JPS6020221A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPS6020221A
JPS6020221A JP58127650A JP12765083A JPS6020221A JP S6020221 A JPS6020221 A JP S6020221A JP 58127650 A JP58127650 A JP 58127650A JP 12765083 A JP12765083 A JP 12765083A JP S6020221 A JPS6020221 A JP S6020221A
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JP
Japan
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voltage
circuit
signal
semiconductor integrated
clear
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Application number
JP58127650A
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Japanese (ja)
Inventor
Noburo Tanimura
谷村 信朗
Tsuratoki Ooishi
貫時 大石
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a voltage detection circuit which detects between the first voltage, where power voltage is greater than lower-operating voltage of the internal circuit, and the second voltage greater in absolute value than the first, and form clear signals of the internal circuit by the output signals of the said second voltage. CONSTITUTION:The voltage detection circuit-A is the first voltage comparator having the voltage-V1 greater than a lower-limit actuating point of the internal circuit as reference voltage. The circuit-A is also the second voltage comparator where the voltage comparator-B has the voltage-V2, greater in absolute value than the voltage-V1, as reference voltage. The comparators A and B both make a voltage comparison between power voltage-VDD and reference voltages V1, and V2, and form H-level signals when the voltage-VDD becomes greater than V1 and V2. The output of the detection circuit-A is inputted in a set terminal S of FF, and the detection circuit-B is inputted in a reset terminal R of FF. The clear signals of the circuit unmentioned in the figure are outputted from the output terminal Q of FF, and peripheral equipment is set into initial state, thereby facilitating the clear during power making.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、半導体集積回路装置に関するもので、例え
ば、アドレス信号の遷移を検出して内部動作に必要なタ
イミング信号を形成する内部同期式のCMOSスタティ
ック型RAMに有効な技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and for example, an internally synchronized CMOS static type device that detects the transition of an address signal and forms a timing signal necessary for internal operation. It relates to technology effective for RAM.

〔背景技術〕[Background technology]

本願発明者等においては、外部からのアドレス信号の変
化タイミングを検出して、その内部動作のタイミング制
御に用いる内部同期式のスタティック型RAM (ラン
ダム・アクセス・メモリ)を既に開発した。
The inventors of the present invention have already developed an internally synchronized static RAM (Random Access Memory) that detects the change timing of an external address signal and uses it to control the timing of internal operations.

このような内部同期式のスタティック型RAMにおいて
は、電源電圧投入直後において次のような欠点の生じる
ことが本願発明者によって見い出された。すなわち、電
源投入後、内部回路が動作可能となるときにアドレス信
号が既に固定レベルになっている場合、アドレス信号の
変化できないため、メモリ動作は不能となってしまう。
The inventor of the present invention has discovered that in such an internally synchronized static RAM, the following drawback occurs immediately after the power supply voltage is turned on. That is, if the address signal is already at a fixed level when the internal circuit becomes operational after the power is turned on, the address signal cannot be changed and the memory operation becomes impossible.

そこで、本願発明者は、電源投入時に自動的にクリア動
作を行う機能を設けることを考えた。この場合、電源電
圧の立ち上がりを微分回路等の時定数回路によって検出
しようとすると、その立ち上がりが遅い場合には、その
検出信号が得られないという問題が生じる。
Therefore, the inventor of the present application considered providing a function to automatically perform a clearing operation when the power is turned on. In this case, if an attempt is made to detect the rise of the power supply voltage using a time constant circuit such as a differentiating circuit, a problem arises in that a detection signal cannot be obtained if the rise is slow.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、簡単な回路構成により電源投入時の
オートクリア機能を持つ半導体集積回路装置を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device having an auto-clear function when power is turned on with a simple circuit configuration.

この発明の他の目的は、電源投入後、外部信号の変化が
な(でも直ちに動作可能となる半導体集積回路装置を提
供することにある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device that can operate immediately after power is turned on without any change in external signals.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
[Summary of the Invention] A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、電源電圧の変化が内部回路の動作下限電圧以
上に設定された第1の電圧から絶対値的にそれより大き
な第2の電圧の間に達する間を検出する電圧検出回路を
設けて、その出力信号により内部回路のクリア信号を形
成する回路を設けるものである。
In other words, a voltage detection circuit is provided to detect when a change in the power supply voltage reaches between a first voltage set at or above the operating lower limit voltage of the internal circuit and a second voltage that is larger in absolute value. A circuit is provided that forms a clear signal for the internal circuit based on the output signal.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明の一実施例の回路図が示されてい
る。特に制限されないが、同図のRAMは、公知の0M
O3(相補型−金属一絶縁物一半導体)集積回路(IC
)技術によって1個のシリコン単結晶のような半導体基
板上に形成される。
FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of the present invention. Although not particularly limited, the RAM in the figure is a well-known 0M RAM.
O3 (complementary-metal-insulator-semiconductor) integrated circuit (IC)
) technology on a semiconductor substrate such as a silicon single crystal.

