JPS60258494A - Electrically conductive high-molecular material - Google Patents

Electrically conductive high-molecular material

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JPS60258494A
JPS60258494A JP59112768A JP11276884A JPS60258494A JP S60258494 A JPS60258494 A JP S60258494A JP 59112768 A JP59112768 A JP 59112768A JP 11276884 A JP11276884 A JP 11276884A JP S60258494 A JPS60258494 A JP S60258494A
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copper
copper sulfide
sulfide
bonded
polymer material
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JP59112768A
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Japanese (ja)
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Shinji Tomibe
冨部 信二
Kiyofumi Takahashi
高橋 皖文
Jiyuichi Arami
荒見 寿一
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Nihon Sanmo Dyeing Co Ltd
Original Assignee
Nihon Sanmo Dyeing Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a high molecular material having high electric conductivity by bonding copper sulfide to the surface of a high molecular material and depositing an electrically conductive metal through the copper sulfide. CONSTITUTION:About 1-5wt% (expressed in terms of metallic copper) copper sulfide is bonded to the surface of a high molecular material having at least one kind of active group bonding to a copper ion such as cyano, mercapto or thiocarboxy, and an electrically conductive metal is deposited by electroplating through the copper sulfide. Ni, Cu, Co, Pb, Zn, Sn or the like are used as the electrically conductive metal and deposited by about 10-80wt% of the amount of the high molecular material. The specific resistance of the high molecular material having bonded copper sulfide is reduced from 1-0.1OMEGA.cm to about 10<-3>-10<-5>OMEGA.cm.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、表面に導電層を有する高分子材料に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a polymeric material having a conductive layer on its surface.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、高分子材料に硫化銅を結合させた導電性材料は知
られている。この場合、高分子材料に対する硫化銅の形
成は、高分子材料に含まれるシアノ基等の活性基を介し
て先ず、1価銅イオンを結合させ、次いでその銅イオン
(1)に硫化剤を反応させる等の方法によって行われて
いる。このような硫化銅を結合させた導電性材料の場合
、通常の化学めっき法による金属被膜を表面に形成させ
たものとは異なり、硫化銅は活性基を介して結合されて
いることから、その高分子材料の導電性化には限度があ
り、一般には、得られる導電性材料の導電性は、比抵抗
値で、10−1〜10−2Ω・cm程度が限度である。
Conventionally, conductive materials in which copper sulfide is bonded to a polymeric material are known. In this case, copper sulfide is formed on the polymer material by first bonding monovalent copper ions through active groups such as cyano groups contained in the polymer material, and then reacting the copper ion (1) with a sulfurizing agent. This is done by methods such as In the case of such conductive materials bonded with copper sulfide, unlike those in which a metal film is formed on the surface by ordinary chemical plating, the copper sulfide is bonded through active groups, so its There is a limit to the conductivity of a polymer material, and in general, the conductivity of the obtained conductive material is limited to about 10-1 to 10-2 Ω·cm in terms of specific resistance.

〔目 的〕〔the purpose〕

本発明は、硫化銅を結合した導電性高分子材料において
、その導電性を改良することを目的とする。
An object of the present invention is to improve the conductivity of a conductive polymer material bonded with copper sulfide.

〔構 成〕〔composition〕

本発明によれば、表面に硫化鋼を結合させた高分子材料
に対し、該硫化銅を介して、電解めっき法により、導電
性金属を付着させたことを特徴とする導電性高分子材料
が提供される。
According to the present invention, there is provided a conductive polymer material in which a conductive metal is adhered to a polymer material having sulfide steel bonded to its surface by electrolytic plating via the copper sulfide. provided.

本発明においては、表面に硫化銅の結合した高分子材料
の導電性を高めるために、該硫化銅を介し、電解めっき
法により、導電性金属をその高分子材料表面に付着させ
ることを特徴とする。この場合、硫化鋼は、電解めっき
する場合に、導電性金属を付着させる場合の下地として
作用し、付着する金属は、この硫化銅を含む高分子表面
に連続性のよい被膜として形成され、その結果、高めら
れた導電性を有する高分子材料が得られる。本発明の場
合、高分子材料に結合させる硫化鋼は、高分子材料に対
し、通常1〜5重量%という少量でよく、このような少
量の硫化銅の存在によっても、電解めっきに対する下地
として十分作用し、その高分子材料表面には、電解めっ
き法により、導電性金属を付着させることが可能である
。もちろん、硫化銅が存在しない場合には、電解めっき
法による金属の付着は不可能である。
The present invention is characterized in that, in order to increase the conductivity of a polymeric material having copper sulfide bonded to its surface, a conductive metal is attached to the surface of the polymeric material through the copper sulfide by electrolytic plating. do. In this case, the sulfide steel acts as a base for attaching a conductive metal during electrolytic plating, and the attached metal is formed as a highly continuous film on the surface of the polymer containing copper sulfide. The result is a polymeric material with increased electrical conductivity. In the case of the present invention, the amount of sulfide steel to be bonded to the polymeric material is typically 1 to 5% by weight based on the polymeric material, and even the presence of such a small amount of copper sulfide is sufficient as a base for electrolytic plating. It is possible to attach a conductive metal to the surface of the polymer material by electrolytic plating. Of course, in the absence of copper sulfide, metal deposition by electrolytic plating is not possible.

