JPS60259924A - Measurement of vacuum value of ion source - Google Patents

Measurement of vacuum value of ion source

Info

Publication number
JPS60259924A
JPS60259924A JP11573984A JP11573984A JPS60259924A JP S60259924 A JPS60259924 A JP S60259924A JP 11573984 A JP11573984 A JP 11573984A JP 11573984 A JP11573984 A JP 11573984A JP S60259924 A JPS60259924 A JP S60259924A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
current
repeller
vacuum
ion source
filament
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11573984A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0585858B2 (en
Inventor
Ryuichi Shimizu
志水 隆一
Hiroshi Yamauchi
洋 山内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Shimazu Seisakusho KK
Original Assignee
Shimadzu Corp
Shimazu Seisakusho KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp, Shimazu Seisakusho KK filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP11573984A priority Critical patent/JPS60259924A/en
Publication of JPS60259924A publication Critical patent/JPS60259924A/en
Publication of JPH0585858B2 publication Critical patent/JPH0585858B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L21/00Vacuum gauges
    • G01L21/30Vacuum gauges by making use of ionisation effects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable a vacuum value measurement in an ion source without a vacuum meter for exclusive use, by installing an electric current shock type ion source repeller or detecting a current value of an electric current flowing in a correspond unit of the repeller. CONSTITUTION:Between a repeller 4 and a filament 8, an electric current detector 6 detecting a repeller current Ir and between a grid 14 and the filament 8 an electric current detector 18 detecting an emission current Ie are installed respectively. An electric current flow quantity of the filament 8 is so controlled that the current Ie becomes 10mA assuming a bombard voltage Vb as 200V and a repeller voltage Vr as 10V, then a distinctive dependability is brought to existence between the current Ir at the time when Ar gas is introduced and a vacuum value of an ionizing chamber. Accordingly, by obtaining preliminarily a relation between current Ir and vacuum value, measurement of the vacuum value of the ionizing chamber can be made after detection of the current Ir.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はイオン銃等で使用される電子衝撃型イオン源内
の真空度を測定する方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for measuring the degree of vacuum within an electron impact ion source used in an ion gun or the like.

イオン銃は固体表面の分析手法としてのAES(オージ
ェ電子′分光法)、ESCA (X線電子分光法)、S
TMS(二次イオン質量分析)、IS。
Ion guns can be used for solid surface analysis methods such as AES (Auger electron spectroscopy), ESCA (X-ray electron spectroscopy), and S
TMS (Secondary Ion Mass Spectrometry), IS.

S(イオン散乱分光)等において固体表面をスパッタリ
ングするために使用される。
It is used for sputtering solid surfaces in S (ion scattering spectroscopy) and the like.

(従来の技術) イオン銃はイオン源でイオンを発生させ、それを特定方
向へ導き出すように構成されているが、出射されるイオ
ン量を制御するためにはイオン源に導入されるガスの圧
力を制御しなければならない。そのため、従来はイオン
源に真空計を設け、イオン源内の真空度が一定になるよ
うに導入ガス圧を制御している。
(Prior art) An ion gun is configured to generate ions in an ion source and guide them in a specific direction, but in order to control the amount of ions emitted, the pressure of the gas introduced into the ion source must be controlled. must be controlled. Therefore, conventionally, the ion source is provided with a vacuum gauge to control the introduced gas pressure so that the degree of vacuum within the ion source is constant.

真空計としては電離真空計が一般に使用され。Ionization vacuum gauges are generally used as vacuum gauges.

中でもBA (Bayard−Alpert)型真空計
がよく使用されている。
Among these, BA (Bayard-Alpert) type vacuum gauges are often used.

(発明が解決しようとする問題点) イオン源に真空計を設けるためには、真空計測定球を設
けるためのスペースが必要となってイオン源の構成が複
雑化し、また、別途設けられる真空計の分だけコストが
上昇することになる。
(Problems to be Solved by the Invention) In order to provide a vacuum gauge in the ion source, a space is required for installing the vacuum gauge measurement bulb, which complicates the configuration of the ion source. The cost will increase accordingly.

(問題点を解決するための手段) 本発明はイオン源の真空度を測定するために専用の真空
計を設けるのではなく、イオン源の構成部材を利用して
真空度を測定するものである。
(Means for Solving the Problems) The present invention does not provide a dedicated vacuum gauge to measure the degree of vacuum of the ion source, but instead measures the degree of vacuum using the constituent members of the ion source. .