端子Ax、Ay、Din、Dout 、WE及びcsは
、その外部端子とされる。なお、同図において電源供給
端子は省略されている。
The terminals Ax, Ay, Din, Dout, WE and cs are its external terminals. Note that the power supply terminal is omitted in the figure.

メモリセルMCは、その1つの具体的回路が代表として
示されており、ゲートとドレインが互いに交差結線され
た記憶MO5FETQ1.Q2と、上記MO3FETQ
I、Q2のドレインと電源電圧VDDとの間には、情報
保持用のポリ(多結晶)シリコン層で形成された高抵抗
R1,R2が設けられている。そして、上記MO3FE
TQ1.Q2の共通接続点と相補データ線DO,DOと
の間に伝送ゲー)MO5FETQ3.Q4が設けられい
てる。他のメモリセルMCも相互において同様な回路構
成にされている。これらのメモリセルは、マトリックス
状に配置されている。同じ行に配置されたメモリセルの
伝送ゲート型MOS F ETQ3、Q4等のゲートは
、それぞれ対応するワード線wi及びW2に共通に接続
され、同じ列に配置されたメモリセルの入出力端子は、
それぞれ対応する一対の相補データ(又はビット) D
O,D。
One specific circuit of the memory cell MC is shown as a representative, and includes a memory MO5FETQ1 . Q2 and the above MO3FETQ
High resistances R1 and R2 formed of a polysilicon layer for retaining information are provided between the drains of I and Q2 and the power supply voltage VDD. And the above MO3FE
TQ1. A transmission gate) MO5FETQ3. is connected between the common connection point of Q2 and the complementary data lines DO, DO. Q4 is provided. Other memory cells MC also have similar circuit configurations. These memory cells are arranged in a matrix. The gates of the transmission gate type MOS FETs Q3, Q4, etc. of the memory cells arranged in the same row are commonly connected to the corresponding word lines wi and W2, respectively, and the input/output terminals of the memory cells arranged in the same column are
A pair of complementary data (or bits) D
O,D.

及びDl、DIに接続される。and connected to Dl and DI.

上記メモリセルMCにおいて、それを低消費電力にさせ
るため、その抵抗R1は、MO3FETQ1がオフ状態
にされているときのM OS F E TQ2のゲート
電圧をしきい値電圧以上に維持させることができる程度
の高抵抗値にされる。同様に抵抗R2も高抵抗値にされ
る。言い換えると、上記抵抗R1は、MO3FETQI
のドレインリーク電流によってMO3FETQ2のゲー
ト容量(図示しない)に蓄積されている情報電荷が放電
させられてしまうのを防ぐ程度の電流供給能力を持つよ
うにされる。
In the above memory cell MC, in order to make it consume low power, the resistor R1 can maintain the gate voltage of the MOSFETQ2 above the threshold voltage when the MO3FETQ1 is turned off. The resistance value is set to a certain level. Similarly, the resistor R2 is also made to have a high resistance value. In other words, the resistor R1 is the MO3FETQI
The MO3FET Q2 is designed to have a current supply capability sufficient to prevent the information charges stored in the gate capacitance (not shown) from being discharged due to the drain leakage current of the MO3FETQ2.

この実施例に従うと、RAMが0MO3−IC技術によ
って製造されるにもかかわらず、上記のようにメモリセ
ルMCはnチャンネルMO3FETとポリシリコン抵抗
素子とから構成される。
According to this embodiment, although the RAM is manufactured by OMO3-IC technology, the memory cell MC is composed of an n-channel MO3FET and a polysilicon resistance element as described above.

