JPS602171Y2 - エチレンオキサイドの製造装置 - Google Patents

エチレンオキサイドの製造装置

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JPS602171Y2
JPS602171Y2 JP5475679U JP5475679U JPS602171Y2 JP S602171 Y2 JPS602171 Y2 JP S602171Y2 JP 5475679 U JP5475679 U JP 5475679U JP 5475679 U JP5475679 U JP 5475679U JP S602171 Y2 JPS602171 Y2 JP S602171Y2
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reactor
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ethylene oxide
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preheating
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JP5475679U
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カルロ・キユルタレリ
ブルノ・デマグリ
アルベルト・サラ
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スナム・プロゲッチ・エス・ペ−・ア−
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、酸素あるいは酸素含有ガスによる有機化合物
の気相における部分酸化法要実施するに適する装置に関
する。
さらに詳述すれば、本考案は、エチレンを酸素または酸
素含有ガスにより気相において部分酸化してエチレンオ
キサイドを生皮する酸化反応を実施するに適する装置に
関する。
本考案を明確にするために、エチレンオキサイドを生皮
するエチレンの酸素または酸素含有ガスによる部分酸化
反応について限定して以下記述するが、本考案による装
置は他のいかなる部分酸化反応を行なう場合にも応用で
きる。
エチレンおよび酸素または酸素含有ガスを原料とするエ
チレンオキサイドの製法は第1図に示すような装置によ
り実施されることは公知である。
反応は管群でなる反応器1で行なわれる。
触媒はこれら管の中に充填されている。
反応熱を除去するために、熱交換流体が反応器シェル内
を循環している。
この流体は熱交換器2において冷却され、その際水蒸気
が生皮される。
流体を循環させるためにポンプ3が使用される。
熱交換流体が液相に維持される場合にも上記の装置が使
用できる。
蒸発する流体を使用する場合には、重力循環のためポン
プ3は省略できる。
このような蒸発する流体としては水が使用できる。
この場合、熱交換器2も省略でき、反応器1のシェル内
で直接水熱気が生皮される。
反応器を出る生皮ガスは、熱交換器4において、この反
応器に供給される原料ガスを加熱する。
ついで、生皮ガスは吸収塔5に供給され、この塔におい
て、エチレンオキサイドが適当な溶媒10(一般的には
水、しかし必ずしも水でなくてもよい。
)によって吸収される。エチレンオキサイドが吸収され
た後のガスをコンプレッサ6により反応器1に再循環す
る。
原料、すなわちエチレンおよび酸化剤(空気あるいは酸
素)はそれぞれライン7および8を介して供給される。
原料とともに入った不活性ガスの蓄積を防止するため、
ライン9を介して少量のガスを排出する。
空気が供給される装置では、排出ガス中に含まれるエチ
レンは上記の部材に類似した補助部材に供給される。
また酸素が供給される装置では、二酸化炭素を吸収する
ための部材がサイクル中に組込まれる。
熱交換器2および4は、この従来法においては必須の部
材である。
実際、熱交換器2における水蒸気の生皮は、生皮した水
蒸気をこの装置自体で必要なエネルギを生皮するために
使用でき、またバッテリの使用を不必要なものとするた
め、装置の経済性にとって無視できない特徴である。
熱交器4も、反応器に供給されるガスを加熱するための
熱を回収するという点で重要な部材である。
゛しかしながら、熱交換器4が存在するため、反応に供
される原料は、この熱交換器から反応器入口までの管内
を流動する間中高温状態にある。
その結果、原料混合物中の酸素含量は前記温度における
