JPS60226886A - Novel cephem compound and its preparation - Google Patents

Novel cephem compound and its preparation

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JPS60226886A
JPS60226886A JP7315085A JP7315085A JPS60226886A JP S60226886 A JPS60226886 A JP S60226886A JP 7315085 A JP7315085 A JP 7315085A JP 7315085 A JP7315085 A JP 7315085A JP S60226886 A JPS60226886 A JP S60226886A
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JP
Japan
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methyl
cephem
tetrahydro
formula
salt
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Pending
Application number
JP7315085A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takao Takatani
高谷 隆男
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Jiro Goto
後藤 二郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

NEW MATERIAL:The compound of formula I [R<1> is (protected) amino; R<2> is lower aliphatic hydrocarbon group; X is N or CH] or its salt. EXAMPLE:7-[2-Ethoxyimino-2-( 5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl )acetamido]-3-(1,2,5,6- tetrahydro-1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid. USE:Antibacterial agent. PREPARATION:The compound of formula II (or its salt) {e.g. 7-[2-ethoxyimino- 2-( 5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl )acetamido]-3-( 1-pyridiniomethyl )-3-cephem-4-carboxylate, etc.} is reduced with a hydrogenation agent, preferably sodium borohydrate, etc., e.g. in an aqueous solvent.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は新規セフェム化合物およびその塩に関する。[Detailed description of the invention] "Industrial application field" This invention relates to novel cephem compounds and salts thereof.

さらに詳細には、この発明は抗菌活性を有する新規セフ
ェム化合物およびその塩、その製造法ならびにそれを含
有する医薬組成物に関する。
More particularly, the present invention relates to novel cephem compounds and salts thereof having antibacterial activity, processes for their production, and pharmaceutical compositions containing them.

すなわち、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に対
して高い活性を有する新規セフェム化合物およびその塩
を提供することである。
That is, one object of the present invention is to provide novel cephem compounds and salts thereof that have high activity against many pathogenic bacteria.

この発明のもう一つの目的は、新規セフェム化合物およ
びその塩の製造法を提供することである。
Another object of this invention is to provide a method for producing novel cephem compounds and salts thereof.

この発明のさらにもう一つの目的は、有効成分として前
記新規セフェム化合物およびその塩を含有する医薬組成
物を提供することである。
Yet another object of this invention is to provide a pharmaceutical composition containing the novel cephem compound and its salt as an active ingredient.

「発明が解決しようとする問題点」 従来、数多くのセファロスポリン化合物が知られている
が、抗菌力や抗菌スペクトル等に問題を有するものも多
く、この発明はそのような諸点を解決し、さらにすぐれ
た医薬品の開発を意図したものである。
``Problems to be solved by the invention'' Many cephalosporin compounds have been known in the past, but many of them have problems with antibacterial activity and antibacterial spectrum, etc. This invention solves these problems, The aim is to develop even better medicines.

「問題を解決するための手段」 目的表する新規セフェム化合物は次の一般式(I)で示
すことができる。
"Means for Solving the Problem" The novel cephem compound that represents the object can be represented by the following general formula (I).

(式中 Blけアミノまたは保護されたアミノ、R2は
低級脂肪族炭化水素基、 XはNまたはCHをそれぞれ意味する)。
(In the formula, B1 is amino or protected amino, R2 is a lower aliphatic hydrocarbon group, and X means N or CH, respectively).

この発明によれば新規セフェム化合物(I)は、下記の
反応式で示される種々の製造法により製造することがで
きる。
According to the present invention, the novel cephem compound (I) can be produced by various production methods shown in the following reaction formula.

製造法1 (II) またはその塩 またはその塩 製造法2 またはその塩 (Ia) またはその塩 製造法3 (Ib) またはその塩 (Ic) またはその塩 (式中 R1,R2およびXけそれぞれ前と同じ意味で
あり、 R3は低級アルキル基、 R4は保護されたアミノ、 Yは酸残基をそれぞれ意味する)。
Production method 1 (II) or its salt or its salt production method 2 or its salt (Ia) or its salt production method 3 (Ib) or its salt (Ic) or its salt (in the formula, R1, R2 and , R3 is a lower alkyl group, R4 is a protected amino group, and Y is an acid residue).

目的化合物CI)の好適な塩は慣用の無毒性塩であり、
その例としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩等の
アルカリ金属塩、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩
等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩のような無機
塩基との塩;例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、
ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノールアミ
ン塩、ジシクロヘキシルアミンk、N、N”/ベンジル
エチレンジアミン塩等の有機アミン塩のような有機塩基
との塩が挙げられ、さらに例えば塩酸塩、臭化水素酸塩
、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸付加塩;例えばギ酸塩、
酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩
、メ〉ンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−ト
ルエンスルホン酸塩等の有機カルボン酸付加塩または有
機スルホン酸付加塩;例えばアルギニン、アスパラギン
酸、クルタミン酸等の塩基性アミノ酸または酸性アミノ
酸との塩のような塩基との塩または酸付加塩、第四級塩
等が挙げられる。
Suitable salts of the target compound CI) are the customary non-toxic salts;
Examples include alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts, alkaline earth metal salts such as calcium salts and magnesium salts, salts with inorganic bases such as ammonium salts; for example triethylamine salts, pyridine salts,
Salts with organic bases such as picoline salts, ethanolamine salts, triethanolamine salts, organic amine salts such as dicyclohexylamine k,N,N''/benzylethylenediamine salts, and salts with organic bases such as hydrochlorides, hydrobromic acid Inorganic acid addition salts such as salts, sulfates, phosphates; for example, formates,
Organic carboxylic acid addition salts or organic sulfonic acid addition salts such as acetate, trifluoroacetate, maleate, tartrate, methanesulfonate, benzenesulfonate, p-toluenesulfonate; for example, arginine, asparagine Examples include salts with acids, basic amino acids such as curtamic acid, or bases such as salts with acidic amino acids, acid addition salts, quaternary salts, and the like.

前記第四級塩は式: で示される基の窒素原子が、例えばメチル、エチル、フ
ロビル、グチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル
基により置換されて、式:(式中 R3は低級アルキル
基を意味する)で示される第四級陽イオン基が生じる場
合に形成される。
The quaternary salt has the formula: wherein the nitrogen atom of the group represented by the formula: is substituted with a lower alkyl group such as methyl, ethyl, furobyl, butyl, pentyl, hexyl, etc., where R3 represents a lower alkyl group. is formed when a quaternary cationic group of the meaning ) occurs.

上記第四級陽イオン基の好適な例としては、例えば1−
メチル−1,2,5,6−テトラヒドロ−l−ピリジニ
オ、■−エチルー1.2.5.6−テトラヒドロ−1−
ピリジニオ、1−プロピル−1,2,5,6−テトラヒ
ドロ−1−ピリジニオ、1−ブチル−1゜2、5.6−
テトラヒドロ−1−ピリジニオ等の1−(低級)アルキ
ル−1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリジニオ基
が挙げられる。
Suitable examples of the quaternary cation group include, for example, 1-
Methyl-1,2,5,6-tetrahydro-l-pyridinio, -ethyl-1.2.5.6-tetrahydro-1-
Pyridinio, 1-propyl-1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio, 1-butyl-1゜2,5.6-
Examples include 1-(lower)alkyl-1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio groups such as tetrahydro-1-pyridinio.

