施例の構成を示す断面図
、 第3図は半導体レーザダイオードの駆動回路の一例の構
成を示す回路図、 第4図は温度補償を施した発光部の一例の構成を示す回
路図、 第5図は温度補償を施した受光部の一例の構成を示す回
路図、 第6図は本発明の濁度計の他の実施例の構成を示す断面
図である。 1.66・・・半導体レーザダイオード2.67・・・
発光部 3.72・・・半導体フォトダイオード4.73・・・
受光部 6,10・・・プリズム7、65.71・・・
拡散板 8・・・被測定液19・・・工業的装置の壁 15.16,17,63..64・・・ハウジングS・
・・検出部 23・・・断熱部材 68・・・断熱部材 特許出願人 小松川化工機株式会社 同 出願人 理化学研究所 同 出願人 富士フアコム制御株式会社同 出願人 新
技術開発事業団 第4図 第5図 第6図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、半導体レーザダイオードと半導体フォトダイオード
    とを、半導体レーザダイオードから放射されるレーザ光
    が、濁度を測定すべき試料を経て半導体フォトダイオー
    ドに入射するように検出部に一体的に装着し、この検出
    部を、被測定系に直接装着するよう構成したことを特徴
    とする濁度計。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01105134A (ja) * 1987-10-19 1989-04-21 Komatsugawa Kakoki Kk 測光装置
US4898462A (en) * 1987-02-26 1990-02-06 Nippondenso Co., Ltd. Device for detecting a transmissivity of a substance