発火限界に相当する濃度以下、すなわち、高くても約7
ないし8%以下でなければならない。
したがって、従来法によれば、原料混合物は反応器を出
る反応混合物により適当な熱交換器において予熱された
後、可能な最高温度で反応器に供給される。
このように操作する場合には1、反応が発熱反応である
ため、反応熱を利用することにより最多量の水蒸気を生
皮できる竺この方法ではく前記した如く鵠爆発の危険が
あるため、“反応器へ入る混合ガス中の酸素濃度が低い
場合にのみ可能である。
したがって、反応器を出る混合物中の所望の含酸素化合
物(エチレンオキサイド)の含量は低く、それ故、多量
のエチレンオキサイドを生皮したい場合には大きな反応
器が必要となり、さらに循環するガスの流量を大きくシ
、シかもガスを圧縮しなければならず、さらに含酸素化
合物を回収する部材も高価なものとなる。
考案者等は、反応域に近接しかつ反応域の上流側の部位
において、熱流体との熱交換によって、エチレンおよび
高濃度酸素の原料混合ガスの加熱を行なうことにより、
反応器入口における酸素濃度を非常に高くすることがで
き、それにより上記光転を除去することを見出し本考案
に至った。
本考案の目的は、管群をその両端で板部材により支持す
るとともに、該管群をシェルで囲繞し、前記板部材にそ
れぞれ底部材を固着してなる反応器と、前記板部材、前
記管群の外面および前記シェルの内壁により限定される
シェル内空間を循環する熱媒体を介して反応熱を除去す
る反応熱除去手段と、前記反応器を出る反応生成ガスの
熱を利用して前記反応器に供給される原料ガスを予熱す
る予熱手段と、前記反応生成ガスからエチレンオキサイ
ドを回収するエチレンオキサイド回収手段とを包含する
エチレンの部分酸化によってエチレンオキサイドを製造
するための装置において、仕切部材によって前記ジェル
内空間を少なくとも2つの区域に分画し、これら区域の
うちの該反応器の入口側の区域に相当する管群内に不活
性物質を充填して予熱域とするとともに、次の区域に相
当する管群内に触媒を充填して反応域とし、該反応域に
供給される原料ガスを、該反応域に入る直前の前記予熱
域で、□前記反応器を出る反応生成ガスの熱を利用して
予熱するようにしたことを特徴とするエチレンオキサイ
ドの製造装置を提供することになる。
次に、本考案のエチレンオキサイドの製造装置について
、第2図ないし第6図を参照して詳述するが、本考案は
とれらに限定されない。
本考案のエチレンオキサイド製造装置の1具体例を示す
第3図によれば、□かかる装置は、2つの板部材23.
24にその両端が接続されている管群21と、この管群
を囲繞するシェル22と、板部材にそれぞれフラジジ止
めまたは溶接された底部材25.26とで構成される反
応器20を包含する。
シェル22.2つの板部材23,24および管群21の
外面で限定されるシェル内空間は2つの仕切部材27.
28により3つの区域29゜30.31に区画されてい
る。
これら区域のうち、中央の区域は反応区域30で、この
区域に相当する管群内にはエチレン酸化用触媒が充填さ
れている。
反応器の入口に近い区域、すなわち反応区域の上流側は
予熱区域29であり、この区域に相当する管群内には、
不活性物質が充填されている。
反応域の下流側の区域は冷却区域31で、この区域に相
当する管群内にも、予熱区域と同様、不活性物質が充填
されている。
これら予熱区域と冷却区域との間は、ポンプ32を介し
て循環する熱媒体により連通されており、反応後に得ら
れた反応生成ガスが有する熱を冷却区域において回収し
、反応に供されるエチレンおよび酸素または酸素含有ガ
スの原料混合物の予熱を予熱区域で行なう際にこの熱を
利用する。
なお、反応区域30は従来法と同様、ポンプ33により
循環する熱交換流体を介して熱交換器34と接続されて
おり、反応により発生する熱の回収が行なわれ、水蒸気
35が生皮される。
第2図は、第3図における管群を構成する1本の管を示
しており、仕切部材により形成される3つのシェル内空
間に相応して、中央部には触媒が充填されて反応区域3
7が形成され、その下方および上方の域には不活性物質
が充填され、それぞれ予熱域36、冷却域38が形成さ
れている。
この不活性物質としては、小さな円筒状、小球状、ラー
シツヒリング、あるいは他の形状を有する充填材がある
なお、これが充填される予熱域37および冷却域38に
おける非占有空間はいずれの場合にも、好ましくは50
%以下であり、充填体1つの最大サイズと管の内径との
間の割合は0、積上であってはならず、好ましくは0.