前記第四級塩は、例えば上記第四級陽イオン基と化合物
(I)のカルボキシ基との間に形成され得るが、その場
合好適な第四級塩としては、例えば1−メチル−1,2
,5,6−テトラヒドロ−1−ピリジニオ カルボキシ
レート、l−エチル−1,2,5,6−テトラヒドロ−
1−ピリジニオ カルボキシレート、1−プロピル−1
,2,5,6−テトラヒドロ−l−ピリジニオ カルボ
キシレート、1−グチル−]、 2.5.6−テトラヒ
ドロ−1−ピリジニオ カルボキシレート等の1−(低
級)アルキル−1,2゜5.6−テトラヒドロ−l−ピ
リジニオ カルボキシレートが挙げられる。
The quaternary salt may be formed, for example, between the quaternary cation group and the carboxy group of compound (I). In this case, suitable quaternary salts include, for example, 1-methyl-1, 2
, 5,6-tetrahydro-1-pyridinio carboxylate, l-ethyl-1,2,5,6-tetrahydro-
1-pyridiniocarboxylate, 1-propyl-1
, 2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio carboxylate, 1-butyl], 1-(lower)alkyl-1,2°5.6 such as 2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio carboxylate, 2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio carboxylate -tetrahydro-l-pyridiniocarboxylate.

1」内生合物(Il、(h)、(rb)および(Ic)
ならびに原料化合物([1)については、各々シン異性
体、アンチ異性体およびそれらの混合物を含むものとす
る。
1” endogenous compounds (Il, (h), (rb) and (Ic)
The raw material compound ([1) includes a syn isomer, an anti isomer, and a mixture thereof.

例えば[1内生合物(I)について説明すると、シン異
性体は式: (式中、R1,R2およびXはそれぞれ前と同じ意味)
で示される部分構造を有する一つの幾何異性体を意味し
、アンチ異性体は式: (式中、R1,R2およびXはそれぞれ前と同じ意味)
で示される部分構造を有する別の幾何異性体を意味する
For example, to explain [1 endogenous compound (I), the syn isomer has the formula: (wherein R1, R2 and X each have the same meaning as before)
refers to one geometric isomer having the partial structure represented by the formula: (wherein R1, R2 and X each have the same meaning as before)
means another geometric isomer having a partial structure represented by

前記のその他の化合物についても、シン異性体およびア
ンチ異性体は、化合物(I)で説明した幾何異性体と同
じ関係にあるものである。
Regarding the other compounds mentioned above, the syn isomer and the anti isomer have the same relationship as the geometric isomer explained for compound (I).

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に述べる。
In the foregoing and following description of this specification, preferred examples and explanations of the various definitions falling within the scope of this invention are set forth in detail below.

「低級」とけ、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を意味するものとする。
"Lower" shall mean 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified.

R1およびR4の好適な「保護されたアミノ」としては
、アシルアミノまたは例えばベンジル、トリチル等の、
適当な置換基を有していてもよいアル(低級)アルキル
のような慣用の保護基によって置換されたアミン等が挙
げられる。
Suitable "protected amino" for R1 and R4 include acylamino or such as benzyl, trityl, etc.
Examples thereof include amines substituted with conventional protecting groups such as al(lower) alkyl which may have a suitable substituent.

「アシルアミノ」および「アシルオキシ」における好適
なアシル部分としては、カルバモイル、脂肪族アシルお
よび芳香環または複素環を含むアシルが挙げられる。こ
れらのアシルの好適な例とシテは、例工ばホル三ル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレ
リル、インバレリル、オキサリル、スクシニル、ピバロ
イル等の低級アルカノイル基; 例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、1−シク口プロビルエトキシ力ルポ
二ノへインプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル
、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、ヘキシルオキシカルボニル等の低級アルコキシカル
ボニル基:例工ばメシル、エタンスルホニル、プロパン
スルホニル、イソプロパンスルホニル、ブタンスルホニ
ル等の低級アルカンスルホニル基: 例工ばベンゼンスルホニノペ トシル等のアレーンスル
ホニル基; 例t fd’ベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナ
フトイル、フタロイル、インダンカルボニル等のアロイ
ル基; 例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル等ノア
ル(低級)アルカノイル基; 例エハペンジルオキシ力ルポニル、フェネチルオキシカ
ルボニル等のアル(低級)アルコキシカルボニル基等が
挙げられる。
Suitable acyl moieties in "acylamino" and "acyloxy" include carbamoyl, aliphatic acyl and acyl containing aromatic or heterocycles. Suitable examples of these acyls include lower alkanoyl groups such as fortriyl, acetyl, propionyl, butyryl, imbutyryl, valeryl, invaleryl, oxalyl, succinyl, and pivaloyl; examples include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, and propoxycarbonyl. , 1-cyclopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl and other lower alkoxycarbonyl groups: Examples include mesyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, Lower alkanesulfonyl groups such as isopropanesulfonyl and butanesulfonyl; Arenesulfonyl groups such as benzenesulfoninopetosyl; Examples fd'Aroyl groups such as benzoyl, toluoyl, xyloyl, naphthoyl, phthaloyl, and indancarbonyl; such as phenyl Noal (lower) alkanoyl groups such as acetyl and phenylpropionyl; Examples include al (lower) alkoxycarbonyl groups such as ehapenzyloxyluponyl and phenethyloxycarbonyl.

上記アシル部分け、アシル(例えば低級アルカノイル)
、ハロゲン(例えば塩素、臭素、フッ素およびヨウ素)
等のような適当な置換基を有していてもよい。
The above acyl moiety, acyl (e.g. lower alkanoyl)
, halogens (e.g. chlorine, bromine, fluorine and iodine)
It may have appropriate substituents such as.

好適な「低級脂肪族炭化水素基」としては、低級アルキ
ル、低級アルケニル、低級アルキニル等が挙げられる。
Suitable "lower aliphatic hydrocarbon groups" include lower alkyl, lower alkenyl, lower alkynyl, and the like.

好適な「低級アルキル基」は炭素原子1〜6個を有する
ものであり、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、第三
級ペンチル、ヘキシル等が挙げられるが、好捷しくけ炭
素原子1〜4個を有するものである。
Suitable "lower alkyl groups" have 1 to 6 carbon atoms, and include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl, tertiary pentyl, hexyl, and the like. , having 1 to 4 carbon atoms.

好適な低級「アルケニル基」は炭素原子2〜6個を有す
るものであり、ビニル、アリル、インプロペニル、1−
7’ロペニル、2−−y”テニル、3−ペンテニル等が
挙げられるが、好ましくは炭素原子2〜4個を有するも
のである。
Preferred lower "alkenyl" groups are those having 2 to 6 carbon atoms, such as vinyl, allyl, impropenyl, 1-
Examples include 7'ropenyl, 2-y"tenyl, 3-pentenyl, etc., and preferably one having 2 to 4 carbon atoms.

好適な「低級アルキニル基」は炭素原子2〜6個を有す
るものであり、エチニル、2−プロピニル、2−−1チ
ニル、3−ペンチニル、3−へキシニル等が挙げられる
が、好ましくは炭素原子2〜4個を有するものである。
Suitable "lower alkynyl groups" have 2 to 6 carbon atoms, and include ethynyl, 2-propynyl, 2--1 thynyl, 3-pentynyl, 3-hexynyl, etc., but preferably carbon atoms It has 2 to 4 pieces.