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4894342A (en) * 1986-05-12 1990-01-16 C. D. Medical, Inc. Bioreactor system
FR2642522B1 (fr) * 1989-01-31 1991-05-10 Elf Aquitaine Appareil de mesure de densite optique in situ pour fermenteur
US5112745A (en) * 1989-09-29 1992-05-12 Space Medical Systems, Inc. Rapid identification of microbial organisms and determination of antibiotic sensitivity by infrared spectroscopy
GB9005021D0 (en) * 1990-03-06 1990-05-02 Alfa Laval Sharples Ltd Turbidity measurement
US5371600A (en) * 1992-08-12 1994-12-06 Candela Laser Corporation Fiber optic probe apparatus and method
US5335067A (en) * 1992-09-29 1994-08-02 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Spectrophotometric probe
US5617077A (en) * 1995-05-03 1997-04-01 Pittway Corporation Testable photoelectric detector
ATE423190T1 (de) 1997-04-18 2009-03-15 Cnic Ct Nac Investigaciones Diagnostische mikrobiologische testvorrichtung und verfahren
US6082177A (en) * 1997-09-22 2000-07-04 Snap-On Tools Company Nitric oxide enhanced response circuit for gas analyzer
EP1115430A4 (en) * 1998-10-01 2002-01-02 Minntech Corp SYSTEM FOR TREATMENT AND STERILIZING ENDOSCOPES
CN2364457Y (zh) * 1998-11-20 2000-02-16 官庆福 液体用光透过率测定装置的改良
US6803562B2 (en) * 2002-03-01 2004-10-12 Network Elements, Inc. Indirect monitoring of semiconductor light source within a photonic package
AU2003264805A1 (en) * 2002-10-18 2004-05-04 Brian David Bissett Automated kinetci solubility assay apparatus and method
US20050219526A1 (en) * 2003-01-17 2005-10-06 Hong Peng Method and apparatus for monitoring biological substance
US7339671B2 (en) * 2004-01-20 2008-03-04 Hong Peng Apparatus and method for monitoring biological cell culture
US20050190370A1 (en) * 2004-02-26 2005-09-01 Rosemount Analytical Inc. Turbidity sensing system with reduced temperature effects
GB0603589D0 (en) * 2006-02-23 2006-04-05 Medical Res Council Apparatus and method for monitoring cultures
US9575087B2 (en) 2012-09-06 2017-02-21 Parker-Hannifin Corporation Risk-managed, single-use, pre-calibrated, pre-sterilized sensors for use in bio-processing applications
US8233150B2 (en) * 2006-12-12 2012-07-31 Koninklijke Philips Electronics N.V. Sample concentration detector with temperature compensation
KR101370211B1 (ko) * 2007-02-28 2014-03-05 아지노모토 가부시키가이샤 이온 교환 수지탑의 액면 제어 방법, 그의 액면 제어 시스템 및 계면 레벨 센서
US20090149776A1 (en) * 2007-12-05 2009-06-11 Adams Scott C Optical sensor for detecting infection and other anomalous conditions associated with catheter systems
DE102008047467B4 (de) * 2008-09-17 2010-09-02 Ingede Internationale Forschungsgemeinschaft Deinking-Technik E. V. Messverfahren zur Beurteilung der Verunreinigung von fluiden Medien und Messzelle hierfür
KR101107095B1 (ko) * 2010-07-30 2012-01-30 한국수력원자력 주식회사 고온 용융염 중의 우라늄농도 실시간 측정장치
US8817259B2 (en) * 2011-03-25 2014-08-26 Parker-Hannifin Corporation Optical sensors for monitoring biopharmaceutical solutions in single-use containers
ITTO20110407A1 (it) * 2011-05-09 2012-11-10 Illinois Tool Works Dispositivo sensore ottico controllato
WO2014190089A1 (en) * 2013-05-21 2014-11-27 Kasten Stephen P System and apparatus for determining and controlling water clarity
DE102016104920B4 (de) * 2016-03-16 2024-02-08 Krohne Messtechnik Gmbh Verfahren zur Fertigung eines optischen Sensors zur Trübungsmessung
US10183120B2 (en) * 2016-07-15 2019-01-22 Common Sensing Inc. Dose measurement systems and methods
EP3723608B1 (en) 2017-12-15 2023-10-11 Gastroklenz Inc. Sensor monitoring system for in-dwelling catheter based treatments
AU2020303702A1 (en) 2019-06-26 2022-01-27 Gastroklenz Inc. Systems, devices, and methods for fluid monitoring
USD903126S1 (en) 2019-06-26 2020-11-24 Gastroklenz Inc. Monitoring device
USD984637S1 (en) 2019-06-26 2023-04-25 Gastroklenz Inc. Measurement vessel
JP2022078594A (ja) * 2020-11-13 2022-05-25 日本ピラー工業株式会社 液体センサ、及び、光導波路の製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3188857A (en) * 1962-08-27 1965-06-15 Phillips Petroleum Co Method and apparatus for concentration measurement and control
US3551670A (en) * 1968-07-03 1970-12-29 Bowser Inc Sludge level detector using an infrared source and detector
GB1331496A (en) * 1970-06-26 1973-09-26 Griffiths V S Instrument for determining the optical density of fluids
CH544145A (de) * 1971-07-23 1973-11-15 Mueller Hans Vorrichtung zur Überwachung des Organismenwachstums in Fermentationsgefässen
US3705316A (en) * 1971-12-27 1972-12-05 Nasa Temperature compensated light source using a light emitting diode
JPS5435114B2 (ja) * 1972-02-23 1979-10-31
US3892485A (en) * 1974-05-06 1975-07-01 Gen Electric Monitoring apparatus for measuring particles suspended in liquid and for measuring the opacity of the liquid
US3973852A (en) * 1974-08-30 1976-08-10 The Dow Chemical Company Method and apparatus for measuring particulate concentration in the atmosphere
US4056719A (en) * 1975-02-10 1977-11-01 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Two-way telephone transmission system utilizing opto-couplers
GB2053566B (en) * 1979-07-02 1984-05-02 Mostek Corp Integrated circuit package
JPS57201954A (en) * 1981-06-06 1982-12-10 Omron Tateisi Electronics Co Electronic cash register
US4561779A (en) * 1983-01-07 1985-12-31 Rikagaku Kenkyusho Instrument for measuring concentration of substance in suspension

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4898462A (en) * 1987-02-26 1990-02-06 Nippondenso Co., Ltd. Device for detecting a transmissivity of a substance
JPH01105134A (ja) * 1987-10-19 1989-04-21 Komatsugawa Kakoki Kk 測光装置
JPH0545904B2 (ja) * 1987-10-19 1993-07-12 Komatsugawa Kakoki Kk

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