JPS60217676A - イオンレ−ザ装置 - Google Patents
イオンレ−ザ装置Info
- Publication number
- JPS60217676A JPS60217676A JP7343584A JP7343584A JPS60217676A JP S60217676 A JPS60217676 A JP S60217676A JP 7343584 A JP7343584 A JP 7343584A JP 7343584 A JP7343584 A JP 7343584A JP S60217676 A JPS60217676 A JP S60217676A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refrigerant
- pressure
- power supply
- laser
- comparison circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Lasers (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明に属する分野
この発ＥＪＡは、レーザ発振器および電源で発生する熱
を循環式の冷却方式により吸収し、冷却するイオンに一
ザ装置に関するものである。
を循環式の冷却方式により吸収し、冷却するイオンに一
ザ装置に関するものである。
（２）従来の技術
イオンレーザ装置は、大電流アーク放電によるレーザ媒
質のイオン化および、励起により、レーザ発振させてい
るために、非常に膨大な熱が発生する。したがって、動
作中は常に熱容量が大ぎく熱吸収のよい十分な量の冷媒
により、冷却されなければならす、もし、冷却が十分に
行われない場合ね、レーザ発振器および電源が過熱し、
それらの破損、破壊、最悪の場合は火災燃上という事態
を召く恐れがある。
質のイオン化および、励起により、レーザ発振させてい
るために、非常に膨大な熱が発生する。したがって、動
作中は常に熱容量が大ぎく熱吸収のよい十分な量の冷媒
により、冷却されなければならす、もし、冷却が十分に
行われない場合ね、レーザ発振器および電源が過熱し、
それらの破損、破壊、最悪の場合は火災燃上という事態
を召く恐れがある。
従来のこの種のイオンレーザ装置は加圧ポンプが、レー
ザ電源の電源と、別に取られる場合にレーザ側の電源は
確実に供給されているのに、加圧ボング側の電源がＯＦ
Ｆになり、加圧ポンプが動作しないとか、冷媒と循環
させるパイプが伺らがの原因で詰まる、または弁が閉じ
る等により、冷媒が供給されずにレーザ発振器および電
源が過熱し、レーザ製筒の破損等を召いていた。
ザ電源の電源と、別に取られる場合にレーザ側の電源は
確実に供給されているのに、加圧ボング側の電源がＯＦ
Ｆになり、加圧ポンプが動作しないとか、冷媒と循環
させるパイプが伺らがの原因で詰まる、または弁が閉じ
る等により、冷媒が供給されずにレーザ発振器および電
源が過熱し、レーザ製筒の破損等を召いていた。
（３）発明の目的
本発明は、これらの欠点を解消するために、ポンプの原
動機の回転数とレーザ発振器および電源に加わる冷媒の
圧力により冷媒が適正に循環さね熱発生部が冷却されて
いるかどうかを判断し、冷却不十分ならレーザ電源をＯ
ＦＦするようにしたものである。
動機の回転数とレーザ発振器および電源に加わる冷媒の
圧力により冷媒が適正に循環さね熱発生部が冷却されて
いるかどうかを判断し、冷却不十分ならレーザ電源をＯ
ＦＦするようにしたものである。
（４）発明の構成および作用
図は、本発明の１実施例であって、［ル−サ発振器、２
は、レーザ管、３柑レーザ電源、４す、冷却器、５は、
タンク、６は加圧ポンプ、７は、加圧ポンプの原動様の
回転数ＶＣ比的した？ｌ、気信号を出力する回転側、８
は回転計の出力を基４！情号と比較し、ある回転数以下
になっていることを検知して出力信号を出す比較回路、
９は冷媒の圧力に比例した電気信号を出力する圧力計、
１０．１１は圧力計より出力された電気信号を基準（ｉ
号と比較し、ｌＯがある圧力以上になったことを検知し
て、出力信号を出し、１１が、ある圧力以下になったこ
とを検知して出力信号を出す比較回路で、１２は、８，
１０．１１の比較回路の出力を受けて、どれか、１つで
も比較回路が出力信号を出していると直ちに、電源３を
ＯＦＦする駆動回路であり、１３は、冷媒を循環させる
バイブ笠で１４は、冷媒の流れる向きである。
は、レーザ管、３柑レーザ電源、４す、冷却器、５は、
タンク、６は加圧ポンプ、７は、加圧ポンプの原動様の
回転数ＶＣ比的した？ｌ、気信号を出力する回転側、８
は回転計の出力を基４！情号と比較し、ある回転数以下
になっていることを検知して出力信号を出す比較回路、
９は冷媒の圧力に比例した電気信号を出力する圧力計、
１０．１１は圧力計より出力された電気信号を基準（ｉ
号と比較し、ｌＯがある圧力以上になったことを検知し
て、出力信号を出し、１１が、ある圧力以下になったこ
とを検知して出力信号を出す比較回路で、１２は、８，
１０．１１の比較回路の出力を受けて、どれか、１つで
も比較回路が出力信号を出していると直ちに、電源３を
ＯＦＦする駆動回路であり、１３は、冷媒を循環させる
バイブ笠で１４は、冷媒の流れる向きである。
この様々構成に々っているので、その効果としては、加
圧ポンプ６が停止するか、加圧ポンプ６が正常に動作し
ていても、圧力計９からタンク５０間で、冷媒の流れを
妨げるものがあると、圧力言１９の出力信号ケま大きく
なり、そＡｋ比軟回路１０が検出し、また、タンク５と
圧力計９の間に流れを妨げるものがあると、圧力側９の
出力信号は小さくなり、それケ比較回路１１が検出し、
それぞれ電源３をＯＦＦする様な作用ケするので、発振
器ｌとくにレーザ管２および電源３の過熱を防止するこ
とができる。
