JPS60189712A - 光結合器の製作方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光結合器の製作方法、更に詳しくは光導波路に
グレーティングを設置した光結合器に関する。

近年、光集積回路の発達に伴って、高精度で、かつ効率
の良い光結合器が望まれている。

しかしながら、従来、所望の精度の結合器を得るために
は高度の微細加工技術を必要とするため、いきおい歩留
りの低下、したがってコスト高さを招くといった欠陥が
あった。

ここで従来のグレーティング型光結合器について説明す
る。第１図は従来の平面型グレーティング型光結合器の
断面図で、この図において２は基板であって、例えば、
ガラス、プラスチック又はニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂ
Ｏ３）等の透明基板又はシリコン、セラミックス等の不
透明基板が用いられる。基板２の表面に光導波路ｌが配
設される。光導波路ｌは基板２よりも屈折率が高いもの
が用い散することによって０．５〜５Ｗ程度の膜厚の光
導波路１が得られる。或いは、屈折率が　１．５のガラ
スを基板として用いる場合には、その表面に屈折率が１
．５５　（波長８３２８Ａ）のガラス（例えば、コーニ
ング社商品名Ｃ−７０５９）をスバ・ンタリングにより
膜厚０．５〜５Ｗ程度に成膜し、光導波路ｌを得る。

６はグレーティングで、通常ピッチ０．３〜Ｉｇ、深さ
０．１〜０．２川である。このように構成された光結合
器に入射光３が入ると、導波路内を光４が全反射により
伝播し、グレーティング６によって回折され射出光５が
とり出される。

この場合、一般にグレーティングの製作が困難である。

平面型はレリーフ型に較べてさらに困難である。グレー
ティング６の機能をより効果的に発揮するためには完全
に矩形のグレーティングが好ましいが、そのような完全
矩形のグレーティングを得ることは一般に容易でないか
らである。

本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、製作が容易
で、かつ安価な光結合器の製作方法を提供することを目
的とするものである。

更に、本発明は高精度で、かつ効率の良い光結合器を提
供することを目的とするものである。

また更に、本発明はレリーフ型グレーティングしには構
築しにくい（後述する）他の構成要素（パックァ層）を
容易に構築できるようにするため、平面型グレーティン
グを有する光結合器を提供することを目的とするもので
ある。

本発明は以下に示す単分子累積法を用いることにより、
中分子累積膜を得ることを基本とし、さらにグレーティ
ングの形式を口ｆ能にするため改良を施したものである
。

以下、本発明の基本となる単分子累積法およびそれによ
って形成される単分子累積膜について説明する。単分子
累積法とは水面上に形成した単分子膜を基板表面に移し
取り、１枚ずつ重ねて超薄■シを作る方法であり、発明
者にちなんでラングミュア−プロジェット（ＬＢ）法と
も呼ばれる。

ここで、単分子膜とは一分子の厚さの均一な膜をいい、
これを累積した膜を累積膜という。

かかる単分子膜及び累積膜を構成する分子は必ず同一化
学構造内に少なくとも疎水性部分と親水性部分とを併有
していることが必要である。疎水性部分として最も代表
的なものは長鎖アルキル基であって、一般に炭素数が５
〜３０位いのものが用いられるが、好ましくは、炭素数
１０〜２５位し）である。又、アＩレキル鎖の長さが適
当であれば、直鎖状アルキル基、及び枝わかれ状アルキ
ル基、共に有用である。その他の疎水性部分を構成する
基としては、例えば、ビニレン、ビニリデン、アセチレ
ン等のオレフィン系ｉＹ　化水素２ｉ１ｉ、フェニル、
ナフチル、アントラニルの如き縮合多環フェニル基、ビ
フェニル、ターフェニル、等の鎖状多速フェニル基等が
あり、これら１ま各々単独又は複数の組合せによる場合
や上述のアルキル基の末端や中間に位置している場合も
ある。親水性部分として最も代表的なものは、例えば、
カルボキシル基及びその金属塩並びにアミン塩、スルホ
ン酸基及びその金属塩並びにアミン塩、スルホンアミド
基、アミド基、アミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、
４級アミ７基、オギシアミ７基、オキシイミツ基、ジア
ゾニウム基、グアニジン基、ヒドラジン基、リン酸基、
ケイ酸基、アルミン酸基、等がある。しかしながら疎水
性部分と親水性部分との任意の組合せで、常に単分子膜
及び累積膜が形成されるとは限らない。中分子累積法に
よって単分子膜及び累積膜を得るためには、後述のよう
に作製工程上、まず水面トに単分子膜を形成させなけれ
ばならないが、もし、疎水性よりも親水性の方が強けれ
ば分子は水に溶解して水溶液となり逆に疎水性の方が勝
てば２相に分離する。水面上で単分子膜ができるのは疎
水性と親水性が適度に釣合うときである。そのとき分子
は全体として浮きも沈みもせず、親木性部分を水相に向
けて気水界面に吸着されて単分子膜を形成する。したが
って、単分子膜及び累積膜を構成する分子は疎水性部分
と親水性部分が適度にバランスしていることが要求され
る。