上記ポリシリコン抵抗素子に代えてpチャンネルMOS
 F ETを用いる場合に比べ、メモリセル及びメモリ
アレイの大きさを小さくできる。すなわち、ポリシリコ
ン抵抗を用いた場合、駆動MO3FETQI又はQ2の
ゲート電極と一体的に形成できるとともに、それ自体の
サイズを小型化できる。そして、pチャンネルMO3F
ETを用いたときのように、駆動MO3FETQ1.Q
2から比較的大きな距離を持って離さなければならない
ことがないので無駄な空白部分が生じない。
p channel MOS instead of the above polysilicon resistance element
The size of the memory cell and memory array can be made smaller than when FETs are used. That is, when a polysilicon resistor is used, it can be formed integrally with the gate electrode of the driving MO3FET QI or Q2, and the size of the resistor itself can be reduced. And p channel MO3F
As when using ET, the driving MO3FETQ1. Q
Since there is no need to separate it by a relatively large distance from 2, no wasted blank space is generated.

同図において、ワード線W1は、XアドレスデコーダX
−DCRで形成された選択信号を受ける駆動回路DVI
によって選択される。他のワード線W2についても同様
である。
In the figure, the word line W1 is connected to the X address decoder
- Drive circuit DVI that receives the selection signal formed by DCR
selected by The same applies to the other word line W2.

上記XアドレスデコーダX−DCRは、相互において類
似のノアゲート回路Gl、G2等により構成される。こ
れらのノアゲート回路G1.G2等の入力には、図示し
ない適当な回路装置から供給される外部アドレス信号A
Xを受けるXアドレスバッフ1X−ADBで加工された
内部相補アドレス信号上0〜atが所定の組合せにより
印加される。なお、この実施例では、非反転アドレス信
号aO〜atと反転アドレス信号10〜atとを合わせ
てアドレス信号aO〜alのように表現するものである
The X-address decoder X-DCR is composed of mutually similar NOR gate circuits Gl, G2, etc. These NOR gate circuits G1. An external address signal A is supplied to inputs such as G2 from an appropriate circuit device (not shown).
0 to at are applied in a predetermined combination to the internal complementary address signal processed by the X address buffer 1X-ADB which receives X. In this embodiment, the non-inverted address signals aO-at and the inverted address signals 10-at are combined and expressed as address signals aO-al.

上記メモリアレイにおける一対のデータi!lDo。A pair of data i! in the above memory array! IDo.

五〇及びDI、DIは、それぞれデータ線選択のための
伝送ゲートMO8FETQ9.QIO及びQll、G1
2から構成されたカラムスイッチ回路を介してコモンデ
ータ線CD、CDに接続される。このコモンデータ線C
D、CDには、読み出し回路DOBの入力端子と、書込
み回路DIRの出力端子が接続される。上記読み出し回
路DOBの出力端子は、データ出力端子Doutに読み
出し信号を送出し、書込み回路DIBの入力端子は、デ
ータ入力端子Dinから供給される書込みデータ信号が
印加される。
50, DI, and DI are transmission gates MO8FETQ9. and DI for data line selection, respectively. QIO and Qll, G1
It is connected to the common data lines CD, CD through a column switch circuit composed of two. This common data line C
The input terminal of the read circuit DOB and the output terminal of the write circuit DIR are connected to D and CD. The output terminal of the read circuit DOB sends a read signal to the data output terminal Dout, and the input terminal of the write circuit DIB is applied with a write data signal supplied from the data input terminal Din.

上記カラムスイッチ回路を構成するMOSFETQ9.
QIO及びQll、G12のゲートには、それぞれYア
ドレスデコーダY−DCRから選択信号が供給される。
MOSFETQ9 that constitutes the above column switch circuit.
A selection signal is supplied to the gates of QIO, Qll, and G12 from the Y address decoder Y-DCR, respectively.

このYアドレスデコーダY−DCRは、相互において類
似のノアゲート回路G3.04等により構成される。こ
れらのノアゲート回路G3.G4の入力には、図示しな
い適当な回路装置から供給される外部アドレス信号AY
を受けるYアドレスバッファY−ADHで加工された内
部相補アドレス信号i0〜ajが所定の組合せにより印
加される。なお、この実施例では、非反転アドレス信号
aO〜ajと反転アドレス信号10〜ajとを合わせて
アドレス信号aO〜ajのように表現するものである。
This Y-address decoder Y-DCR is constructed from mutually similar NOR gate circuits G3.04 and the like. These NOR gate circuits G3. The input of G4 receives an external address signal AY supplied from an appropriate circuit device (not shown).
Internal complementary address signals i0 to aj processed by the receiving Y address buffer Y-ADH are applied in a predetermined combination. In this embodiment, the non-inverted address signals aO-aj and the inverted address signals 10-aj are combined and expressed as address signals aO-aj.