好適なYとしてはアシルオキシ、ハロゲン(例えば塩素
、臭素、ヨウ素またはフッ菊、アジド等のような酸残基
が挙げられ、「アシルオキシ」におけるアシル部分とし
ては前に例示したようなものが挙げられる。
Suitable examples of Y include acyloxy, halogen (eg, chlorine, bromine, iodine, or acid residues such as fluorine, azide, etc.), and examples of the acyl moiety in "acyloxy" include those exemplified above.

目的化合物(1)の好ましい実施態様は下記のとおりで
ある。
Preferred embodiments of the target compound (1) are as follows.

R1の好ましい実施態様はアミンまたはアシルアミノ、
さらに好ましくはアミノまたは低級アルカノイルアミノ
である。
Preferred embodiments of R1 are amine or acylamino,
More preferred is amino or lower alkanoylamino.

R2の好ましい実施態様は低級アルキル基である。A preferred embodiment of R2 is a lower alkyl group.

この発明の目的化合物(I)またはその塩の製造法を以
下詳細に説明する。
The method for producing the object compound (I) or a salt thereof of the present invention will be explained in detail below.

製造法1 目的化合物(I)またはその塩は、化合物(II)まだ
はその塩を還元反応に付すことにより製造することがで
きる。
Production method 1 The target compound (I) or a salt thereof can be produced by subjecting compound (II) or a salt thereof to a reduction reaction.

この製造法における化合物(I)の好適な塩としては、
目的化合物(I)Kついて前に例示したような塩基との
塩または酸付加塩が挙げられる。
Suitable salts of compound (I) in this production method include:
Examples of the target compound (I)K include salts with bases or acid addition salts as exemplified above.

化合物(II)の好適な塩としては、目的化合物CI)
について前に例示したような塩基との塩または酸付加塩
が挙げられる。
Suitable salts of compound (II) include target compound CI)
Examples include salts with bases or acid addition salts as exemplified above.

この還元反応における還元法としては水素化剤を使用す
る還元、金属と有機酸との組合わせによる還元、接触還
元等が挙げられる。
Examples of the reduction method in this reduction reaction include reduction using a hydrogenating agent, reduction using a combination of a metal and an organic acid, and catalytic reduction.

水素化剤を使用する場合、好適な水素化剤としては、例
えば水素化ホウ素ナトリウム等の水素化ホウ素アルカリ
金属、例えば水素化アルミナムリチウム等の水素化アル
ミナムアルカリ金属、例えば水素化シアノホク素ナトリ
クム等の水素化シアノホウ素アルカリ金属、例えば水素
化トリ(第三級ブトキシ)アルミナムリチクム等の水素
化アルコキシアルミナムアルカリ金属等が挙げられる。
If a hydrogenating agent is used, suitable hydrogenating agents include, for example, alkali metal borohydrides such as sodium borohydride, alkali metal aluminum hydrides such as lithium aluminum hydride, sodium cyanofluoride, etc. Examples include alkali metal cyanoborohydrides, such as alkali metal hydrides such as tri(tert-butoxy)aluminum lyticum hydride.

この反応に使用される溶媒は使用される水素化剤の種類
によって選択することができ、反応は水、例えばメタノ
ール、エタノール等のアルコール、例えばジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、1.2−ジメトキシエタン
等のエーテルのような溶媒中で行なうことができるが、
反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいか
なる溶媒中でも反応を行なうことができる。
The solvent used in this reaction can be selected depending on the type of hydrogenation agent used, and the reaction can be carried out with water, alcohols such as methanol and ethanol, and ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and 1,2-dimethoxyethane. It can be carried out in a solvent such as
The reaction can be carried out in any other solvent as long as it does not adversely affect the reaction.

反応温度は特に限定されず、通常は冷却下、常温または
加温下に反応が行なわれる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling, room temperature, or heating.

金属と有機酸との組合わせによる還元を使用する場合、
好適な金属としては鉄、亜鉛等のようなものが挙げられ
、好適な有機酸としてけギ酸、酢酸等のようなものが挙
げられる。
When using reduction by a combination of metals and organic acids,
Suitable metals include iron, zinc, etc., and suitable organic acids include citric acid, acetic acid, etc.

接触還元を使用する場合、好適な触媒としては例えば酸
化白金等の白金金属触媒、例えばバラジクムー炭素等の
パラジウム金属触媒等のようなものが挙げられ、好適な
溶媒としては例えばメタノール、エタノール等のアルコ
ール、酢酸、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、1.2−ジメトキシエタン等のエー
テル、シクロヘキサン、水、酢酸エチル、N、N−ジメ
チルホルムアミド等のようなこの反応に常用される溶媒
が挙げられる。
When using catalytic reduction, suitable catalysts include, for example, platinum metal catalysts such as platinum oxide, palladium metal catalysts such as Baladicum carbon, and suitable solvents include alcohols such as methanol, ethanol, etc. , acetic acid, ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, cyclohexane, water, ethyl acetate, N,N-dimethylformamide, etc., which are commonly used in this reaction.

製造法2 目的化合物(Ia)またはその塩は、化合物(I) t
たはその塩を化合物(至)と反応させることにより製造
することができる。
Production method 2 Target compound (Ia) or its salt is compound (I) t
or its salt can be produced by reacting with the compound (iii).

この製造法における化合物(I)および化合物(Ia)
の好適な塩としては、前に目的化合物(I)について例
示した塩基との塩または酸付加塩が挙げられる。
Compound (I) and compound (Ia) in this production method
Suitable salts include the salts with bases or acid addition salts exemplified above for the target compound (I).

この反応はモノトリメチルシリルアセトアミド、タロロ
トリノチルシラン等のようなシリル化剤の存在下に行な
ってもよい。
This reaction may be carried out in the presence of a silylating agent such as monotrimethylsilylacetamide, talolotrinotylsilane, and the like.

反応は通常、水、アセトン、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、例えばメタノール、エタノール等のアル
コール、塩化メチレン、塩化エチレン、N、N−ジメチ
ルホルムアミドのような溶媒中で行なわれるが、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる溶媒
中でも行なうことができる。
The reaction is usually carried out in a solvent such as water, acetone, diethyl ether, tetrahydrofuran, an alcohol such as methanol or ethanol, methylene chloride, ethylene chloride, N,N-dimethylformamide, but any solvent that does not adversely affect the reaction may be used. It can be carried out in any other solvent.

反応温度は特に限定されず、通常は冷却下ないし加熱下
に反応が行なわれる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

製造法3 目的化合物(Ic)まだはその塩は、化合物(Ib)ま
たはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。
Production method 3 The target compound (Ic) or its salt can be produced by subjecting compound (Ib) or its salt to an amino-protecting group elimination reaction.

化合物(Ib)および(Ic)の好適な塩としては、目
的化合物(I)について前に例示したよう々ものを挙げ
ることができる。
Suitable salts of compounds (Ib) and (Ic) include those exemplified above for the target compound (I).

この脱離反応は加水分解、還元、捷だ、保護基がアシル
である場合には、化合物(Ib)をイミノハロゲン化剤
と反応させ、次いでイミノエーテル化剤と反応させ、必
要に応じて、生成する化合物を加水分解する方法等のよ
うな常法によって行なわれる。加水分解としては酸また
は塩基またはヒドラジン等を使用する方法が挙げられる
。これらの方法は脱離すべき保護基の種類によって選択
すればよい。
This elimination reaction involves hydrolysis, reduction, and cleavage. When the protecting group is acyl, compound (Ib) is reacted with an iminohalogenating agent, then reacted with an iminoetherifying agent, and if necessary, This is carried out by conventional methods such as hydrolysis of the resulting compound. Examples of hydrolysis include methods using acids, bases, hydrazine, and the like. These methods may be selected depending on the type of protecting group to be removed.

