JPS60190589A - 銀めつき前処理液 - Google Patents

銀めつき前処理液

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Publication number
JPS60190589A
JPS60190589A JP4659084A JP4659084A JPS60190589A JP S60190589 A JPS60190589 A JP S60190589A JP 4659084 A JP4659084 A JP 4659084A JP 4659084 A JP4659084 A JP 4659084A JP S60190589 A JPS60190589 A JP S60190589A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silver
plating
silver plating
substrate
solution
Prior art date
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Pending
Application number
JP4659084A
Other languages
English (en)
Inventor
Riichi Okubo
利一 大久保
Yasuo Mori
康夫 森
Shunichi Kasai
笠井 俊一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP4659084A priority Critical patent/JPS60190589A/ja
Publication of JPS60190589A publication Critical patent/JPS60190589A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、鋼や銅合金など銀より卑な金属基材に銀めっ
きを施すに際し、予め基材を浸漬するだめの前処理液に
関する。゛ 最近では、電子部品材料に銀めっきを施すとき、高速部
分めっきを行うことが多い。この方法に用いられる銀め
っき液は、銀濃度が非常に高いことが特徴である。この
ように銀濃度の高いめっき液に、銀より卑な金属例えば
銅、銅合金から成る基材を浸漬すると、浸漬しただけで
銀が大量に置換析出してしまう。この置換析出銀層は基
材に対する密着性がきわめて悪いため。
この上に銀を電気めっきしても密着性は改善されず、従
ってめっき皮膜のはがれを生じ、あるいは加熱時にふく
れや変色を生ずるなどの結果を呈すことになり、要すれ
ば銀めっき層の基材への密着性はきわめて劣悪なものと
なる。また。
浸漬時の置換析出により、基材のめつき不要部分も銀で
被覆されてしまうため、高価格な銀の損失と々る。さら
に、めっき液が銀との買換反応によって溶出した銅など
卑金属のイオンによシ汚染される。
このように有害な銀の置換析出を防止するために、めっ
きする基材をメルカプタン化合物(特開昭57−439
95参照)や、ジチオカルバミン酸、チオセミカルバジ
ド(特開昭57=140891参照)を含む溶液で前処
理する方法。
またはその前処理液が考案されている。
これらの有機化合物は、基材表面上に吸着し。
皮膜を形成して銀の置換めっきを防止するのであるが、
しばしば、厚い皮膜を形成し、銀めつきの際の色むら等
の有害な作用を示す。また。
これらの有機化合物は、フリーのシアン化物の濃度が低
いことを特徴とする高速銀めっき浴に液のくみ出しによ
りもち込まれると、難溶性の沈殿を生じるという欠点も
ある。ここでフリーのシアン化物とは、金属イオンと錯
体を形成していないシアン化物をいう。
本発明は、特に高速銀めっきの前処理のためのチオカル
ボン酸またはその塩を含有する液であシ、銀めっきの前
に基材を本前処理液に浸漬することにより基材表面に前
処理液成分を吸着させ、その働きにより銀の置換析出を
防止し、それによって良好な銀めっき皮膜を得、不要部
分へ、の銀の被着を防ぎ、且つ銀めっき液の管理を容易
にすることを目的として開発されたものである。
本発明に用いられるチオカルボン酸またはその塩として
は、チオ安息香酸、2−エチルへキシルチオ酸またはこ
れらの塩が挙げられる。
本発明の前処理液は、銅、銅合金など銀より卑な金属基
材に対し、当業者に公知の方法によシ、アルカリ脱脂、
酸洗を施した後に使用される。この使用法は、該基材を
3乃至30秒間浸漬するのみで良い。この前処理と銀め
っきの間に水洗工程を入れてもよいが、水洗を省略して
前処理後直ちに銀めっきを施しても全く問題はない。
本発明の前処理液は、チオカルボン酸またはその塩が溶
解し得る水性あるいはアルコール性の溶液であればよい
が、シアンアルカ!J 性テhる銀めつき液への液のも
ち込みを考慮すると通常KOHまたはNaOHO,1〜
20 t/l程度のアルカリ性の溶液を用いることが望
ましい。この前処理液中のチオカルボン酸またはその塩
の含有量は銀の置換析出を防止するために必要且つ十分
な量であればよいが、一般に0.01乃至30 t/L
が好適である。
本発明の銀めっきの前処理液は、基材表面上に厚い皮膜
を作らないものであるから、銀めっきの際の色むらなど
は生じない。また、銀イオンと難溶性の化合物を作るも
のではないので。
訂速銀めっき用の浴に持ち込まれても、沈殿を生じるこ
ともない。従って、前処理液および銀めっき液の管理は
非常に容易に行うことが可能となる。
本出願人は、先に特願昭59−12057によって銀の
置換析出防止剤としてのチオカルボン酸またはその塩を
添加されたシアン化銀アルカリ系高速銀めっき液を出願
した。この発明によれば、置換析出防止のための前処理
工程を省くことができるので工程短縮の利点がある。し
か1〜.ロングランの操業においては、前処理工程とめ
つき工程を別にする方、が次のような諸点において有利
である。
(11基材を銀めっき液に浸漬したときに、置換析出防
止剤の効果が現われるまでのごく僅かな時間に起る基材
金属溶出が防がれる。
(2) 銀めっき液への置換析出防止剤の混入が防止さ
れる。
(3) 従って銀電着層への置換析出防止剤成分の混入
が防止される。
(4) また、銀めっき液中への置換析出防止剤混入に
よって起こυ得るめっき作業上の伺らかの有害作用が予
防される。
本発明に係る前処理液による処理の後に用いられる銀め
っき液は、シアン化銀アルカリの形で含有された銀の濃
度が10〜1009/l、フリーのシアン化物の濃度が
1o y/を以下である高速銀めっき液である。シアン
化銀アルカリとしてはシアン化銀カリウムが最良である
。また。
液の電気伝導性を向上し、 pHをZ5〜9.0のね口
内に緩衝する効果をもつ塩としで、リン酸、ビロリン酸
、クエン酸のアルカリ金属塩や硼酸を含有する。本発明
に係る前処理を施した後に銀めっきすることによって得
られた銀めっき層は。
きわめて密着性がよく、均一、平滑、低硬度。
低光沢で、電子部品用の釧めっきとして最適である。も
し高光沢の銀めっき皮膜を得たい場合には、銀めっき液
にセレン化合物等の光沢剤を添加すれば良い。そのほか
、使用の目的に応じて、アンチモン化合物、BDTA、
 +−04−の界面活性剤など、当業者に公知の成分を
添加し、めっき皮膜の性質改善や、めっき条件の向上を
図ることを拒むものではない。
以上のように9本発明の銀めっき前処理液は銀よりも卑
な金属1例えば銅や銅合金から成る基材に対して高速銀
めっきを施す前に使用され。
それによって銀めっき作業時の銀の置換析出防止効果を
得、よって銀めっき皮膜の基材への密着性を高め、また
、銀の損失を低減することができる。
以下に本発明の実施例について説明する。
実施例 常法によりアルカリ脱脂、酸洗を施したリン青銅板を2
枚用意し、うち1枚を10秒間チオ安息香酸カリウム1
 t/lの水溶液に浸漬して前処理を行った。
上記2枚のリン青銅板を xAg(aN)2130 y/l ( K、HPO4100y/l を含み、 pHをa5に調整された銀めっき液に液温6
0℃において30秒間浸漬した。その結果。
前処理済みリン青銅板上には銀が置換析出せず。
リン青銅板の表面の色の変化はなかった。前処理の行わ
れなかったリン青銅板上には、全面に銀が置換析出し、
白色化していた。
さらに、上記と同様な脱脂、酸洗処理を施したリン青銅
製リードフレームをチオ安息香酸カリウム1 y/lの
水溶液に10秒間浸漬し、前処理を行った。前処理済み
リードフレームに上記の銀めっき液を用いてジェットめ
っき法で3.0μm厚さとなるように高速部分めっきを
行った。
この場合の電流密度は80 A/dm’ 、液温は70
℃とした。
得られた銀めっき皮膜は9色むらなどの外観不良がなく
、低光沢で純度の高いものであった。
密着性は良好であり、これを400℃において2分間加
熱した後も、変色、ふくれなどの外観変化は生じなかっ
た。
特許出願人 日本鉱業株式会社 代理人 弁理士(7569)並川啓志