制御回路CONは、外部端子WE、C3からの制御信号
を受けて、その動作モードの設定する制御信号(読み出
し又は書込み制御信号)を形成する。
The control circuit CON receives control signals from the external terminals WE and C3, and forms a control signal (read or write control signal) for setting its operation mode.

また、上記各データ線と電源電圧VDDとの間には、デ
ータ線のプリチャージを行うpチャンネルMO5FET
Q5ないしG8が設けられている。
Furthermore, between each data line and the power supply voltage VDD, there is a p-channel MO5FET for precharging the data line.
Q5 to G8 are provided.

この実施例では、外部アドレス信号AX、AVの変化(
遷移)タイミングを検出するため、上記アドレスバッフ
ァX−ADH,Y−ADHで形成されたアドレス信号a
 X ’ + 87 ’ を受ける工・ノジトリガ回路
EGTが設けられる。このエツジトリガ回路EGTは、
特に制限されないが、アドレス信号ax’ とその遅延
信号とを受ける排他的論理和回路により構成される。す
なわち、アドレス信号ax’が変化した場合、遅延時間
だけ上記再入力信号のレベルが不一致となる。これによ
り排他的論理和回路はその間論理“1”となる不一致信
号を出力するものとなる。
In this embodiment, changes in external address signals AX and AV (
In order to detect transition) timing, the address signal a formed by the address buffers X-ADH and Y-ADH is
A trigger circuit EGT receiving X'+87' is provided. This edge trigger circuit EGT is
Although not particularly limited, it is constituted by an exclusive OR circuit that receives the address signal ax' and its delayed signal. That is, when the address signal ax' changes, the levels of the re-input signals become inconsistent by the delay time. As a result, the exclusive OR circuit outputs a mismatch signal which becomes logic "1" during that time.

このエツジトリガ回路EGTにより形成されたタイミン
グ信号φtにより上記アドレスバッファX−ADBの出
力タイミングが制限され、タイミング信号φ、φにより
XアドレスデコーダX−DCRと上記データ線負荷MO
3FETQ5ないしG8の動作タイミングが制御される
The timing signal φt generated by this edge trigger circuit EGT limits the output timing of the address buffer X-ADB, and the timing signals φ and φ limit the output timing of the
The operation timing of 3FETs Q5 to G8 is controlled.

また、aSS大人直後読み出し又は書込み動作を可能と
するため、オートクリア回路ACLが設けられる。
Furthermore, an auto clear circuit ACL is provided to enable read or write operations immediately after the aSS becomes adult.

第2図には、上記オートクリア回路ACLの一実施例の
回路図が示されている。
FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment of the auto clear circuit ACL.

電圧検出回路Aは、内部回路の下限動作以上の電圧v1
を基準電圧とする第1の電圧比較回路である。また、電
圧比較回路Bは、上記電圧v1より絶対値的に大きな電
圧v2を基準電圧とする第2の電圧比較回路である。こ
れらの電圧比較回路A、Bは、共に電源電圧VDDと上
記基準電圧Vl。
Voltage detection circuit A detects a voltage v1 higher than the lower limit operation of the internal circuit.
This is a first voltage comparator circuit that uses the reference voltage as the reference voltage. Further, the voltage comparison circuit B is a second voltage comparison circuit that uses a voltage v2, which is larger in absolute value than the voltage v1, as a reference voltage. These voltage comparison circuits A and B both have the power supply voltage VDD and the reference voltage Vl.

v2との電圧比較動作を行う、そして、上記電源電圧V
DDがそれぞれ上記基準電圧V1.V2より大きくなる
と、特に制限されないが、ハイレベルの検出信号を形成
する。上記第1の電圧検出回路Aにより形成された検出
信号は、特に制限されないが、フリップフロップ回路F
Fのセット入力端子Sに供給される。また、上記第2の
電圧検出回路Bにより形成された検出信号は、特に制限
されないが、上記フリップフロップ回路FFのリセット
入力端子Rに供給される。そして、このフリップフロッ
プ回路FFの出力端子Qから、上記アlルスデコーダ等
の周辺回路のリセット等を行うクリア信号acが形成さ
れ、これらの周辺回路に供給される。
A voltage comparison operation is performed with V2, and the power supply voltage V
DD is the reference voltage V1. When the voltage is larger than V2, a high level detection signal is generated, although there is no particular limitation. Although not particularly limited, the detection signal formed by the first voltage detection circuit A is a flip-flop circuit F.
It is supplied to the set input terminal S of F. Furthermore, the detection signal formed by the second voltage detection circuit B is supplied to the reset input terminal R of the flip-flop circuit FF, although this is not particularly limited. A clear signal ac for resetting peripheral circuits such as the Ars decoder is generated from the output terminal Q of the flip-flop circuit FF, and is supplied to these peripheral circuits.