これらの方法中、酸を用いる加水分解は、例えば、ペン
チルオキシカルボニル、ブトキシカルボニル等の置換捷
たは非置換アルコキシカルボニルL例りはホルミル等の
アルカノイル基、シクロアルコキシカルボニル基、例え
ばベンジルオキシカルボニル、置換すれたベンジルオキ
シカルボニル等の置換または非置換アラ゛ルコキシ力ル
ボニル基、例えばベンジル、トリチル等のアル(低級)
アルキル基等のような保護基の脱離に共通した好ましい
方法の一つである。
In these methods, hydrolysis using an acid can be performed, for example, on substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl groups such as pentyloxycarbonyl, butoxycarbonyl, alkanoyl groups such as formyl, cycloalkoxycarbonyl groups, such as benzyloxycarbonyl, Substituted or unsubstituted aralkoxycarbonyl groups such as substituted benzyloxycarbonyl, e.g. (lower) alkoxycarbonyl groups such as benzyl, trityl, etc.
This is one of the common preferred methods for removing protective groups such as alkyl groups.

好適な酸は有機酸または無機酸であり、例えば、ギ酸、
トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエン
スルホン酸、塩酸等が挙げられるが、好ましい酸は、例
えば、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸等である。反応に
適した酸は脱離すべき保護基の種類によって選択するこ
とができる。脱離反応を酸による加水分解で行なう場合
には、溶媒の存在下または非存在下に行なうことができ
る。好適な溶媒としては例えばメタノーノへエタノール
、テトラヒドロフラン等の慣用の有機溶媒、水またはそ
れらの混合物が挙げられる。トリフルオロ酢酸を使用す
る場合、脱離反応をアニソールの存在下に行なうのが好
ましい。
Suitable acids are organic or inorganic acids, for example formic acid,
Examples include trifluoroacetic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and hydrochloric acid, and preferred acids include, for example, formic acid, trifluoroacetic acid, and hydrochloric acid. The acid suitable for the reaction can be selected depending on the type of protecting group to be removed. When the elimination reaction is carried out by hydrolysis with an acid, it can be carried out in the presence or absence of a solvent. Suitable solvents include, for example, conventional organic solvents such as methanol, ethanol, tetrahydrofuran, water or mixtures thereof. When using trifluoroacetic acid, the elimination reaction is preferably carried out in the presence of anisole.

ヒドラジンを使用する加水分解は、保護基が、例えばス
クシニルまたはフタロイルである場合の脱離に共通して
適用される。
Hydrolysis using hydrazine is commonly applied for elimination when the protecting group is eg succinyl or phthaloyl.

塩基による加水分解はアシル、例えばジクロロアセチル
、トリフルオロアセチル等のハロアルカノイル基等の脱
離に適用するのが好ましい。好適な塩基としては、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリタム等のアルカリ金属
水酸化物、例えば水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム等のアルカリ土類金属水酸化物、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭
酸塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
のアルカリ金属炭酸水素塩、例えば酢酸ナトリウム、酢
酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩、例えばリン酸マグ
ネシウム、リン酸力ルシクム等のアルカリ土類金属リン
酸塩、例えばリン酸水素二ナトリクム、リン酸水素二カ
リクム等のアルカリ金属リン酸水素塩等のような無機塩
基、才た、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン
等のトリアルキルアミン、ピコリン、N−メチルピロリ
ジン、N−メチルモルホリン、1,5−ジアザビシクロ
(4,3,03ノン−5−エン、114−ジアザビシク
ロ[2,2,2]オクタン、1,5−ジアザビシクロ[
5,4,0]クンデセン−5等のような有機塩基が挙げ
られる。塩基を用いる加水分解はしばしは水、慣用の有
機溶媒またはそれらの混合物中で行なわれる。
Hydrolysis with a base is preferably applied to eliminate acyl groups, such as haloalkanoyl groups such as dichloroacetyl, trifluoroacetyl, and the like. Suitable bases include, for example, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as magnesium hydroxide and calcium hydroxide; alkali metal hydroxides such as sodium carbonate and potassium carbonate; carbonates, e.g. alkaline earth metal carbonates such as magnesium carbonate, calcium carbonate, alkali metal bicarbonates such as sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, alkali metal acetates such as sodium acetate, potassium acetate, e.g. phosphoric acid; Inorganic bases such as alkaline earth metal phosphates such as magnesium, lucicum phosphate, alkali metal hydrogen phosphates such as disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, etc., trimethylamine, triethylamine, etc. Trialkylamines such as picoline, N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo(4,3,03non-5-ene, 114-diazabicyclo[2,2,2]octane, 1,5 −Diazabicyclo [
Examples include organic bases such as [5,4,0]kundecene-5 and the like. Hydrolysis with bases is often carried out in water, customary organic solvents or mixtures thereof.

保護基中、アシルは一般的には前記加水分解によって、
またはその他の常用の加水分解法によって脱離される。
Among the protecting groups, acyl is generally modified by the hydrolysis described above.
or by other conventional hydrolysis methods.

アシルがハロゲン置換アルコキシカルボニル基または8
−キノリルオキシカルボニル基である場合、これらは銅
、亜鉛等のような重金属処理によって脱離される。
Acyl is a halogen-substituted alkoxycarbonyl group or 8
-quinolyloxycarbonyl groups, these are eliminated by treatment with heavy metals such as copper, zinc, etc.

還元による脱離は、例えば2−トリクロロエトキシカル
ボニル等のハロアルコキシカルボニル基、例えばベンジ
ルオキシカルボニル、置換されたベンジルオキシカルボ
ニル等の置換または非置換アラルコキシカルボニル基、
2−ピリジルメトキシカルボニル基等の保護基の脱離に
適用される。
Elimination by reduction includes, for example, haloalkoxycarbonyl groups such as 2-trichloroethoxycarbonyl, substituted or unsubstituted aralkoxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl, substituted benzyloxycarbonyl, etc.
It is applied to the removal of protecting groups such as 2-pyridylmethoxycarbonyl group.

好適な還元法としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム
等の水素化ホウ素アルカリ金属による還元等が挙げられ
る。
Suitable reduction methods include, for example, reduction with an alkali metal borohydride such as sodium borohydride.

反応温度は特に限定されず、アミノ保護基の種類および
前記脱離法の種類によって適宜選択すればよく、この反
応は好ましくは冷却下、常温または若干温度を上げる程
度の温和な条件下に行なわれる。
The reaction temperature is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the type of amino protecting group and the type of the above-mentioned elimination method, and this reaction is preferably carried out under cooling, at room temperature, or under mild conditions such as slightly elevated temperature. .