本発明で硫化鋼を結合させるための基材として用いる高
分子材料は、シアン基(−CN)、メルカプト基(−5
H)、チオカルボニル基CC=S)及び下記式で表わさ
れる第4級有機アンモニウム塩基等の銅イオン結合性の
活性基を少なくとも1種を含むものである。
The polymer material used as the base material for bonding sulfurized steel in the present invention includes cyan group (-CN), mercapto group (-5
H), a thiocarbonyl group CC=S), and at least one active group capable of binding copper ions, such as a quaternary organic ammonium base represented by the following formula.

靜 (式中、R1、R2、R3は、アルキル、アリール。Silence (In the formula, R1, R2, and R3 are alkyl and aryl.

アラルキル等の炭化水素基であり、Xは塩素イオン、硫
酸イオン等の陰イオンである)このような活性基を持つ
高分子材料は次のようにして得ることができる。
The polymeric material having such an active group can be obtained as follows.

(1)シアノ基を持つ高分子材料: アクリロニトリルを重合又は共重合させることによって
製造される。
(1) Cyano group-containing polymer material: Manufactured by polymerizing or copolymerizing acrylonitrile.

(2)メルカプト基を持つ高分子材料:(イ)塩化ビニ
ル系樹脂又は繊維を基材として用い、これをクロロ硫酸
の存在下で加熱してスルホニル基を導入した後、水素還
元処理してメルカプト基に変換する方法。この場合、塩
化ビニル系樹脂又は繊維基材としては、例えば、ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル/塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル/マレイン酸
共重合体、塩化ビニル/エチレン共重合体。
(2) Polymer materials with mercapto groups: (a) Use vinyl chloride resin or fiber as a base material, heat it in the presence of chlorosulfuric acid to introduce sulfonyl groups, and then perform hydrogen reduction treatment to convert mercapto groups into How to convert to base. In this case, examples of the vinyl chloride resin or fiber base material include polyvinyl chloride, vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, vinyl chloride/vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride/maleic acid copolymer, and vinyl chloride/vinyl acetate copolymer. Ethylene copolymer.

塩化ビニル/アクリル酸(又はアクリル酸エステル)共
重合体等が挙げられる。
Examples include vinyl chloride/acrylic acid (or acrylic ester) copolymer.

(ロ)水酸基(−on)やアミノ基(NO3)を有する
高分子材料を基材とし、これにメルカプト基を有し、か
つ水酸基やアミノ基と反応し得る反応基を有する化合物
を反応させる方法。メルカプト基含有反応性化合物とし
ては、例えば、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン
酸、チオサリチル酸、チオリンゴ酸、ジメルカプトアジ
ピン酸の他、ブロムプロピルメルカプタン、ブロムチオ
フェノール、ヨードチオフェノール、メルカプトアセト
アルデヒド、メルカプトプロピオンアルデヒド、メトキ
シエチルメルカプタン、ヒドロキシプロピルメルカプタ
ン、メルカプトアセトン等が挙げられる。また、前記化
合物においては、メルカプト基の代りに、水等と反応さ
せることによりメルカプトを形成する基、例えば、チオ
エステル基、ジスルフィド基、エピスルフィド基等を含
有することもできる。
(b) A method in which a polymeric material having a hydroxyl group (-on) or an amino group (NO3) is used as a base material, and a compound having a mercapto group and a reactive group capable of reacting with a hydroxyl group or an amino group is reacted with the polymer material. . Examples of mercapto group-containing reactive compounds include mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, thiosalicylic acid, thiomalic acid, and dimercaptoadipic acid, as well as bromopropyl mercaptan, bromothiophenol, iodothiophenol, mercaptoacetaldehyde, mercaptopropionaldehyde, Examples include methoxyethyl mercaptan, hydroxypropyl mercaptan, and mercaptoacetone. Further, in place of the mercapto group, the above compound may contain a group that forms mercapto by reacting with water or the like, such as a thioester group, a disulfide group, an episulfide group, etc.