この実施例のオートクリア回路の動作を第3図の波形図
に従って説明する。
The operation of the auto clear circuit of this embodiment will be explained with reference to the waveform diagram in FIG.

電源投入によって同図に実線で示したように電源電圧V
DDが立ち上がるとき、まず、内部回路の動作士限電圧
以上に設定された電圧■1に迂すると、電圧検出回路A
がこれを検出する。この検出信号によりフリップフロ・
ノブFFはセントされるので、同図に一点鎖線で示すよ
うにその出力端子Qからハイレベル(論理“l”)に変
化するクリア信号acを発生させる。これにより」二記
アドレスデコーダ等の周辺回路のクリア動作が開始され
る。次に、電源電圧VDDが上記電圧■2に達すると、
電圧検出回路Bがこれを検出する。この検出信号により
フリップフロップFFがリセットされるので、上記出力
端子Qから送出されるクリア信号aCは、ロウレベル(
論理“0″)に変化してリセット動作を終了させる。
When the power is turned on, the power supply voltage V increases as shown by the solid line in the figure.
When the DD starts up, it first bypasses the voltage 1 set higher than the operating limit voltage of the internal circuit, and the voltage detection circuit A
detects this. This detection signal causes the flip-flop
Since the knob FF is sent, a clear signal ac which changes to a high level (logic "L") is generated from its output terminal Q as shown by the dashed line in the figure. As a result, the clearing operation of peripheral circuits such as the second address decoder and the like is started. Next, when the power supply voltage VDD reaches the above voltage ■2,
Voltage detection circuit B detects this. Since the flip-flop FF is reset by this detection signal, the clear signal aC sent from the output terminal Q is at a low level (
The reset operation is completed by changing to logic "0").

したがって、すでに供給されたアドレス信号に従ったメ
モリセルに対して書込み又は読み出し動作を行うことが
できる。
Therefore, a write or read operation can be performed on a memory cell according to an already supplied address signal.

〔効 果〕〔effect〕

(1)内部回路の下限動作電圧以上の二種類の基準電圧
を用いているので、電源電圧VDDの立ち上がりに影響
されることなく、確実に発生するクリア信号を形成する
ことができる。
(1) Since two types of reference voltages that are higher than the lower limit operating voltage of the internal circuit are used, it is possible to form a clear signal that is reliably generated without being affected by the rise of the power supply voltage VDD.

(2)電源電圧が、絶対値的に小さな基準電圧から大き
な基準電圧へと順に二M類の電圧に達するように変化し
ない限りクリア信号が発生しないので、電源電圧に変動
(バンプ)が生じても、上記微分回路を用いたときのよ
うに応答することがないので、確実なオートクリア動作
を実現することができるという効果が得られる。
(2) A clear signal is not generated unless the power supply voltage changes from a reference voltage that is small in absolute value to a reference voltage that is large in order to reach the voltage of Class 2M, so fluctuations (bumps) occur in the power supply voltage. However, since there is no response as in the case of using the above-mentioned differentiating circuit, it is possible to achieve the effect that a reliable auto-clear operation can be realized.

(3)内部同期式の半導体記憶装置に上記オートクリア
回路を設けることによって、特別なイニシャライズを施
すことなく、電源投入と同時にそのアクセスを行うこと
ができるという効果が得られる。
(3) By providing the above auto-clear circuit in an internally synchronous semiconductor memory device, it is possible to access the device at the same time as the power is turned on without performing any special initialization.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、電圧比較回路
A、 Bに実際に供給する基準電圧と電源電圧とは、と
もにレベルシフトしたものであってもよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, the reference voltage and power supply voltage actually supplied to the voltage comparison circuits A and B may both be level-shifted.

また、基準電圧としては、MOSFET (絶縁ゲート
形電界効果トランジスタ)等の回路素子のしきい値電圧
を利用するものであってもよい。
Further, as the reference voltage, a threshold voltage of a circuit element such as a MOSFET (insulated gate field effect transistor) may be used.