「発明の効果」 この発明の目的化合物(Ilおよびその塩は新規化合物
であり、高い抗菌活性を示してダラム陽性菌およびグラ
ム陰性菌を含む広汎な病原菌の生育を阻止し、抗菌剤と
して有用である。治療に当っては、この発明による化合
物は、経口用、非経口用まだは外用投与に適した有機も
しくけ無機固体状賦形剤捷たは液状賦形剤のような医薬
として許容される担体と混合されて、該化合物を有効成
分として含有する慣用の医薬製剤の形で使用される。
"Effects of the Invention" The object compound of this invention (Il and its salts) is a new compound that exhibits high antibacterial activity and inhibits the growth of a wide range of pathogenic bacteria, including Durham-positive bacteria and Gram-negative bacteria, and is useful as an antibacterial agent. For therapeutic purposes, the compounds according to the invention may be present in pharmaceutically acceptable formulations such as organic or inorganic solid excipients or liquid excipients suitable for oral, parenteral or topical administration. The compound is used in the form of a conventional pharmaceutical preparation containing the compound as an active ingredient.

医薬製剤はカプセル、錠前、糖衣錠、軟膏捷たは半割の
ような固体状であっ・ても、溶液、懸濁液またはエマル
ジョンのような液状であってもよい。
Pharmaceutical formulations may be in solid form, such as capsules, tablets, dragees, ointments or halves, or in liquid form, such as solutions, suspensions or emulsions.

所望に応じて上記製剤中に、助剤、安定剤、湿潤剤また
は乳化剤、緩衝液、ならびにその他乳糖、フマール酸、
クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、マレイン酸、コハク
酸、リンゴ酸、ステアリン酸マグネシクム、白土、シュ
ークロース、コーンスターチ、タルク、ゼラチン、寒天
、ペクチン、落花生油、オリーブ油、カカオ脂、エチレ
ングリコール等のような通常使用される添加剤が含まれ
ていてもよい。
If desired, auxiliary agents, stabilizers, wetting agents or emulsifiers, buffers, and other substances such as lactose, fumaric acid,
Such as citric acid, tartaric acid, stearic acid, maleic acid, succinic acid, malic acid, magnesium stearate, terra alba, sucrose, corn starch, talc, gelatin, agar, pectin, peanut oil, olive oil, cocoa butter, ethylene glycol etc. Commonly used additives may also be included.

化合物の投与量は患者の年齢および条件によって変化す
るが、平均1回投与量約lθ■、50q、100〜.2
50■、500〜.1000■でこの発明の化合物は病
原菌感染症の治療に有効であることが明らかとなった。
The dose of the compound varies depending on the age and condition of the patient, but the average single dose is about lθ■, 50q, 100~. 2
50■, 500~. The compounds of this invention were found to be effective in treating pathogenic bacterial infections.

一般的には1日当り約1fng/個体ないし約6.00
0■/個体またはそれ以上投与してもよい。
Generally about 1 fng/individual to about 6.00 per day
0 ■/individual or more may be administered.

目的化合物の有用性を説明するために、この発明の代表
的化合物の抗菌活性を以下に示す。
In order to explain the usefulness of the target compounds, the antibacterial activity of representative compounds of this invention is shown below.

最小発育阻止濃度 (A+試験法 試験管内抗菌活性を下記の寒天板2倍希釈法により測定
した。
Minimum Inhibitory Concentration (A+ Test Method) In vitro antibacterial activity was measured by the following agar plate 2-fold dilution method.

各試験菌株をトリプチケース・ソイ・プロス中−夜培養
してその一白金耳(生菌数108個/me)を、各濃度
段階の代表的試験化合物を含むハート・インフュージョ
ン寒天(HI寒天)に接種し、37℃で20時間インキ
ュベートした後、最小発育阻止濃度(M工C)をμy/
meで表わした。
Each test strain was cultured overnight in Trypticase Soy Pross, and a loopful of the culture (108 viable bacteria/me) was placed on Heart Infusion Agar (HI agar) containing a representative test compound at each concentration level. ) and incubated at 37°C for 20 hours, the minimum inhibitory concentration (MCC) was adjusted to μy/
It was expressed as me.

(B)試験化合物 (1)7−[2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(1−メチ
ル−1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリジニオ)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)。
(B) Test compound (1) 7-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-(1-methyl-1,2,5,6-tetrahydro-1- pyridinio)
Methyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer).

(C)試験結果 「実施例」 以下この発明を実施例に従ってさらに詳細に説明する。(C) Test results "Example" The present invention will be explained in more detail below according to examples.

実施例1 7−[2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]−3
−(1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体)(6,0p)の水(300
mf’)中懸濁液を、5℃で炭酸水素ナトリウム飽和水
溶液によりpH6,5に調整し、次いでこれに水素化ホ
ウ素ナトリウム(l、6y)を何度かに分けて加え、6
N塩酸でpH7〜75に保つ。反応終了後、生成する溶
液を6N塩酸で酸性にし、非イオン性吸着樹脂「ダイヤ
イオ:yHP−20J(商標、三菱化成社製)(200
me )を使用するカラムクロマトグラフィーに付す。
Example 1 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-3-yl)acetamide]-3
-(1-pyridiniomethyl)-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer) (6,0p) in water (300p)
mf') was adjusted to pH 6.5 with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate at 5°C, and then sodium borohydride (l, 6y) was added in portions to the pH 6.5.
Maintain pH 7-75 with N-hydrochloric acid. After the reaction is completed, the resulting solution is acidified with 6N hydrochloric acid, and a nonionic adsorption resin "Diaio: yHP-20J (trademark, manufactured by Mitsubishi Kasei Corporation) (200
column chromatography using me).

カラムラ水(11)で洗浄後、30%メタノール水溶液
で溶出する。目的化合物を含む溶出液を集め、メタノー
ルを減圧下に留去し、凍結乾燥して得る7−[2−エト
キシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)アセトアミド]−3−(1,2,5
,6−テトラヒドロ−1−ピリジル)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)(3,5gI)を
メタノールから結晶化させる。
After washing with columnar water (11), it is eluted with a 30% methanol aqueous solution. The eluate containing the target compound is collected, methanol is distilled off under reduced pressure, and lyophilized to obtain 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl). Acetamide]-3-(1,2,5
,6-tetrahydro-1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (3,5 gI) is crystallized from methanol.

mp:150〜155°C(分解) IR(ヌジa−ル): 3400.3100. 176
0.1670゜1600、 1530cm−1 NMR(D20 + DCl、δル6.27−5.5(
2L m)、5.90(LH,d、 J=4.5Hz)
、5.37(IH,d、 J−”4.5Hz)。
mp: 150-155°C (decomposition) IR (nudial): 3400.3100. 176
0.1670°1600, 1530cm-1 NMR (D20 + DCl, δ 6.27-5.5 (
2L m), 5.90 (LH, d, J=4.5Hz)
, 5.37 (IH, d, J-"4.5Hz).

4.43(2H+q、J=7Hz)+ 4.30(2H
,br s)。
4.43 (2H + q, J = 7Hz) + 4.30 (2H
, br s).

4、0 3.6 (4Ht br s )+3.6−a
、 4 (2H2m )+2.7−2.3(2H,m)
、1.36(3H,t、 J=7Hz)実施例2 +1+実施例1と同様にして、7−〔2−メトキシイミ
ノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4イル)アセ
トアミド]−3−7(1,2,5,6−テトラヒドロ−
1−ピリジル)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸
(シン異性体)を得る。
4,0 3.6 (4Ht br s )+3.6-a
, 4 (2H2m)+2.7-2.3(2H,m)
, 1.36 (3H, t, J=7Hz) Example 2 +1+Similarly to Example 1, 7-[2-methoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4yl)acetamide]-3-7 (1,2,5,6-tetrahydro-
1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) is obtained.

mp:142〜147°C IR(ヌジョール): 3200. 1775. 16
70. 1610゜1540α−1 NmR(D、、o、δ): 8.53(IH,s)、7
.43(IH,s)。
mp: 142-147°C IR (Nujol): 3200. 1775. 16
70. 1610°1540α-1 NmR (D,, o, δ): 8.53 (IH, s), 7
.. 43 (IH, s).