本発明では電子衝撃型イオン源のリペラー又はリペラー
に対応する部材に流れる電流(以下リペラー電流という
)を測定することによりイオン源の真空度を測定する。
In the present invention, the degree of vacuum of the ion source is measured by measuring the current flowing through the repeller of the electron impact ion source or a member corresponding to the repeller (hereinafter referred to as repeller current).

すなわち、第1図に示されるようにフィラメントなどの
熱電子発生手段2から放出される電子を押し返すための
りベラ−4をその熱電子発生手段2より低電位に維持し
、リペラー4と熱電子発生手段2の間に電流検出器6を
挿入してリペラー電流Irを検出する。熱電子発生手段
2とリペラー4はイオン源の構成部材であり、電流検出
器6は本発明のために追加されたものである。
That is, as shown in FIG. 1, the repeller 4 for pushing back the electrons emitted from the thermionic generation means 2 such as a filament is maintained at a lower potential than the thermionic generation means 2, and the repeller 4 and the thermionic generation A current detector 6 is inserted between the means 2 to detect the repeller current Ir. Thermionic generation means 2 and repeller 4 are constituent members of an ion source, and current detector 6 is added for the purpose of the present invention.

(作用) 熱電子発生手段2から電子が放出されると、その電子は
イオン源のイオン化室のガス粒子に衝突してそのガス粒
子をイオン化する。発生したイオンは、一部はイオン源
から引き出されイオン銃からの出射イオンとして利用さ
れるが、多くはりベラ−4へ衝突して電荷を失いリペラ
ー電流Irを生じさせる。イオン化室で発生するイオン
量は、熱電子発生手段2から放出される電子量を一定に
すると、イオン化室のガス圧力(真空度)に依存するの
で、このリペラー電流Irもイオン化室の真空度に依存
する。
(Operation) When electrons are emitted from the thermoelectron generating means 2, the electrons collide with gas particles in the ionization chamber of the ion source and ionize the gas particles. Some of the generated ions are extracted from the ion source and used as ions ejected from the ion gun, but most of the ions collide with the bellows 4 and lose charge, producing a repeller current Ir. The amount of ions generated in the ionization chamber depends on the gas pressure (degree of vacuum) in the ionization chamber when the amount of electrons emitted from the thermionic generation means 2 is constant, so this repeller current Ir also depends on the degree of vacuum in the ionization chamber. Dependent.

そこで、予めイオン化室の真空度(このときは真空計を
用いる)とりベラ−電流Irとの関係を測定しておけば
、後はリペラー電流の検出により真空度を測定すること
ができるようになる。
Therefore, if you measure the relationship between the degree of vacuum in the ionization chamber (using a vacuum gauge at this time) and the repeller current Ir in advance, you can then measure the degree of vacuum by detecting the repeller current. .

(実施例) 第2図は本発明が適用される一例のイオン源を示す図で
ある。熱電子発生手段としてのフィラメント8の後方及
び側方にリペラー4が設けられ、リペラー4にはフィラ
メント8よりリペラー電圧Vrだけ低い電圧が印加され
ている。フィラメント8の前方にはイオンを取り出すア
パーチャ10を有する軟鉄製のアパーチャ面12があり
、フィラメント8とアパーチャ面12との間にはフィラ
メント8から放出された電子を加速するグリッド14が
設けられ、グリッド14にはフィラメント8よりボンバ
ード電圧vbだけ高い電圧が印加されている。
(Example) FIG. 2 is a diagram showing an example of an ion source to which the present invention is applied. A repeller 4 is provided behind and on the side of the filament 8 as a thermoelectron generating means, and a voltage lower than the filament 8 by a repeller voltage Vr is applied to the repeller 4. In front of the filament 8 is an aperture surface 12 made of soft iron having an aperture 10 for extracting ions, and a grid 14 for accelerating electrons emitted from the filament 8 is provided between the filament 8 and the aperture surface 12. A voltage higher than that of the filament 8 by the bombardment voltage vb is applied to the filament 14.