一方、水酸基を有する高分子材料としては、各種セルロ
ース類、ポリビニルアルコール系樹脂及び繊維の他、ボ
リクラール系繊維等があり、アミノ基を有する高分子材
料としては、ポリアミド系樹脂及び繊維等がある。
On the other hand, polymeric materials having hydroxyl groups include various celluloses, polyvinyl alcohol resins and fibers, as well as voriclar fibers, and polymeric materials having amino groups include polyamide resins and fibers.

(ハ)シスチン結合(−S−S−)を有する高分子材料
を基材として用い、これにメルカプトカルボン酸を加熱
反応させることによりメルカプト基を導入する方法。
(c) A method of introducing a mercapto group by using a polymeric material having a cystine bond (-S-S-) as a base material and subjecting it to a heating reaction with mercaptocarboxylic acid.

この場合、高分子材料としては、羊毛等のタンパク質を
含むもの・が挙げられる。
In this case, examples of the polymeric material include those containing proteins such as wool.

(3)チオカルボニル基を持つ高分子材料=(イ)動物
繊維のようなアミノ基や水酸基を含む高分子材料を基材
とし、これにチオイソシアネートを反応させてその中に
含まれるアミノ基及び水酸基を介してチオカルボニル基
を導入する方法。
(3) Polymer material with thiocarbonyl groups = (a) A polymer material containing amino groups and hydroxyl groups, such as animal fiber, is used as a base material, and thioisocyanate is reacted with it to remove the amino groups contained therein. A method of introducing a thiocarbonyl group via a hydroxyl group.

(ロ)動物繊維のようなアミノ基や水酸基を含む高分子
材料を基材とし、これにメタノールの存在下で二硫化炭
素を反応させて、その中に含まれるアミノ基や水酸基を
介してチオカルボニル基を導入する方法。
(b) A polymer material containing amino groups and hydroxyl groups such as animal fiber is used as a base material, and carbon disulfide is reacted with this material in the presence of methanol to form a thiophyl group through the amino groups and hydroxyl groups contained therein. A method of introducing a carbonyl group.

(4)第4級有機アンモニウム塩基を持つ高分子材料: (イ)水酸基やアミノ基を有する高分子材料に水酸基や
アミノ基と反応し得る反応基と第4級有機アンモニウム
塩基を有する化合物を反応させる方法。
(4) Polymer material having a quaternary organic ammonium base: (a) A polymer material having a hydroxyl group or an amino group is reacted with a reactive group that can react with a hydroxyl group or an amino group with a compound having a quaternary organic ammonium base. How to do it.

この場合、水酸基やアミノ基と反応し得る反応基として
は次のようなものが挙げられる。
In this case, examples of reactive groups that can react with hydroxyl groups and amino groups include the following.

(ジクロロピリミジン含有残基) Q CΩ (ジクロロトリアジン含有残基) (TV) 、 SO2CHz CH20S○3H(スル
フェートエチルスルホン含有残基)(ジフルオロモノク
ロロピリミジン含有残基)(モノクロロメトキシトリア
ジン含有残基)(■) −8o 2NH−CH2−CH
2−OSO3H(スルフェートエチレンスルホンアミド
含有残基)(モノクロロトリアジン含有残基) (4,5−ジクロロトリアジン含有残基)(X) −N
HC○−CH=CHZ (アクリルアミド含有残基) αI) S i (OR) 3 (R=アルキル基)(
トリアルコキシケイ素含有残基) 本発明で基材を用いる高分子材料は、第4級有機アンモ
ニウム塩基や、メルカプト基、チオカルボニル、シアン
基等の銅イオン結合性の活性基を有するものであればよ
く、前記のようにして得られたものに限定されるもので
はなく、従来公知の種々の方法で製造し得るものである
。本発明の場合、高分子材料中に含まれる第4級有機ア
ンモニウム塩基、シアン基、メルカプト基、チオカルボ
ニル基等の活性基は、高分子材料中、イオウ原子(S)
又は窒素原子(N)換算で、少なくとも0.3重量%以
上、好ましくは0.5〜10重量%の割合に規定するの
がよい。また、本発明の高分子材料は、粉末、繊維、フ
ィルム、ペレット、板状物等の種々の形状で適用される
(dichloropyrimidine-containing residue) Q CΩ (dichlorotriazine-containing residue) (TV), SO2CHz CH20S○3H (sulfate ethyl sulfone-containing residue) (difluoromonochloropyrimidine-containing residue) (monochloromethoxytriazine-containing residue) ( ■) -8o 2NH-CH2-CH
2-OSO3H (sulfate ethylene sulfonamide-containing residue) (monochlorotriazine-containing residue) (4,5-dichlorotriazine-containing residue) (X) -N
HC○-CH=CHZ (acrylamide-containing residue) αI) S i (OR) 3 (R=alkyl group) (
trialkoxysilicon-containing residue) The polymeric material used as the base material in the present invention may have a quaternary organic ammonium base, a mercapto group, a thiocarbonyl group, a cyanide group, or other copper ion-binding active group. It should be noted that the invention is not limited to those obtained as described above, but can be produced by various conventionally known methods. In the case of the present invention, active groups such as quaternary organic ammonium bases, cyan groups, mercapto groups, and thiocarbonyl groups contained in the polymeric material are sulfur atoms (S) in the polymeric material.
Alternatively, it is preferable to set the proportion to at least 0.3% by weight or more, preferably 0.5 to 10% by weight in terms of nitrogen atoms (N). Further, the polymeric material of the present invention can be applied in various forms such as powder, fiber, film, pellet, plate-like material, etc.