つぎに第２図（Ａ）、　（Ｂ）を参照してＬＢ膜製作装
置および製作方法について説明する。ここでＬＢ膜とは
単分子累積法によって作製ξれた単分子膜および累積膜
をいう。第２図（Ａ）（Ｂ）に例示したＬＢ膜製作装置
は、前述のラングミュアプロジェット法（ＬＢ法）の原
理に基づき、Ｋｕｈｎの研究グループが考案したもので
ある。浅くて広い角型水槽１４の内側にポリプロピレン
酸の枠１５が水平しこ吊ってあり、水面２３を仕切って
いる。枠１５は後述のように２次元シリンダーとして機
能する。枠１５の内側にはポリプロピレン酸の浮子１８
が浮かべられている。浮子１６の幅は枠１５の内側より
僅かに狭く作ってあり２次元ピストンとして左右に滑ら
かに動けるようになっている。浮子１６を右方に引張る
ために滑車１８を介しておもり１７が結びつけられてい
る。浮子１８を停めたり左方に押し戻すのは一般に磁石
の反発力が利用される。そのために。

浮子１６にに固定した磁石１８と左右に動かせる対磁石
２０が設けられている。即ち、押し°戻すときは、対磁
石２０を磁石１９に近づければ、斥力が働き、浮子１６
は押し戻される。

このようなおもりや磁石１９．２０の代りに、回転モー
タやプーリーを用いて直接浮子１Ｂを左右に動かすこと
も口ｆ能である。左右の吸引ノズル２２はそれぞれ吸引
パイプ２１を介して不図示の吸引ポンプに接続される。

単分子累積法に於いては単分子膜、累積膜の内部に不純
物の混入を防１卜するために、清浄な純水が使用される
が、水面２３の清掃や不要になった単分子膜の迅速除去
に不図示の吸引ポンプ及び吸引ノズル２２か活用される
。その場合、浮子１６で不要になった中分子層等を掃き
寄せながら、吸引ノズル２２で迅速にすすり出すことに
よって水面２３を浄化する。こうして、清浄になった水
面２３の左端に浮子１６を′８せて〜５ＸＩＯ−３Ｂｏ
ｌ／Ｉの濃度で、ヘンゼン・クロロホルム等の揮発性溶
媒に溶かした薄い膜構成物質の溶液を数滴水面にたらす
と、溶媒が揮発したあとに単分子膜が水面２３．、ｌこ
残される。この単分子膜は水面２３Ｆで２次元系の挙動
を示す。分子の面密度が低いときは２次元気体の気体膜
と呼ばれ、−分子あたりの占有面積と表面圧との間に２
次元理想気体の状態方程式が成立する。占有面積と表面
圧は不図示の測定器によって自動的かつ持続的に計測さ
れる。占有面積及びその変化量は浮子１６の左右の動き
からめられる。表面圧の測定器としては純水及び申分子
１りでおおわれた水面の表面張力の差から間接的にめる
方法を応用したもの、純水表面と中分子膜面を区切るよ
うに浮かべた浮子１６にかかる２次元的圧力を直接測定
するもの等があり、それぞれ特色がある。気体膜の状態
から、徐々に浮子１６を右方に動かし単分子膜が展開す
る水面の広がりを次第に縮めて面密度を増してゆくと、
分子間相〃作用が強まり、２次元液体の液体膜をへて２
次元固体の固体膜へと変わる。該固体膜になると、分子
の配列耐高はきれいにそろい、光学材Ｉｔに要求される
高度の秩序性及び均一な超薄膜性をもつにいたる。而し
て、該固体膜の状態を維持したまま、該中分子膜を清浄
な基板２４（例えば、ガラス、セラミック、プラスチッ
ク又は金属等の基板が用いられる）の表面に移すことが
可能となる。基板２４に付着した単分子膜の上にさらに
何層にでも単分子膜を累積することもできる。一般に、
累積操作に好適な単分子膜の表面圧は　１５〜３０ｄｙ
ｎｅ／ａｍである。その範囲外では分子の配列配向秩序
が乱れたり、膜の剥がれが生じたりするので、不適当で
ある。もっとも、特別の場合、例えば、膜構造物質の化
学構造、及び温度条件等によっては、好適な表面圧の値
がト述の範囲からはみでる場合もあるので、−Ｌ述の範
囲は一応の目安である。単分子膜が累積操作に好適な条
件の範囲内で選ばれた一定の表面圧を常に維持できるよ
うに、対磁石２０を左右に駆動させる不図示の駆動装置
が不図示の表面圧制御装置によって制御される。例えば
、累積操作過程に於いて、単分子膜が基板２４に移し取
られると、当然表面圧は低下するから対磁石２０を動か
して、従って浮子１６を動かして、展開膜面積を圧縮し
、表面圧低下分を補正して一定表面圧を維持する操作が
自動的になされる。中分子＋１！ｉ！２８（第３図参照
）を水面２３］二から基板２４表面に移し取る方法は大
別して２種類ある。