16は円筒型永久磁石で、グリッド14を取り囲むよう
に設けられ、かつフィラメント8はこの永久磁石16の
磁界がゼロになる位置の近傍に配置されている。この永
久磁石16はフィラメント8からの放出電子をアパーチ
ャ10を通る中心軸の周りに集め、イオンをその中心軸
近傍で発生しやすくすることによりアパーチャ10から
取り出されるイオン量を増加させるためのものである。
A cylindrical permanent magnet 16 is provided so as to surround the grid 14, and the filament 8 is placed near the position of the permanent magnet 16 where the magnetic field becomes zero. This permanent magnet 16 collects the electrons emitted from the filament 8 around the central axis passing through the aperture 10, and increases the amount of ions extracted from the aperture 10 by making it easier to generate ions near the central axis. be.

永久磁石16はアルニコ5.アルニコ8又はフィラメン
トにて形成され、永久磁石16とアパーチャ面12には
りベラ−4と同電位の電圧が印加されている。永久磁石
16で囲まれた空間がイオン化室になるが、永久磁1石
16とアパーチャ面10も電子をそのイオン化室に閉じ
込めるリペラーの役目も果たしている。
The permanent magnet 16 is Alnico 5. The permanent magnet 16 and the aperture surface 12 are made of Alnico 8 or filament, and a voltage of the same potential as that of the lever 4 is applied to the permanent magnet 16 and the aperture surface 12. The space surrounded by the permanent magnets 16 becomes an ionization chamber, but the permanent magnet 16 and the aperture surface 10 also serve as a repeller that confines electrons in the ionization chamber.

リペラー4とフィラメント8との間にはりペラ−電流I
rを検出するための電流検出器6が設けられ、また、グ
リッド14とフィラメント8との間にはフィラメント8
から放出されてグリッド14で捕捉される電子によるエ
ミッション電流Iθを検出するための電流検出器18が
設けられている。
The beam between the repeller 4 and the filament 8 is the propeller current I
A current detector 6 is provided to detect r, and a filament 8 is provided between the grid 14 and the filament 8.
A current detector 18 is provided for detecting an emission current Iθ due to electrons emitted from the grid 14 and captured by the grid 14.

本実施例において、ボンバード電圧vbを200■、リ
ペラー電圧VrをIOVとし、エミッション電流Ieが
10mAになるようにフィラメント8の通電量を制御し
てArガスを導入したときのりペラ−電流Irとイオン
化室の真空度との関係を第3図に示す。イオン化室の真
空度はBA型真空計により測定したものである。
In this example, the bombardment voltage vb is set to 200■, the repeller voltage Vr is set to IOV, the amount of current flowing through the filament 8 is controlled so that the emission current Ie becomes 10 mA, and when Ar gas is introduced, the repeller current Ir and ionization The relationship with the degree of vacuum in the chamber is shown in Figure 3. The degree of vacuum in the ionization chamber was measured using a BA type vacuum gauge.

この結果によればリペラー電流1rとイオン化室の真空
度との間に明瞭な依存性があることがわかる。したがっ
て、この結果をもとにすれば、リペラー電流Irの検出
によりイオン化室の真空度を測定することができる。
This result shows that there is a clear dependence between the repeller current 1r and the vacuum degree of the ionization chamber. Therefore, based on this result, the degree of vacuum in the ionization chamber can be measured by detecting the repeller current Ir.

また、ボンバード電圧vb、リペラー電圧Vr、エミッ
ション電流Ieは他の値に設定することもでき、その場
合にはこのリペラー電流Irと真空度との対応関係も変
化してく、る。
Further, the bombardment voltage vb, the repeller voltage Vr, and the emission current Ie can be set to other values, and in that case, the correspondence relationship between the repeller current Ir and the degree of vacuum will also change.

リペラー電流Irからイオン化室の真空度を測定するに
は、電流検出器6を電流計としてそのりペラ−電流Ir
から第3図のようなデータにより真空度を読み取ること
ができる。
To measure the degree of vacuum in the ionization chamber from the repeller current Ir, the current detector 6 is used as an ammeter to measure the repeller current Ir.
The degree of vacuum can be read from the data shown in Figure 3.

また、第2図に示されるような真空度演算表示装置19
を電流検出器6に接続し、Vb、Vr。
In addition, a degree of vacuum calculation display device 19 as shown in FIG.
are connected to the current detector 6, and Vb, Vr.