本発明においては、前記した活性基を有する高分子材料
に対して、その活性基を介して硫化鋼を結合させる。こ
の場合、高分子材料に対して結合させる硫化銅の量は、
特に制約されなす、一般には、金属銅換算で、通常0.
5〜20重量%程度であるが、本発明の場合、後続のめ
つき処理における下地として考慮した場合、1〜5重景
%程度という少量ですむ。
In the present invention, sulfide steel is bonded to the polymeric material having the above-mentioned active groups via the active groups. In this case, the amount of copper sulfide to be bonded to the polymeric material is
There are no particular restrictions, but in general, it is usually 0.
The amount is about 5 to 20% by weight, but in the case of the present invention, when considered as a base in the subsequent plating process, a small amount of about 1 to 5% by weight is sufficient.

前記高分子材料に対して硫化銅を結合させるための方法
としては種々の方法があるが、その第1の方法としては
、先ず高分子材料に1価銅イオンを結合させた後、次に
その銅イオン(1)を硫化剤と反応させて硫化銅にする
方法がある。この場合、1価銅イオンの結合は、1価銅
イオンを含む溶液又は2価銅イオンと還元剤を含む溶液
と高分子材料を接触させることによって行うことができ
る。前記1価銅イオンを与える銅化合物としては、塩化
第1銅、臭化第1銅等の第1銅塩があり、2価イオンを
与える銅化合物としては、塩化第2銅、臭化第2銅、硫
酸第2銅、酢酸第2銅等の第2銅塩がある。
There are various methods for bonding copper sulfide to the polymer material, but the first method is to first bond monovalent copper ions to the polymer material, and then bond the copper sulfide to the polymer material. There is a method of reacting copper ions (1) with a sulfiding agent to form copper sulfide. In this case, the monovalent copper ions can be bonded by bringing the polymer material into contact with a solution containing monovalent copper ions or a solution containing divalent copper ions and a reducing agent. Examples of copper compounds that give monovalent copper ions include cuprous salts such as cuprous chloride and cuprous bromide, and examples of copper compounds that give divalent ions include cupric chloride and cupric bromide. There are cupric salts such as copper, cupric sulfate, and cupric acetate.

また、2価銅イオンと組合せて用いられる還元剤として
は、2価銅イオンを1価銅イオンに変換し得るものであ
ればよく、金属銅、硫酸第1鉄、次亜リン酸ナトリウム
、ヒドロキシルアミン等があり、このものは2価イオン
を1価イオンに変換し得るに十分な量で用いられる。硫
化剤としては、イオウ原子やイオウイオンを放出し得る
種々のイオウ化合物が用いられ、例えば、硫化ナトリウ
ム、亜ニチオン酸、亜ニチオン酸ナトリウム、チオ硫酸
す1〜リウム、亜硫酸、亜硫酸水素ナトリウム、ピロ亜
硫酸ナトリウム、ロンガリットC、ロンガリットZ、硫
化水素、チオ尿素、チオアセトアミド等がある。この硫
化剤の使用量は特に制約されず、高分子材料に結合され
た銅イオンを硫化銅に変換し得るに十分な量であればよ
い。また、前記1価銅イオンを結合させる工程(第1工
程)では、常温ないし加温、好ましくは80〜]10℃
で30分〜120分程度の反応条件が採用され、一方、
1価銅イオンの硫化工程では、第1工程で得られた処理
物を充分洗浄した後、常温ないし加温、好ましくは80
〜110℃で30分〜120分程度の反応条件が採用さ
れる。
Further, the reducing agent used in combination with divalent copper ions may be any one that can convert divalent copper ions into monovalent copper ions, such as metallic copper, ferrous sulfate, sodium hypophosphite, hydroxyl Amines and the like are used in sufficient amounts to convert divalent ions to monovalent ions. Various sulfur compounds capable of releasing sulfur atoms and sulfur ions are used as the sulfurizing agent, such as sodium sulfide, dithionite, sodium dithionite, mono-lithium thiosulfate, sulfite, sodium bisulfite, and pyrochloride. Examples include sodium sulfite, Rongalit C, Rongalit Z, hydrogen sulfide, thiourea, and thioacetamide. The amount of the sulfurizing agent to be used is not particularly limited, as long as it is sufficient to convert copper ions bonded to the polymeric material into copper sulfide. In addition, in the step (first step) of bonding the monovalent copper ions, the temperature is at room temperature or heated, preferably 80 to 10°C.
Reaction conditions of about 30 minutes to 120 minutes were adopted, and on the other hand,
In the monovalent copper ion sulfurization step, the treated product obtained in the first step is sufficiently washed and then heated to room temperature or heated, preferably at 80℃.
Reaction conditions of about 30 minutes to 120 minutes at ~110°C are employed.