6.05−5.7(2H,m)、5.83(IH,d、
 J=5Hz)。
6.05-5.7 (2H, m), 5.83 (IH, d,
J=5Hz).

5.57(IH,d、 J=5Hz)、4.0(3H,
s)、4.6(2H。
5.57 (IH, d, J=5Hz), 4.0 (3H,
s), 4.6 (2H.

H2Oのピークと重なる)、4.1−3.9(2H,m
)。
overlaps with the H2O peak), 4.1-3.9 (2H, m
).

3.70(2H,br s)、3.5−3.3(2H,
m)、2.7−2.4(2H,m) (2)実施例1と同様にして、7−[2−メトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−アセト
アミド]−3−(1,2,5,6−テトラヒドロ−1−
ピリジル)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)を得る。
3.70 (2H, br s), 3.5-3.3 (2H,
m), 2.7-2.4(2H,m) (2) In the same manner as in Example 1, 7-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)-acetamide]- 3-(1,2,5,6-tetrahydro-1-
pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) is obtained.

mp:145〜150°C(分解) IR(ヌジョール): 3300. 1775. 16
60. 1610゜1530cm−1 NMR(D20.δ): 7.00(LH,e)、6.
1−5.6(2H,m)15.90(IH,d、J=5
Hz)、5.22(IH,d、J=5Hz)。
mp: 145-150°C (decomposition) IR (nujol): 3300. 1775. 16
60. 1610°1530cm-1 NMR (D20.δ): 7.00 (LH, e), 6.
1-5.6 (2H, m) 15.90 (IH, d, J=5
Hz), 5.22 (IH, d, J=5Hz).

4、5(2H,H2Oのピークと重なる)、4.1−3
.9(2H,m)、4.0(3H,s)、3.1−3.
6(2H,m)。
4, 5 (overlaps with 2H, H2O peak), 4.1-3
.. 9 (2H, m), 4.0 (3H, s), 3.1-3.
6 (2H, m).

3.5−3.3(2H,m)、2.6−2.3(2H,
m)実施例3 7−[2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]−3
−(1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリジル)メ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)(
500q)およびモノトリメチルシリルアセトアミド(
1,0y)を塩化メチレン(10me)に35℃で溶解
した後、常温に冷却する。この溶液にヨク化メチル(1
,5ml’)を同温で撹拌下に加え、混合物を3日間撹
拌する。反応混合物の溶媒を留去し、残渣に水(50m
e )を加える。不溶物を戸去し、p液を[ダイヤイオ
ンHP−20J(20ml’)を使用するカラムクロマ
トグラフィーに付す。水(500me)で洗浄後、混合
物を30%メタノール水溶液で溶出する。目的化合物を
含む両分のメタノールを留去し、凍結乾燥して、7−[
2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−
チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]−3−(1
−メチル−1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリジ
ニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート(
シン異性体)(350■)を得る。
3.5-3.3 (2H, m), 2.6-2.3 (2H,
m) Example 3 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-3-yl)acetamide]-3
-(1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (
500q) and monotrimethylsilylacetamide (
1,0y) in methylene chloride (10me) at 35°C, and then cooled to room temperature. Add methyl iocide (1
, 5 ml') are added under stirring at the same temperature and the mixture is stirred for 3 days. The solvent of the reaction mixture was distilled off, and water (50 m
Add e). Insoluble matter was removed, and the p solution was subjected to column chromatography using Diaion HP-20J (20 ml'). After washing with water (500me), the mixture is eluted with 30% aqueous methanol. Both methanol containing the target compound were distilled off and freeze-dried to obtain 7-[
2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-
thiadiazol-3-yl)acetamide]-3-(1
-Methyl-1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio)methyl-3-cephem-4-carboxylate (
Syn isomer) (350■) is obtained.

mp : 150〜1558C(分解)工R(ヌジョー
ル): 3300. 1770. 1660. 161
0゜1530 cm−1 NMR(D20.δ): 6.1−5.8(IH,m)
、5.93(IH,d。
mp: 150-1558C (disassembly) Engineering R (nujol): 3300. 1770. 1660. 161
0°1530 cm-1 NMR (D20.δ): 6.1-5.8 (IH, m)
, 5.93 (IH, d.

J=5Hz )、5.83およびs、 50 (2H2
A Bqr J−13Hz )+5、4 s、 3 (
I H2m )+ 5−37 (I Hr d、J−5
Hz )。
J=5Hz), 5.83 and s, 50 (2H2
A Bqr J-13Hz)+5, 4 s, 3 (
I H2m) + 5-37 (I Hrd, J-5
Hz).

4.37(2H,q、 J=7Hz)、4.0−3.8
(2H,m)。
4.37 (2H, q, J=7Hz), 4.0-3.8
(2H, m).

3.7−3.4(2H,br s)、3.1−2.9(
2H,m)。
3.7-3.4 (2H, br s), 3.1-2.9 (
2H, m).

3.00(3H,s)、2.7−2.4(2H,m)。3.00 (3H, s), 2.7-2.4 (2H, m).

1.35(3H,t、 J=7Hz) 実施例4 +1)実施例3と同様にして、?−[2−メトキシイミ
ノ−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕−3−(1−メチル−1゜2、5.6−テ
トラヒドロ−1−ピリジニオ)メチル−3−セフェム−
4−カルボキシレート(シン異性体)を得る。
1.35 (3H, t, J=7Hz) Example 4 +1) In the same manner as Example 3, ? -[2-Methoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetamide]-3-(1-methyl-1°2,5.6-tetrahydro-1-pyridinio)methyl-3-cephem-
4-carboxylate (syn isomer) is obtained.

mp:144〜149℃(分解) 工R(ヌジョール): 3300. 1780. 16
70. 1610゜1550c+++71 NMR(D20.δ): 8.57(IH,s)、7.
47(LH,s)。
mp: 144-149°C (decomposition) Engineering R (Nujol): 3300. 1780. 16
70. 1610°1550c+++71 NMR (D20.δ): 8.57 (IH, s), 7.
47 (LH, s).

5.87(IH,d、J=5Hz)、6.1−5.7(
2H,m)。
5.87 (IH, d, J = 5Hz), 6.1-5.7 (
2H, m).

5.37(IH,d、 J=5Hz)、5.47および
5.30(2LABq、J=13Hz)、4.03(3
H,s)、4.1 3.7(4H。
5.37 (IH, d, J=5Hz), 5.47 and 5.30 (2LABq, J=13Hz), 4.03 (3
H,s), 4.1 3.7 (4H.

m)、3.6−3.3(2H,m)、 3.06(3H
,s)、2.7−2.4(2H,m) (2)実施例3と同様にして、7−[2−メトキシイミ
ノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−アセト
アミド]−3−(1−メチル−1,2,5,6−テトラ
ヒドロ−1−ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4−
カルボキシレートを得る。
m), 3.6-3.3 (2H, m), 3.06 (3H
,s), 2.7-2.4(2H,m) (2) In the same manner as in Example 3, 7-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)-acetamide] -3-(1-methyl-1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio)methyl-3-cephem-4-
Obtain carboxylate.

mp+160〜165°C(分解) 工R(ヌジョール): 3300. 1750. 16
60. 1610゜1530cm−1 NMR(D20.δ): 7.00(IH,s)、6.
1−5.8(2H,m)。
mp+160~165°C (decomposition) Engineering R (Nujol): 3300. 1750. 16
60. 1610°1530cm-1 NMR (D20.δ): 7.00 (IH, s), 6.
1-5.8 (2H, m).