Ieをパラメータとして第3図のようなリペラー電流1
rと真空度の対応関係のデータをメモリに記憶させてお
き、電流検出器6により検出されたりペラ−電流Irを
もとにしてメモリから真空度を呼び出させ、真空度の値
を適当な表示手段により表示させるようにすることもで
きる。
Repeller current 1 as shown in Figure 3 with Ie as a parameter
The data on the correspondence between r and the degree of vacuum is stored in the memory, and the degree of vacuum is recalled from the memory based on the current detector 6 or the propeller current Ir, and the value of the degree of vacuum is displayed appropriately. It can also be displayed by means.

第4図は本発明が適用される他のイオン源を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing another ion source to which the present invention is applied.

このイオン源では熱電子発生手段としてのフィラメント
8から放出された電子がグリッド14により加速される
方向と直交する方向にイオンが取り出されるようにアパ
ーチャ10が配置され、そのアパーチャ10はイオン化
室を取り囲むように設けられたりベラ−20に開けられ
ている。
In this ion source, an aperture 10 is arranged so that ions are taken out in a direction perpendicular to the direction in which electrons emitted from a filament 8 as a thermoelectron generating means are accelerated by a grid 14, and the aperture 10 surrounds an ionization chamber. It is provided like this or opened in the bellows 20.

本実施例においてもボンバード電圧vb、リペラー電圧
Vr及びエミッション電流Ieを一定にすればイオン化
室の真空度とりペラ−電流Irとの間には対応関係が得
られ、リペラー電流Irの検出によりイオン化室の真空
度を測定することができる。
In this embodiment as well, if the bombardment voltage vb, repeller voltage Vr, and emission current Ie are kept constant, a correspondence relationship can be obtained between the degree of vacuum in the ionization chamber and the propeller current Ir, and by detecting the repeller current Ir, the ionization chamber The degree of vacuum can be measured.

第5図は本発明が適用されるイオン源の一例を備えたイ
オン銃を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an ion gun equipped with an example of an ion source to which the present invention is applied.

このイオン銃はイオンを発生させるイオン源部30、イ
オン源部30からイオンを引き出し、所定の方向へ導く
中間部40、及び分析室などの超高真空装置へ挿入され
る対物レンズ部5oから構成されている。
This ion gun is composed of an ion source section 30 that generates ions, an intermediate section 40 that extracts ions from the ion source section 30 and guides them in a predetermined direction, and an objective lens section 5o that is inserted into an ultra-high vacuum apparatus such as an analysis room. has been done.

イオン源部30は第2図のイオン源と類似の構造を有す
るが、熱電子発生手段として切断の虞れのないランタン
ポライド(LaB6)カソードを使用している点で相違
している。
The ion source section 30 has a structure similar to that of the ion source shown in FIG. 2, but differs in that a lanthanumolide (LaB6) cathode, which has no risk of breakage, is used as the thermoelectron generating means.

イオン源部30のイオン化室には減圧バルブ34とリー
クバルブ36を介してガスボンベからアルゴンガスの如
きイオン化されるガスが導入される。37はガス導入口
である。排気口38は例えばターボ分子ポンプのような
真空ポンプにより排気されるようになっている。
A gas to be ionized, such as argon gas, is introduced from a gas cylinder into the ionization chamber of the ion source section 30 via a pressure reduction valve 34 and a leak valve 36. 37 is a gas inlet. The exhaust port 38 is adapted to be evacuated by a vacuum pump such as a turbo-molecular pump.

中間部40ではアパーチャ10の近くにイオン引出し電
極42が設けられ、その前方には引き出されたイオンを
集束させ、偏向させるレンズ系44が設けられている。
In the intermediate portion 40, an ion extraction electrode 42 is provided near the aperture 10, and in front of it is provided a lens system 44 that focuses and deflects the extracted ions.

イオン源部3oの永久磁石16とアパーチャ面12がグ
ランド電位よりVa(例えば2KV)だけ高電位に保た
れ、イオン引出し電極42が接地されることにより、イ
オンがアパーチャ10を通って中間部4oへ引き出され
てくる。
The permanent magnet 16 and aperture surface 12 of the ion source section 3o are kept at a potential higher than the ground potential by Va (for example, 2 KV), and the ion extraction electrode 42 is grounded, so that ions pass through the aperture 10 and reach the intermediate section 4o. It's brought out.