第1工程で用いる溶液中の銅イオンの濃度は、金属換算
量で、通常、1〜30g/ Q、好ましくは2〜10g
IQである。
The concentration of copper ions in the solution used in the first step is usually 1 to 30 g/Q, preferably 2 to 10 g in terms of metal.
It is IQ.

また、第2の方法としては、1価銅イオンと硫化剤を含
む溶液、又は2価銅イオンと還元剤と硫化剤を含む溶液
を高分子材料に接触させる方法がある。この場合、1価
銅イオンを生成する化合物、2価銅イオンを生成する化
合物、還元剤及び硫化剤の具体例としては、前記したも
のが挙げられる。
Further, as a second method, there is a method in which a solution containing monovalent copper ions and a sulfurizing agent or a solution containing divalent copper ions, a reducing agent, and a sulfurizing agent is brought into contact with the polymer material. In this case, specific examples of the compound that generates monovalent copper ions, the compound that generates divalent copper ions, the reducing agent, and the sulfurizing agent include those mentioned above.

溶液中の銅イオン濃度は、通常、1〜30g/ Q、、
好ましくは2〜10g/ Qであり、硫化剤の濃度は、
1〜40、、IQ、好ましくは2〜20g/IIである
。反応温度は常温ないし加温、好ましくは30〜80℃
である。
The copper ion concentration in the solution is usually 1 to 30 g/Q.
Preferably it is 2 to 10 g/Q, and the concentration of the sulfurizing agent is
1 to 40, IQ, preferably 2 to 20 g/II. The reaction temperature is room temperature to elevated temperature, preferably 30 to 80°C.
It is.

さらに、他の方法としては、高分子材料にあらかじめ前
記硫化剤、好ましくい硫化水素を吸着させておき、これ
に前記第1の方法と同様にして1価銅イオンを結合させ
て硫化銅とすればよい。
Furthermore, as another method, the sulfurizing agent, preferably hydrogen sulfide, is adsorbed on the polymeric material in advance, and monovalent copper ions are bonded to this in the same manner as in the first method to form copper sulfide. Bye.

本発明においては、高分子材料に対する硫化銅の結合を
安定化させ、製品の耐洗浄性や耐湿性を改善させるため
に、銀、金及び白金属金属の中から選ばれる金属成分を
硫化銅と共に結合させるのが好ましい。この場合、白金
属金属には、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オス
ミウム、イリジウム及び白金が含まれる。硫化銅に対し
て補助成分として用いるこのような補助金属成分は、硫
化銅の結合量に比して極めて少量でよく、高分子材料に
対して、金属換算量で、通常、0.0005〜10重量
%、好ましくは0.005〜5重量%であり、また硫化
銅に対する割合は、原子モル比M/Cu(M :補助金
属)で表わして、通常、0.0001〜0.5、好まし
くは、 0.001〜0.3程度である。
In the present invention, a metal component selected from silver, gold, and platinum metals is used together with copper sulfide in order to stabilize the binding of copper sulfide to the polymer material and improve the wash resistance and moisture resistance of the product. Preferably, they are combined. In this case, platinum metals include ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium and platinum. Such an auxiliary metal component used as an auxiliary component for copper sulfide may be used in a very small amount compared to the bond amount of copper sulfide, and is usually 0.0005 to 10 in terms of metal amount to the polymer material. % by weight, preferably 0.005 to 5% by weight, and the proportion to copper sulfide is usually 0.0001 to 0.5, preferably 0.0001 to 0.5, expressed as the atomic molar ratio M/Cu (M: auxiliary metal). , approximately 0.001 to 0.3.