5.83(IH2d、J=5H2)、5,33(IH2
d、J−5H2)。
5.83 (IH2d, J=5H2), 5,33 (IH2
d, J-5H2).

5.50および5.30(2H,ABq、J=13Hz
)、4.14−3、9 (2H+ m )、4.00 
(3H9s )、3−83 (2H+ br s )。
5.50 and 5.30 (2H, ABq, J=13Hz
), 4.14-3, 9 (2H+ m ), 4.00
(3H9s), 3-83 (2H+brs).

3.65 3.40(2H1m)+ 3.00(3H1
s)。
3.65 3.40 (2H1m) + 3.00 (3H1
s).

2.67−2.35(2H,m) 実施例5 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホルムアミドチ
アゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(1,2,
5,6−テトラヒドロ−1−ピリジル)メチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)(2,53!9
’)のメタノール(15me )溶液に、濃塩酸(1m
e)を加え、常温で3.5時間撹拌する。溶媒を減圧下
に留去し、残渣を水に溶解して、炭酸水素ナトリウム飽
和水溶液でpH3,0に調整する。この溶液を「ダイヤ
イオンHP−20」(100+++7りを使用するカラ
ムクロマトグラフィーに付す。カラムを水(500mf
りで洗浄後、30%メタノール水溶液で溶出する。目的
化合物を含む溶出液を集め、メタノールを減圧下に留去
し、凍結乾燥して、7−[2−メトキシイミノ−2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−アセトアミド] 
−3−(1,2,5,6−テトラヒドロ−l−ピリジル
)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体
)(1,55P)を得る。
2.67-2.35 (2H, m) Example 5 7-[2-methoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetamide]-3-(1,2,
5,6-tetrahydro-1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (2,53!9
') in methanol (15m), concentrated hydrochloric acid (1m
Add e) and stir at room temperature for 3.5 hours. The solvent is distilled off under reduced pressure, the residue is dissolved in water, and the pH is adjusted to 3.0 with saturated aqueous sodium bicarbonate solution. This solution is subjected to column chromatography using "Diaion HP-20" (100++7).
After washing with water, elute with 30% methanol aqueous solution. The eluate containing the target compound was collected, methanol was distilled off under reduced pressure, and lyophilized to give 7-[2-methoxyimino-2-(
2-aminothiazol-4-yl)-acetamide]
-3-(1,2,5,6-tetrahydro-l-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (1,55P) is obtained.

mp : 145〜150°C(分解)IR(ヌジョー
ル): 3300. 1775. 1660. 161
0゜1530σ−1 NMR(D20.δ): 7.00(IH,s)、6.
1−5.6(2H,m)。
mp: 145-150°C (decomposition) IR (nujol): 3300. 1775. 1660. 161
0°1530σ-1 NMR (D20.δ): 7.00 (IH, s), 6.
1-5.6 (2H, m).

5.90(IH,d、 J=5Hz)、5.22(IH
,d、 J=5H2)。
5.90 (IH, d, J=5Hz), 5.22 (IH
, d, J=5H2).

4.5(2H,H2Oのピークと重なる)、4.1−3
.9(2H,m)、4.0(3H,s)、3.1−3.
6(2H,m)。
4.5 (overlaps with 2H, H2O peak), 4.1-3
.. 9 (2H, m), 4.0 (3H, s), 3.1-3.
6 (2H, m).

3.5−3.3(2H,m)、2.6−2.3(2H,
m)実施例6 実施例5と同様にして、7−[2−メトキシイミノ−2
−(2−アミノチアゾール−4−イル)−アセトアミド
]−3−(1−メチル−1,2,5,6−テトラヒドロ
−1−ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)を得る。
3.5-3.3 (2H, m), 2.6-2.3 (2H,
m) Example 6 In the same manner as in Example 5, 7-[2-methoxyimino-2
-(2-aminothiazol-4-yl)-acetamide]-3-(1-methyl-1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio)methyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer ).

mp : 160〜165°C(分解)工R(ヌジョー
ル): 3300. 1750. 1660. 161
0゜1530cm’ NMR(D、0.δ): 7.00(IH,s)、6.
1−5.8(2H,m)。
mp: 160-165°C (disassembly) Engineering R (nujol): 3300. 1750. 1660. 161
0°1530cm' NMR (D, 0.δ): 7.00 (IH, s), 6.
1-5.8 (2H, m).

5.83(IH,d、 J=5Hz)、5.33(LH
,d、 J=5Hz)。
5.83 (IH, d, J=5Hz), 5.33 (LH
, d, J=5Hz).

5.50,5.30(2H,ABq、J−13Hz)、
4.14−3.9(2H。
5.50, 5.30 (2H, ABq, J-13Hz),
4.14-3.9 (2H.

m)、4.00(3H,s)、3.83(2H,br 
s)、3.65−3.40(2H,m)、3.00(3
H,s)、2.67−2.35(2H,m)実施例7 実施例5と同様にして下記化合物を得る。
m), 4.00 (3H, s), 3.83 (2H, br
s), 3.65-3.40 (2H, m), 3.00 (3
H, s), 2.67-2.35 (2H, m) Example 7 The following compound is obtained in the same manner as in Example 5.

(1)7−[2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド
]、−3−(1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリ
ジル)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異
性体)。
(1) 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-
1,2,4-thiadiazol-3-yl)acetamide], -3-(1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer).

mp:150〜155℃(分解) IR(ヌジョール): 3400. 3100. 17
60. 1670゜1600、 1530c+++−1 NMR(D20 + DCl、δ): 6.27−5.
5(2H,m)、5.90(IH,d、 J=4.5H
z)、5.37(IH,d、 J=4.5Hz)。
mp: 150-155°C (decomposition) IR (Nujol): 3400. 3100. 17
60. 1670°1600, 1530c+++-1 NMR (D20 + DCl, δ): 6.27-5.
5 (2H, m), 5.90 (IH, d, J=4.5H
z), 5.37 (IH, d, J=4.5Hz).

4.43(2H,q、 J=7Hz)、4.30(2H
,br e)、4.0−3.6(4H,br s)、3
.6−3.4(2H,m)、2.7−2.3(2H,m
)、1.36(3H,t、 J=7Hz)+217− 
[2−エトキシイミノ−2−(5−ア三ノー1.2.4
−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]−3−(
1−メチル−1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリ
ジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
(シン異性体)。
4.43 (2H, q, J=7Hz), 4.30 (2H
, br e), 4.0-3.6 (4H, br s), 3
.. 6-3.4 (2H, m), 2.7-2.3 (2H, m
), 1.36 (3H, t, J=7Hz) +217-
[2-ethoxyimino-2-(5-asanino 1.2.4
-thiadiazol-3-yl)acetamide]-3-(
1-Methyl-1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio)methyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer).

mp : 150〜155°C(分解)IR(ヌジョー
ル): 3300. 1770. 1660. 161
0゜1530cm’ NMR(D20.δ): 6.1−5.8(IH+m)
+ 5.93(IH,d。
mp: 150-155°C (decomposition) IR (nujol): 3300. 1770. 1660. 161
0°1530cm' NMR (D20.δ): 6.1-5.8 (IH+m)
+5.93 (IH, d.