30ないし0.06である。
このように構成される反応器を包含する第3図のエチレ
ンオキサイド製造装置の作動について述べる。
ライン39を介して一般に室温で送られる原料ガスは、
底部材25から反応器20に入り、管群の予熱域36を
通過する際に、シェル内の予熱区域29を循環する熱媒
体により、所望の温度(100ないし300°C1好ま
しくは180ないし220°C)に予熱される。
予熱された原料ガス混合物は反応域37に入り、触媒の
存在下で反応してエチレンオキサイドを生皮する。
得られたエチレンオキサイドおよび未反応のガスは冷却
域38に入り、シェル内の冷却区域31を循環する熱媒
体によって150℃以下に冷却され、これにより、熱が
回収され、この熱が原料ガスの予熱に利用される。
その後、エチレンオキサイドおよび未反応ガスは、従来
法と同様、エチレンオキサイド吸収塔40に送られ、こ
こで溶媒41によりエチレンオキサイドが吸収、採取さ
れる。
溶媒により吸収されなかったガスは塔頂留分として塔か
ら取出され、一部はライン42を介して塔から排出され
、一部は、コンプレッサ43により、新たな原料、すな
わちエチレン44および酸素45が加えられたのち、ラ
イン39を介して反応器20に再供給される。
第4図および第5図は他の具体例を示すものであり、こ
れによれば、反応器50のシェル内空間は唯一つの仕切
部材51により2つの区域に区画され、反応器の入口側
が予熱区域52で、相当する管群内には前述の不活性物
質が充顛されており(予熱域58(第4図参照))、他
の区域は反応区域53で、これに相当する管群内には触
媒が充填されている(反応域59(第4図参照))。
この装置では反応器の出口から吸収塔55まで反応生成
物および未反応ガスを供給するライン56内に熱交換器
54が設けられている。
この熱交換器は前記シェル内の予熱区域52と連通し、
ポンプ57を介して熱媒体が循環しており、反応生成ガ
スが有する熱を回収して、原料ガスの予熱に利用される
このように、本考案による装置では、予熱区域が反応区
域と一体に形成されるとともに、予熱区域が反応区域の
直前に設けられた構造となっているため、たとえ原料ガ
ス中の酸素または酸素含有ガスの濃度を高くしても、予
熱が反応域直前で行なわれるため、予熱されたまま高温
度で反応域まで送られる従来例と比べて、爆発の危険性
が少ない。
第6図は、さらに他の具体例を示す。
この装置では、反応器60のシェル内は2つの仕切部材
61.62により区画され、形成されたシェル内空間の
3つの区域うち、予熱区域および冷却区域が同様の複数
個(図面では3枚)の仕切部材61a〜61c、62a
〜62cを用いて、さらに同数の区域に区画されるとと
もに、細かく区分された予熱区域および冷却区域がそれ
ぞれ設けられたボンを介して循環される熱媒体によって
連通しており、細かく区画された区域の数に応じて独立
した熱循環ループが形成されている。
これにより、予熱区域において反応域に近ずくにつれて
原料ガスの温度が徐々に高められるため、酸素または酸
素喰有ガスが高濃度であっても、爆発の危険がさらに低
下される。
次に本考案の装置を実際に使用した具体例について述べ
る。
第3図に示す装置を使用し、異なる3種の混合ガスにつ
いて実験を行なった。
供給した混合ガスの組成、反応条件および得られた結果
を次表に示している。
本考案は上記の如くであるが、本考案の精神を逸脱する
ことなく幾多の変化変更をなすことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の気相における有機化合物の部分酸化法の
実施に適する装置を示す図、第2図は本考案による装置
の反応器を構成する管を示す図、第3図は本考案による
部分酸化法を実施するに適する装置の1具体例を示す図
、第4図ないし第6図は本考案による装置の他の具体例
を示す図である。 1、20.50.60・・・・・・反応器、2,34・
・・・・・熱交換器、3,33・・・・・・ポンプ、4
・・・・・・熱交換器、5.40. 55・・・・・・
吸収塔、6,43・・・・・・コンプレッサ、7・・・
・・・エチレン、8・・・・・・酸素、10.41・・
・・・・溶媒、21・・・・・・管群、22・・・・・
・シェル、23,24・・・・・・板部材、25,26
・・・・・・底部材、27.2B、51,61,61a
〜61c。 62.62a〜62c・・・・・・仕切部材、29,5
2・・・・・・予熱区域、30・・・・・・反応区域、
31・・・・・・冷却区域、36,58・・・・・・予
熱域、37,59・・・・・・反応域、54・・・・・
・熱交換器。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 管群をその両端で板部材により支持するとともに、該管
    群をシェルで囲繞し、前記板部材にそれぞれ底部材を固
    着してなる反応器と、前記板部材、前記管群の外面およ
    び前記シェルの内壁により限定されるシェル内空間を循
    環する熱媒体を介して反応熱を除去する反応熱除去手段
    と、前記反応器を出る反応生成ガスの熱を利用して前記
    反応器に供給される原料ガスを予熱する予熱手段と、前
    記反応生成ガスからエチレンオキサイドを回収するエチ
    レンオキサイド回収手段とを包含するエチレンオキサイ
    ド回収手段とを包含するエチレンの部分酸化によってエ
    チレンオキサイドを製造するための装置において、仕切
    部材によって前記シェル内空間を少なくとも2つの区域
    に分画し、これら区域のうちの該反応器の入口側の区域
    に相当する管群内に不活性物質を充填して予熱域とする
    とともに、次の区域に相当する管群内に触媒を充顛して
    反応域とし、該反応域に供給される原料ガスを、該反応
    域に入る直前の前記予熱域で、前記反応器を出る反応生
    成ガスの熱を熱媒体を介して利用して予熱するようにし
    たことを特徴とする、エチレンオキサイドの製造装置。
JP5475679U 1979-04-25 1979-04-25 エチレンオキサイドの製造装置 Expired JPS602171Y2 (ja)

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JPS55782U JPS55782U (ja) 1980-01-07
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