圧ポンプ６が停止するか、加圧ポンプ６が正常に動作し
ていても、圧力計９からタンク５０間で、冷媒の流れを
妨げるものがあると、圧力言１９の出力信号ケま大きく
なり、そＡｋ比軟回路１０が検出し、また、タンク５と
圧力計９の間に流れを妨げるものがあると、圧力側９の
出力信号は小さくなり、それケ比較回路１１が検出し、
それぞれ電源３をＯＦＦする様な作用ケするので、発振
器ｌとくにレーザ管２および電源３の過熱を防止するこ
とができる。
（５）効果の説明
以上説明した様に、冷媒の流れが停止または減少し、正
常な冷却がなされなくなると直ちに、レーザ電源をＯＦ
Ｆするので、大電流アーク放霜によるレーザ管の過熱等
を防止し、レーザ装−の破損等を避けることができる。
常な冷却がなされなくなると直ちに、レーザ電源をＯＦ
Ｆするので、大電流アーク放霜によるレーザ管の過熱等
を防止し、レーザ装−の破損等を避けることができる。
また、冷媒が流れなくなり、レーザ管付近の冷媒の加熱
沸騰により、循環系の内圧が大きくなってもタンク５内
の冷媒の水位（（増すことによ−、て圧力増加分を逃し
また再び正常に循環し、Ｐ”Ｉ圧が低下してきても、自
動的に、冷媒が補給されるために、人為的に冷媒を＠給
する必要がない。
沸騰により、循環系の内圧が大きくなってもタンク５内
の冷媒の水位（（増すことによ−、て圧力増加分を逃し
また再び正常に循環し、Ｐ”Ｉ圧が低下してきても、自
動的に、冷媒が補給されるために、人為的に冷媒を＠給
する必要がない。
図線１本装置の栴成図である。
１・・・・・・レーザ発振器、２・・・・・・レーザ管
、３・・・・・・レーザ笥、源、４・・・・・・冷却器
、５・・・・・・タンク、６・・・加圧ポンプ、７・・
・・・・回転計、８・・・・・・回転計用の比較回路、
９・・・・・・圧力針、１０・・・・・・圧力計（高圧
ＩＩＩ ）用の比較回路、１１・・・・・・圧力ｎ１（
低圧１１１ｔｌ ｉ用の比較回路、１２・・・・・・電
源をＯＦＦする駆動回路、１３・・・・・・パイプ。
、３・・・・・・レーザ笥、源、４・・・・・・冷却器
、５・・・・・・タンク、６・・・加圧ポンプ、７・・
・・・・回転計、８・・・・・・回転計用の比較回路、
９・・・・・・圧力針、１０・・・・・・圧力計（高圧
ＩＩＩ ）用の比較回路、１１・・・・・・圧力ｎ１（
低圧１１１ｔｌ ｉ用の比較回路、１２・・・・・・電
源をＯＦＦする駆動回路、１３・・・・・・パイプ。
Claims (1)
- 大電流アーク放電によりレーザ媒質を励起し、レーザ発
振させる発振器と、それを駆動するための電源と、発振
器および電源で発生する熱を眼状し、それらを冷却する
冷媒と、熱を奪い高温になった冷媒を冷却するに十分な
容量を持つ冷却器と７冷媒を一時貯えるタンクと冷却器
により冷却された冷媒を再び発振器および電源に送り込
む加圧ポンプと、その原動機の回転数に比例した電気信
号を出力する回転計と、圧力に比例した電気信号を出力
する圧力計と、回転側および圧力計より出力された信号
を基準信号と比較する比較回路と、比較回路より出力さ
れた信号により、上記電源をＯＦＦする駆動回路を具備
するイオンレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7343584A JPH0248150B2 (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | Ionreezasochi |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7343584A JPH0248150B2 (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | Ionreezasochi |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60217676A true JPS60217676A (ja) | 1985-10-31 |
| JPH0248150B2 JPH0248150B2 (ja) | 1990-10-24 |
Family
ID=13518159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7343584A Expired - Lifetime JPH0248150B2 (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | Ionreezasochi |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248150B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109663214A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-04-23 | 武汉奇致激光技术股份有限公司 | 一种准分子治疗仪冷却系统结构及其控制方法 |
-
1984
- 1984-04-12 JP JP7343584A patent/JPH0248150B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109663214A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-04-23 | 武汉奇致激光技术股份有限公司 | 一种准分子治疗仪冷却系统结构及其控制方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0248150B2 (ja) | 1990-10-24 |
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