さらに、上記フリップフロップ回路に代え、論理ゲート
回路により同様なりリア信号acを発生させるものであ
ってもよい。
Furthermore, instead of the flip-flop circuit described above, a logic gate circuit may be used to generate a similar rear signal ac.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として本願発明者によってなされた発
明をその背景となった技術分野である内部同期式のスタ
ティック型RAMに適用した場合について説明したが、
これに限定されるもではμく、例えば、ダイナミック型
メモリセルを用いるとともに、その周辺回路をスタティ
ック型回路により+i成し、上記エツジトリガ回路を設
けて同様に内部回路の動作タイミングを制御することに
よって、上記スタティック型RAMと同様に扱うことの
できるダイナミック型RAMにも適用できる。
The above explanation has mainly been about the case where the invention made by the inventor of the present application is applied to an internally synchronous static type RAM, which is the technical field behind the invention.
However, the invention is not limited to this, but for example, it is possible to use a dynamic type memory cell, construct its peripheral circuit with a static type circuit, and provide the above-mentioned edge trigger circuit to similarly control the operation timing of the internal circuit. , it can also be applied to a dynamic type RAM that can be handled in the same way as the static type RAM described above.

さらに、フリップフロップ回路、レジスフ等の記憶手段
を含むマイクロコンピュータ等のような情報処理動作を
行う半導体集積回路装置に対しても同様に適用できるも
のである。
Furthermore, the present invention can be similarly applied to semiconductor integrated circuit devices that perform information processing operations such as microcomputers that include storage means such as flip-flop circuits and registers.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明の一実施例を示す回路図、第2図は
、そのオートクリア回路のm−実施例を示す回路図、 第3図は、その動作を説明するための動作波形図である
。 X−ADB・・Xアドレスバッファ、Y−ADB・・Y
アドレスバッファ、X−DCR・・Xアドレスデコーダ
、Y−DCR・・Yアドレスデコーダ、MC・・メモリ
セル、DIB・・書込み回路、DOB・・読み出し回路
、CON・・制御回路、EGT・・エツジトリガ回路、
A CL・・オートクリア回路、A、B・・電圧検出回
路、FF・・フリンプフロップ回路 第 1 図 11− 第 2 図 五 第 3 図
Fig. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a circuit diagram showing an m-embodiment of the auto clear circuit, and Fig. 3 is an operation waveform diagram for explaining its operation. It is. X-ADB...X address buffer, Y-ADB...Y
Address buffer, X-DCR...X address decoder, Y-DCR...Y address decoder, MC...memory cell, DIB...write circuit, DOB...read circuit, CON...control circuit, EGT...edge trigger circuit ,
A CL...Auto clear circuit, A, B...Voltage detection circuit, FF...Flip-flop circuit 1st Figure 11- 2nd Figure 5th Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、内部回路の動作下限電圧以上の第1の基準電圧と電
源電圧とを受ける第1の電圧検出回路と、上記第1の基
準電圧より絶対値的に大きな電圧値に設定された第2の
基準電圧と電源電圧とを受ける第2の電圧検出回路と、
上記第1.第2の電圧検出出力を受け、電源電圧が上記
第1の基準電圧から第2の基準電圧に達するまでの間、
内部回路のクリア信号を形成するオートクリア回路とを
具備することを特徴とする半導体集積回路装置。 2、上記クリア信号を受ける内部回路は、アドレス信号
の遷移を検出したタイミング信号により、内部回路の動
作に必要な各種タイミング信号を形成する内部同期式の
半導体記憶装置を構成するものであることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の半導体集積回路装置。 3、上記半導体記憶装置は、CMOSスタティック型R
AMであることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載
の半導体集積回路装置。
[Claims] 1. A first voltage detection circuit that receives a first reference voltage that is equal to or higher than the operating lower limit voltage of the internal circuit and a power supply voltage; a second voltage detection circuit receiving the set second reference voltage and power supply voltage;
Above 1. After receiving the second voltage detection output, until the power supply voltage reaches the second reference voltage from the first reference voltage,
A semiconductor integrated circuit device comprising: an auto clear circuit that forms a clear signal for an internal circuit. 2. The internal circuit that receives the above clear signal constitutes an internally synchronous semiconductor memory device that forms various timing signals necessary for the operation of the internal circuit based on the timing signal that detects the transition of the address signal. A semiconductor integrated circuit device according to claim 1. 3. The above semiconductor memory device is a CMOS static type R
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 2, wherein the semiconductor integrated circuit device is an AM.
JP58127650A 1983-07-15 1983-07-15 Semiconductor integrated circuit device Pending JPS6020221A (en)

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JP2019129426A (en) * 2018-01-25 2019-08-01 ラピスセミコンダクタ株式会社 Semiconductor device and generation method for reset signal

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