前記補助金属成分の高分子材料に対する添加は、前記で
得た硫化銅を結合させた高分子材料に対し、補助金属イ
オンを含む溶液を用いて接触処理すればよい。この場合
、補助金属イオンを与える化合物としては、例えば、硫
酸塩、硝酸塩等の無機酸塩の他、酢酸塩、安息香酸塩等
の有機酸塩、ロダン無塩、チオ硫酸錯塩等の各種の錯塩
が挙げられる。補助金属化合物の溶液中の濃度は特に制
約されないが、金属換算量で1通常、0.005〜10
g/ Q、好ましくは0.01〜6g/μである。溶液
中に硫化銅含有高分子材料を浸漬させて処理する場合、
高分子材料に対する浴比は、高分子材料1重量部に対し
、溶液5〜50重量部、好ましくはJO〜300〜30
重量部処理温度は常温〜110℃、好ましくは30〜8
0℃であり、処理時間は0.5〜20時間、好ましくは
1〜10時間である。
The auxiliary metal component may be added to the polymeric material by contacting the polymeric material to which the copper sulfide obtained above is bonded using a solution containing auxiliary metal ions. In this case, examples of compounds that provide auxiliary metal ions include inorganic acid salts such as sulfates and nitrates, organic acid salts such as acetates and benzoates, and various complex salts such as rhodan salts and thiosulfate complexes. can be mentioned. The concentration of the auxiliary metal compound in the solution is not particularly limited, but is usually 0.005 to 10
g/Q, preferably 0.01 to 6 g/μ. When processing a copper sulfide-containing polymer material by immersing it in a solution,
The bath ratio for the polymer material is 5 to 50 parts by weight of the solution to 1 part by weight of the polymer material, preferably JO ~ 300 to 30 parts by weight.
Weight part treatment temperature is room temperature to 110°C, preferably 30 to 8°C
The temperature is 0°C, and the treatment time is 0.5 to 20 hours, preferably 1 to 10 hours.

以上のように、硫化鋼を結合させた高分子材料に対して
補助金属イオンを含む溶液を接触させるだけで、ポリマ
ーに対する硫化物の結合安定性を高め、耐洗浄性や耐湿
性等の向上した製品を得ることができるが、この処理に
際しては、必要に応じ、還元性イオウ化合物を併用する
ことができ、これによって、硫化銅の結合安定性をさら
に高めることができる。この場合のイオウ化合物は、還
元作用を持つものであればよく、例えば、硫化ナトリウ
ム(Na2S)、硫化水素(H2S)、二酸化イオウ(
SO2)、亜硫酸水素ナトリウム(NaH303)、チ
オ硫酸ナトリウム(Na2S205)、亜硫酸(H2S
O3)二面硫酸ナトリウム(Na2S205)、亜ニチ
オン酸ナトリウム(Na2SzO4)、亜ニチオン酸(
H2S204)、ロンガリット(亜ニチオン酸塩とホル
マリンの付加物)、あるいは前記の混合物が挙げられる
。硫化水素や二酸化イオウのようなガス状イオウ化合物
を用いる時には、溶液中への溶解度を高めるために、加
圧下で行うか、あるいはガス状イオウ化合物を連続的に
溶液中に吹込むのがよい。イオウ化合物の添加量は、溶
液中の補助金属化合物1モルに対し、通常、0.2〜5
モル、好ましくは0.4〜3モルの範囲である。このイ
オウ化合物の使用は、硫化銅の結合した高分子材料上へ
の補助金属成分の結合を促進させかつ安定化させ、さら
に、導電性を向上させる効果も示す。前記還元性イオウ
化合物を併用する場合、補助金属イオンを含む溶液によ
る処理をイオウ化合物の存在下で行うことができ、また
その溶液による処理の後、イオウ化合物で処理すること
ができる。
As described above, simply by bringing a solution containing auxiliary metal ions into contact with a polymer material bonded to sulfide steel, the stability of the sulfide bond to the polymer can be increased, resulting in improved wash resistance, moisture resistance, etc. A product can be obtained, and during this treatment, a reducing sulfur compound can be used in combination, if necessary, thereby further increasing the bonding stability of copper sulfide. The sulfur compound in this case may be one that has a reducing effect, such as sodium sulfide (Na2S), hydrogen sulfide (H2S), sulfur dioxide (
SO2), sodium bisulfite (NaH303), sodium thiosulfate (Na2S205), sulfite (H2S
O3) Sodium dihedral sulfate (Na2S205), sodium dihionite (Na2SzO4), diphthionite (
H2S204), Rongalite (an adduct of dithionite and formalin), or a mixture of the above. When using a gaseous sulfur compound such as hydrogen sulfide or sulfur dioxide, it is preferable to carry out the process under pressure or to continuously blow the gaseous sulfur compound into the solution in order to increase the solubility in the solution. The amount of the sulfur compound added is usually 0.2 to 5 mol per mol of the auxiliary metal compound in the solution.
mol, preferably in the range of 0.4 to 3 mol. The use of this sulfur compound promotes and stabilizes the bonding of the auxiliary metal component onto the copper sulfide bonded polymeric material, and also exhibits the effect of improving electrical conductivity. When the reducing sulfur compound is used in combination, treatment with a solution containing auxiliary metal ions can be performed in the presence of the sulfur compound, and treatment with the sulfur compound can be performed after the treatment with the solution.