中間部40にも排気口46が設けられ、中間部40とイ
オン源部3oの間では、アパーチャ1゜を介して差動排
気が行なわれ、中間部4oはイオン源部30より2桁程
度高真空になっている。
An exhaust port 46 is also provided in the intermediate portion 40, and differential exhaust is performed between the intermediate portion 40 and the ion source portion 3o through an aperture of 1°, and the intermediate portion 4o is approximately two orders of magnitude higher than the ion source portion 30. It's a vacuum.

対物レンズ部50には対物レンズ系52が設けられてお
り、イオン出射口54がら超高真空装置へイオンを出射
させる。対物レンズ部5oと中間部40とはイオンが通
過するアパーチャ56を介してつながり、ここでも差動
排気が行なわれて対物レンズ部50は中間部4oより2
桁程度高真空になっている。
The objective lens unit 50 is provided with an objective lens system 52, which allows ions to be emitted from an ion exit port 54 to the ultra-high vacuum apparatus. The objective lens section 5o and the intermediate section 40 are connected via an aperture 56 through which ions pass, and differential pumping is performed here as well, so that the objective lens section 50 is
The vacuum is about an order of magnitude higher.

このイオン銃において、イオン出射口54がら出射され
るイオン量を一定に保つには、V a 。
In this ion gun, in order to keep the amount of ions emitted from the ion exit port 54 constant, V a is required.

Vb、Vrが一定のもとてリペラー電流Irが所定の値
になるように減圧バルブ34とリークバルブ36により
イオン化室へのガス導入圧を調整してイオン化室の真空
度を所定の圧力にしておき、イオン出射口54から出射
されるイオン電流を検出してそのイオン電流をエミッシ
ョン電流Ieの調整により一定になるようにすればよい
With Vb and Vr being constant, the pressure of gas introduced into the ionization chamber is adjusted by the pressure reducing valve 34 and the leak valve 36 so that the repeller current Ir becomes a predetermined value, and the degree of vacuum in the ionization chamber is set to a predetermined pressure. Then, the ion current emitted from the ion exit port 54 may be detected and the ion current may be made constant by adjusting the emission current Ie.

リペラー電流Irを一定に保つにはりペラ−電流Irが
変動したときに減圧バルブ34又はリークバルブ36を
手動で調整するようにしてもよく、又は、第5図に示さ
れるようにバルブ駆動機構60をリペラー電流検出器6
に接続し、リペラー電流検出器6の出力信号が一定にな
るように減圧バルブ34又はリークバルブ36を自動的
に調整するようにすることもできる。
To keep the repeller current Ir constant, the pressure reducing valve 34 or the leak valve 36 may be manually adjusted when the repeller current Ir fluctuates, or the valve drive mechanism 60 may be used as shown in FIG. Repeller current detector 6
It is also possible to automatically adjust the pressure reducing valve 34 or the leak valve 36 so that the output signal of the repeller current detector 6 becomes constant.

また、アパーチャ面12と永久磁石16もリペラーの役
目を果しているので、リペラー電流検出器6をこれらと
カソード32の間に設けてもよい。
Furthermore, since the aperture surface 12 and the permanent magnet 16 also serve as a repeller, a repeller current detector 6 may be provided between them and the cathode 32.

(発明の効果) 本発明によれば、リペラー電流を検出することによりイ
オン源のイオン化室の真空度を測定することができるの
で、イオン銃などにおいて出射イオン量を制御するため
に別途真空計を装備する必要がなくなる。その−ためイ
オン銃などの装置が簡略化でき、安価にすることができ
る。
(Effects of the Invention) According to the present invention, the degree of vacuum in the ionization chamber of the ion source can be measured by detecting the repeller current. No need to equip. Therefore, devices such as an ion gun can be simplified and made cheaper.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の詳細な説明するための概略図、第2図
は本発明が適用されるイオン源の一例を示す概略断面図
、第3図は同イオン源におけるイオン化室の真空度とり
ペラ−電流の関係を示す図、第4図は本発明が適用され
るイオン源の他の例を示す概略断面図、第5図は本発明
が適用されるイオン銃の一例を示す断面図である。 2・・・・・・熱電子発生手段、 4,20・・・・・
・リペラー、6・・・・・・リペラー電流検出器、8・
・・・・・フィラメント、12・・・・・・アパーチャ
面、16・・・・・・永久磁石、32・・・・・・ラン
タンポライドカソード。 代理人 弁理士 野口繁雄
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the present invention in detail, FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of an ion source to which the present invention is applied, and FIG. 3 is a diagram showing the vacuum degree of the ionization chamber in the ion source. FIG. 4 is a schematic sectional view showing another example of an ion source to which the present invention is applied, and FIG. 5 is a sectional view showing an example of an ion gun to which the present invention is applied. be. 2...Thermion generating means, 4,20...
・Repeller, 6...Repeller current detector, 8・
... Filament, 12 ... Aperture surface, 16 ... Permanent magnet, 32 ... Lanthanum poride cathode. Agent Patent Attorney Shigeo Noguchi