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) M、銅合金、銅めっき基材など銀よシ卑な金属
    のいずれかから成る基材表面に銀を電気めっきするにあ
    たり、銀の置換析出を防止するために、鋏めつきに先立
    って上記基材を浸漬する前処理液であって、チオカルボ
    ン酸またはその塩を含有することを特徴とする銀めっき
    前処理液。
  2. (2)銀めっきが、1o o t/を以下の銀をシアン
    化銀アルカリの形で含有し且つフリーのシアン化物の儂
    度が10 f/を以下である銀めっき液を用いて行われ
    る特許請求の範囲第1項に記載の銀めっき前処理液。
JP4659084A 1984-03-13 1984-03-13 銀めつき前処理液 Pending JPS60190589A (ja)

Priority Applications (1)

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JP4659084A JPS60190589A (ja) 1984-03-13 1984-03-13 銀めつき前処理液

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JP4659084A JPS60190589A (ja) 1984-03-13 1984-03-13 銀めつき前処理液

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JPS60190589A true JPS60190589A (ja) 1985-09-28

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ID=12751502

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JP4659084A Pending JPS60190589A (ja) 1984-03-13 1984-03-13 銀めつき前処理液

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JP (1) JPS60190589A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015079841A (ja) * 2013-10-16 2015-04-23 古河電気工業株式会社 光半導体装置用リードフレーム基体、光半導体装置用リードフレーム、および光半導体装置用リードフレームの製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015079841A (ja) * 2013-10-16 2015-04-23 古河電気工業株式会社 光半導体装置用リードフレーム基体、光半導体装置用リードフレーム、および光半導体装置用リードフレームの製造方法

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