」二記の態様においては、あらかじめ硫化銅を結合させ
た高分子材料に対して補助金属成分を結合させたが、こ
れとは別に、補助金属成分は、高分子材料に対して硫化
銅を結合させる際に、同時に結合させることも可能であ
り、この場合には、補助金属成分を銅イオンと共存させ
ればよい。
In the second embodiment, the auxiliary metal component is bonded to the polymeric material to which copper sulfide has been bonded in advance. In this case, the auxiliary metal component may coexist with the copper ion.

本発明においては、前記した硫化銅を結合させた高分子
材料に対して、その硫化銅を介して導電性金属を付着さ
せる。この場合、導電性金属の付着は、通常の電解めっ
き法によって行うことができる。即ち、硫化銅を結合さ
せた高分子材料を陰極とし、所要の金属イオンを含む電
解浴中で、陰極と陽極との間を通電すればよい。電解め
っき用の金属としては、導電性のものであればよく、例
えば、ニッケル、銅、コバルト、釦、亜鉛、錫等が用い
られる。
In the present invention, a conductive metal is attached to the above-described polymeric material to which copper sulfide is bonded via the copper sulfide. In this case, the conductive metal can be deposited by a conventional electrolytic plating method. That is, a polymer material to which copper sulfide is bonded is used as a cathode, and electricity is passed between the cathode and anode in an electrolytic bath containing the required metal ions. The metal for electrolytic plating may be any conductive metal, such as nickel, copper, cobalt, button, zinc, tin, etc.

本発明において、この導電性金属の付着は、高分子材料
に対し、10〜80重景%、好ましくは15〜50重量
%である。この電解めっき処理により、比抵抗1〜0.
1Ω・cmの硫化銅結合高分子材料を、比抵抗10−3
〜10−SΩ・Cmのものに改良することができる。
In the present invention, the conductive metal is deposited in an amount of 10 to 80% by weight, preferably 15 to 50% by weight, based on the polymer material. By this electrolytic plating treatment, the specific resistance is 1 to 0.
1Ω・cm copper sulfide bonded polymer material with a specific resistance of 10-3
It can be improved to 10-SΩ·Cm.

〔効 果〕〔effect〕

本発明は、前記の構成であり、本発明によれば、高分子
材料に対し、1〜5重量%程度の硫化銅を結合させるだ
けで、その高分子材料表面に導電性の良い金属を付着さ
せることができる。本発明の場合、少量の硫化鋼を高分
子材料に含有させるだけで電解めっき法により高分子材
料に高い導電性を付与し得ることから、その実用的価値
は太きい。
The present invention has the above configuration, and according to the present invention, by simply bonding about 1 to 5% by weight of copper sulfide to a polymer material, a highly conductive metal is attached to the surface of the polymer material. can be done. In the case of the present invention, high conductivity can be imparted to the polymer material by electrolytic plating simply by incorporating a small amount of sulfurized steel into the polymer material, so its practical value is great.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。 Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例1 試料としてのアクリル長繊維(シルパロン、三菱化成■
製、100デニール、40フイラメント)5gを、試料
に対する重量%で、硫酸銅10%、チオ硫酸ソーダ6.
5%、酸性亜硫酸ソーダ3%、酢酸5%、酢酸ソーダ5
%を浴中で、浴比1:20の条件で、60°Cで1時間
処理した。この処理により、硫化銅3重量%を結合する
比抵抗5,2X10−1Ω・cmの繊維を得た。
Example 1 Acrylic long fiber as a sample (Silparon, Mitsubishi Kasei ■
Copper sulfate 10%, sodium thiosulfate 6.
5%, acidic sodium sulfite 3%, acetic acid 5%, sodium acetate 5
% in a bath at a bath ratio of 1:20 at 60°C for 1 hour. By this treatment, fibers having a specific resistance of 5.2×10 −1 Ω·cm and binding 3% by weight of copper sulfide were obtained.

次に、この硫化銅結合繊維を、硫酸ニッケル200g/
 Q、ホウ酸40g/ Q、クエン酸40g/ Qを含
む浴中で、60°C5電流密度8A/d rrfの条件
下で20分間電解めっき処理を行うことにより、ニッケ
ルめっきされた比抵抗1.8 X 10 ’Ω・cmの
導電性繊維を得た。
Next, this copper sulfide bonded fiber was mixed with 200 g of nickel sulfate/
By performing electrolytic plating treatment for 20 minutes at 60°C and a current density of 8A/drrf in a bath containing Q, boric acid 40g/Q, and citric acid 40g/Q, the nickel-plated specific resistance 1. A conductive fiber of 8×10′Ω·cm was obtained.