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)電子衝撃型イオン源のりペラ−又はリペラーに対
応する部材に流れる電流値を検出することにより、イオ
ン源内の真空度をめることを特徴とする真空度測定方法
(1) A method for measuring the degree of vacuum, characterized in that the degree of vacuum within the ion source is determined by detecting the value of current flowing through the repeller of the electron impact ion source or a member corresponding to the repeller.
JP11573984A 1984-06-05 1984-06-05 Measurement of vacuum value of ion source Granted JPS60259924A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11573984A JPS60259924A (en) 1984-06-05 1984-06-05 Measurement of vacuum value of ion source

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11573984A JPS60259924A (en) 1984-06-05 1984-06-05 Measurement of vacuum value of ion source

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60259924A true JPS60259924A (en) 1985-12-23
JPH0585858B2 JPH0585858B2 (en) 1993-12-09

Family

ID=14669870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11573984A Granted JPS60259924A (en) 1984-06-05 1984-06-05 Measurement of vacuum value of ion source

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60259924A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100477450B1 (en) * 2002-08-30 2005-03-23 재단법인 포항산업과학연구원 Vacumm Ion Pump Controller based on Software and Microprocessor and Measuring Method of Vacumm Using the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5887439A (en) * 1981-11-20 1983-05-25 Tokuda Seisakusho Ltd Measuring method for degree of vacuum in cathode-ray tube

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5887439A (en) * 1981-11-20 1983-05-25 Tokuda Seisakusho Ltd Measuring method for degree of vacuum in cathode-ray tube

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100477450B1 (en) * 2002-08-30 2005-03-23 재단법인 포항산업과학연구원 Vacumm Ion Pump Controller based on Software and Microprocessor and Measuring Method of Vacumm Using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0585858B2 (en) 1993-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Peacock et al. Comparison of hot cathode and cold cathode ionization gauges
WO2005091331A2 (en) An ionization gauge
CN107462622A (en) Apparatus and method for gas at rest mass spectral analysis
TW202004174A (en) Gas analysis with an inverted magnetron source
US5128617A (en) Ionization vacuum gauge with emission of electrons in parallel paths
US7295015B2 (en) Ionization gauge
EP1725847A2 (en) An ionization gauge
EP0329461B1 (en) Mass spectrometer
RU2554104C2 (en) Mass-spectrometer analyser of gas leak detector
JPS60259924A (en) Measurement of vacuum value of ion source
US5210413A (en) Partial pressure gauge using a cold-cathode ion source for leak detection in vacuum systems
WO2007102202A1 (en) Mass analyzer
US20050109947A1 (en) Ion detector
Li et al. Vacuum Science and Technology for Accelerator Vacuum Systems
Akimichi et al. Calibration of an axial symmetric transmission gauge in ultrahigh and extreme high vacuum
RU137653U1 (en) MASS SPECTROMETRIC ANALYZER OF GAS LEAK DETECTOR
US8803104B2 (en) Ionization cell for a mass spectrometer, and corresponding leak detector
US3761708A (en) Electron suppressor grid for a mass spectrometer
JP2006221876A (en) Ion detector, mass spectrometer having the same, and method for operating ion detector
GB1053215A (en)
Delmore et al. Ion and neutral beam tracking with a microchannel plate array detector
JP3611671B2 (en) Analysis tube for leak detector
JPH07153419A (en) Ionizing chamber for pressure measurement or mass spectrometry
Price et al. An electron spectrometer to record gas phase photoelectron-photoelectron coincidence spectra following double photoionization
JPH11510644A (en) Vacuum technology application equipment with gas discharge electrode

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term