J−5Hz )、5.83および5. sQ (2H,
ABq、 J=13T(z )。
J-5Hz), 5.83 and 5. sQ (2H,
ABq, J=13T(z).

5、4 5= 3 (I H+ m )、5.37 (
l Hld、J−5Hz )。
5, 4 5= 3 (I H+ m), 5.37 (
l Hld, J-5Hz).

4.37(2H,q+ J=7Hz)、4.0−3.8
(2H,m)。
4.37 (2H, q+ J=7Hz), 4.0-3.8
(2H, m).

3.7−3.4(2H,br e)、3.1−2.9(
2H,m)。
3.7-3.4 (2H, bre), 3.1-2.9 (
2H, m).

3.00(3H,s)、2.7−2.4(2H,m)。3.00 (3H, s), 2.7-2.4 (2H, m).

1.35(3H,t、J=7Hz)1.35 (3H, t, J=7Hz)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)一般式: (式中、R1はアミノまだは保護されたアミノ、R2け
低級脂肪族炭化水素基、 XはNまたはCHをそれぞれ意味する)で示される新規
セフェム化合物およびその塩。 2) R”がアミンまたは低級アルカノイルアミノ、お
よびR2が低級アルキル基である、特許請求の範囲第1
項記載の化合物、およびその第四級塩。 3)7−[2−エトキシイミノ−2−(5−アミ7−1
.2.4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]
 −3−(1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリジ
ル)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性
体)、 7−[2−メトキシイミノ−2−(2−ホルムアミドチ
アゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(1,2,
5,6−テトラヒドロ−1−ピリジル)メチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)、 7−[2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−アセトアミド]−3−(1、2,5,
6−テトラヒドロ−1−ピリジル)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(シンM性体)、7−[2−エトキ
シイミノ−2−(5−アミノ−1、2,4−チアジアゾ
ール−3−イル)アセトアミド]−3−(1−メチル−
1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリジニオ)メチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)、 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−ホルムアミドチ
アゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−(1−メチ
ル−1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリジニオ)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)、 7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセトチミドL−3−(1−メチル−1
,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリジニオ)メチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
、 7−[2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(1゜2、5.6
−テトラヒドロ−1−ピリジル)メチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体)、7−[2−メトキシ
イミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド]−3−(1−メチル−1,2,5,6−テト
ラヒドロ−1−ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレート(シン異性体)、 7−[2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1、2
,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]−3
−(1,2,5,6−テトラヒドロ−1−ピリジル)メ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)お
よび 7−[2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1、2
,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]−3
−(1−メチル−1,2,5,6−テトラヒドロ−1−
ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート(シンJl性体) よりなる群から選択された特許請求の範囲第2項記載の
化合物。 4) (1)式: (式中 R1はアミノまたは保護されたアミノ、R2は
低級脂肪族炭化水素基、 XはNまたはCHをそれぞれ意味する)で示される化合
物またはその塩を還元反応に付して、式: (式中、Hl、 R2およびXはそれぞれ前と同じ意味
で示される化合物またはその塩を得るか、(2)式: (式中、Hl、 R2およびXは前と同じ意味)で示さ
れる化合物またはその塩を、式:(式中、R3は低級ア
ルキル基、 Yは酸残基をそれぞれ意味する) で示される化合物と反応させて、式: (式中 Hl、 R2,R3およびXはそれぞれ前と同
じ意味) で示される化合物またはその塩を得るか、または1+l
? 。 (式中 HlおよびXはそれぞれ前と同じ意味であり、 R4は保護されたアミンを意味する) で示される化合物まだはその塩を、アミノ保護基の脱離
反応に付して、式: (式中 R11およびXはそれぞれ前と同じ意味)で示
される化合物またはその塩を得ることからなる一般式: c会中、R1,R2お1びXU前と同l−音昧)で示さ
れる新規セフェム化合物またはその塩の製造法。 5)一般式: (式中 R1はアミノまたは保護されたアミン、R2は
低級脂肪族炭化水素基、 XはNまたはCHをそれぞれ意味する)で示される新規
セフェム化合物またはその塩を有効成分とする医薬組成
物。
[Claims] 1) A novel cephem compound represented by the general formula: (wherein R1 is amino or protected amino, R2 is a lower aliphatic hydrocarbon group, and X is N or CH, respectively) and its salt. 2) Claim 1, wherein R'' is an amine or lower alkanoylamino, and R2 is a lower alkyl group.
Compounds described in Section 1, and quaternary salts thereof. 3) 7-[2-ethoxyimino-2-(5-ami7-1
.. 2.4-thiadiazol-3-yl)acetamide]
-3-(1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer), 7-[2-methoxyimino-2-(2-formamidothiazole- 4-yl)acetamido]-3-(1,2,
5,6-tetrahydro-1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer), 7-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)-acetamide]- 3-(1, 2, 5,
6-tetrahydro-1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn M form), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3- yl)acetamide]-3-(1-methyl-
1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio)methyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-methoxyimino-2-(2-formamidothiazol-4-yl) Acetamide]-3-(1-methyl-1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio)
Methyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetothymide L-3-(1-methyl-1
,2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio)methyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer)
, 7-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-(1°2, 5.6
-tetrahydro-1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer), 7-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-(1 -Methyl-1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridinio)methyl-3-cephem-4
-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-3-yl)acetamide]-3
-(1,2,5,6-tetrahydro-1-pyridyl)methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) and 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-3-yl)acetamide]-3
-(1-methyl-1,2,5,6-tetrahydro-1-
3. The compound according to claim 2, which is selected from the group consisting of: 4) Formula (1): (wherein R1 is amino or protected amino, R2 is a lower aliphatic hydrocarbon group, and X means N or CH, respectively) or a salt thereof is subjected to a reduction reaction. to obtain a compound or a salt thereof of the formula: (wherein Hl, R2 and X each have the same meanings as before, or (2) formula: (wherein Hl, R2 and ) or a salt thereof is reacted with a compound represented by the formula: (in the formula, R3 means a lower alkyl group and Y means an acid residue, respectively) to form a compound represented by the formula: (in the formula, Hl, R2, R3 and X each have the same meaning as before) or a salt thereof, or 1+l
? . (In the formula, Hl and X each have the same meaning as before, and R4 means a protected amine.) A compound represented by the formula or a salt thereof is subjected to an amino-protecting group elimination reaction to obtain the formula: ( A novel compound represented by the general formula (in which R11 and X each have the same meaning as before) or a salt thereof: A method for producing a cephem compound or its salt. 5) The active ingredient is a novel cephem compound represented by the general formula: (wherein R1 is an amino or protected amine, R2 is a lower aliphatic hydrocarbon group, and X is N or CH, respectively) or a salt thereof. Pharmaceutical composition.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5353690A (en) * 1976-10-01 1978-05-16 Glaxo Lab Ltd Production of antiibacterial compound
JPS584789A (en) * 1981-04-03 1983-01-11 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound, its preparation, preventive and remedy for microbism
JPS58174387A (en) * 1982-03-04 1983-10-13 Bristol Mayers Kenkyusho Kk Chemical compound

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