実施例2 実施例1で示したのと同一の硫化銅結合繊維を、硫酸銅
200g/ Q、硫酸50g/ Qを含む浴中で、温度
30°C電流密度4A/d r4の条件で、20分間電
解めっき処理を行った。このようにして得られた繊維は
表面に金属銅めっきされたもので、6.5X10−Ω・
cmの比抵抗を示した。
Example 2 The same copper sulfide bonded fibers as shown in Example 1 were treated in a bath containing 200 g/Q of copper sulfate and 50 g/Q of sulfuric acid at a temperature of 30° C. and a current density of 4 A/d r4 for 20 minutes. Electrolytic plating treatment was performed for 1 minute. The surface of the thus obtained fiber was plated with metallic copper, and the fiber was 6.5X10-Ω・
The specific resistance was expressed in cm.

実施例3 実施例1で示したのと同じ硫化銅結合繊維を、硫酸第1
錫40g/ Q、硫酸60g/ Q、クレゾールスルホ
ン酸40g/ Q、ゼラチン2g/ flを含むめっき
浴中で、20℃、電流密度1 、5A/d r&の条件
下で電解めっきを行った。このようにして得られた繊維
は金属錫めっきされたもので、 2.]、X10−” 
Ω・cmの比抵抗を示した。
Example 3 The same copper sulfide bonded fibers as shown in Example 1 were treated with diluted sulfuric acid.
Electrolytic plating was performed in a plating bath containing 40 g/Q of tin, 60 g/Q of sulfuric acid, 40 g/Q of cresolsulfonic acid, and 2 g/fl of gelatin at 20° C., current density of 1, and 5 A/d r&. The fibers thus obtained were plated with metal tin; 2. ], X10-”
The specific resistance is shown in Ω·cm.

実施例4 アクリロニトリル系フィルム(ゼクロン、三井東圧化学
■製、厚さ0.1mm)5gを、実施例1と同様に処理
して、硫化銅をその表面に結合させた。このものは、硫
化銅2.5重量%含むもので、そのフイルムの比抵抗は
5.6X10Ω・cmであった。
Example 4 5 g of an acrylonitrile film (Zekron, manufactured by Mitsui Toatsu Kagaku ■, thickness 0.1 mm) was treated in the same manner as in Example 1 to bond copper sulfide to its surface. This film contained 2.5% by weight of copper sulfide, and the specific resistance of the film was 5.6×10 Ω·cm.

次に、このフィルムに、実施例2と同一条件で電解めっ
き処理を30分間施した。このようにして得られたフィ
ルムは、金属鋼めっきされたもので、3.5X10−’
 Ω・Cl11の比抵抗を示した。
Next, this film was subjected to electrolytic plating treatment for 30 minutes under the same conditions as in Example 2. The film thus obtained was plated with metal steel and was 3.5X10-'
The specific resistance of Ω·Cl11 is shown.

実施例5 綿布5gを、第4級アンモニウム塩基を有するシランカ
ップリング剤溶液(試料に対するシランカップリング剤
比=10重量%)を用い、40℃で30分間処理した後
、実施例1と同一条件で硫化鋼2.8重量%を結合させ
た。このものは比抵抗3.6X10−” Ω・cmを示
した。
Example 5 5 g of cotton cloth was treated with a silane coupling agent solution containing a quaternary ammonium base (silane coupling agent ratio to sample = 10% by weight) at 40°C for 30 minutes, and then treated under the same conditions as Example 1. 2.8% by weight of sulfurized steel was combined. This product exhibited a specific resistance of 3.6×10 −” Ω·cm.

次に、この綿布に対し、実施例1と同一条件で電解めっ
き処理を施した。得られた綿布は金属ニッケルめっきさ
れたもので、7.0X10”−’Ω・cmを示した。
Next, this cotton cloth was subjected to electrolytic plating treatment under the same conditions as in Example 1. The obtained cotton cloth was plated with metallic nickel and exhibited a resistance of 7.0×10''-'Ω·cm.

特許出願人 日本蚕毛染色株式会社 代理人弁理士池浦敏明Patent applicant: Nippon Silk Hair Dyeing Co., Ltd. Representative Patent Attorney Toshiaki Ikeura

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)表面に硫化銅を結合させた高分子材料に対し、該
硫化銅を介して、電解めっき法により、導電性金属を付
着させたことを特徴とする導電性高分子材料。
(1) A conductive polymer material, characterized in that a conductive metal is attached to a polymer material having copper sulfide bonded to its surface by electrolytic plating via the copper sulfide.
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