−は垂直浸漬法で他は水平付着法である。垂直浸漬法と
は水面２３上の単分子膜２６に累積操作に好適な一定の
表面圧をかけながら、膜を横切る方向、即ち、垂直方向
に基板２４を上ドさせることにより、　単分子膜２８を
移し取る方法である。水平付着法とは基板を水平に保ち
ながら１−から水面２３にできるだけ近づけわずかに傾
けて一端から単分子膜２６に触れて付着する方法である
。それぞれ向き不向きがある。垂直浸漬法の場合は、膜
を構成する分子や膜作製条件によって第３図に示すよう
に３種類の膜構造ができる。第３図（Ａ）のように浸漬
時だけ膜が４＝Ｊ着するＸ型、第３図（Ｂ）のように浸
漬時にも引きＬげ時にも付着するＹ型、第３図（Ｃ）の
ように引きトげ時のみ膜が旧情するＸ型、等がある。

従って、Ｘ型は疎水性部分りを基板２４表面に向は親木
性部分を外側に向けて付着する。Ｘ型は親水性部分Ｑを
基板２４表面に向は疎水性部分Ｐを外に向けて付着する
。これに対して水平付着法の場合にはＸ型の累積膜しか
できないが、垂直浸漬法よりも後述する累積比のすぐれ
たＸ型の累積膜を比較的簡単に作りやすい。又、蛋白単
分子膜の作製にはこの水平付着法が適している。

しかしながら、いずれの方法による場合でも、基板２４
表面は界面化学的に充分清浄でなければならない。基板
２４の表面の清ｎ１が不充分であれば■りの屑がれが生
じ、累積膜を作製することが困難となる。

例えば、ガラス基板はクロム酸混液中に浸し、蒸留水で
洗った後に、清浄な気流中で乾燥すると、その表面は完
全に親水性になる。

例えば、清浄にした固体表面に融解したステアリン酸鉄
（Ｉ［［）をよく塗り（＝Ｉけて、ガーゼのような清浄
な布で強く十分にこすりとると、その後には親木基を固
体面に向けたステアリン酸鉄（ｍ）の単分子ｌりが形成
され、表面は完全に疎水性になる。

累積操作をさらに具体的に明らかにするため、第４図に
従っ゛て、垂直浸漬法によりＹ型累積膜を作製する操作
について説明する。図示例（第４図）は親水性基板２４
を用いた場合である。親水性基板２４に付着する単分子
膜２Ｂの第１層目は第４図（Ａ）に示すように引き上げ
王程詩に付くから、実際の操作としては、まず基板を深
く水中に漬け、それから膜構成物質の薄い溶液を滴丁す
る順序になる。それから、表面圧を上げて行き、累積膜
作製に好適な表面）Ｅに達した後、基板２４を引きＬげ
る。累積膜作製に好適な引き一］二げ（引きドげ）速度
は０．１〜１０ｃ＋ｏ／ｍｉｎである。ただし、膜構成
物質や改作製条件によってはこの範囲外に好適条件が存
在する場合もある。

最初の引き上げ行程で、第１暦車分子膜が親水性部分Ｑ
を基板２４の表面に向け、疎水性部分Ｐを外側に向けて
付着する。

次の浸漬（引き下げ）行程（第４図（Ｂ））で、第２慶
弔分子膜が疎水性部分Ｐを基板１４表面に向は親水性部
分Ｑを外側に向けて付着する。なお、第１層目　２Ｅｉ
ａを付けた後、充分空中で乾かし水分その他溶媒を除去
してから、２層目　２６ｂ以上を付けた方が累積膜に剥
がれが生じず、累積操作がうまくいくことが判った。３
層目２６ｃ以上は同様の操作の繰り返えしにより（第４
図（Ｃ）参照）、任意の層数の累積膜を作製することが
できる。

図示例に於けるＹ型膜の奇数番目の層は常に親水性の部
分Ｑが基板２４表面に向き、疎水性部分Ｐが外側を向く
。

このようにして作製された累積膜の厚みは分子の長さく
１０〜８０Ａ）に累積回数（中分子膜の層数）を乗した
ものに等１．いことが多くの実験によって確認されてい
る。膜の付き方に影響を及ぼすその他の因子としては、
（１）膜構成物質の化学構造、（２）水相のＰＨや含有
塩類の種類φ濃度、（３）温度、（４）基板の種類等が
ある。

例えば、純粋な直鎖脂肪酩よりも脂肪酸塩の方が安定な
累積膜を作りやすく、特にカルシウム、バリウ１１、カ
ドミウム等の塩がすぐれる。この場合、水相のＰＨによ
って累積膜の組成や付き方が異なる。即ち、一般にＰＨ
４以下であれば純粋な脂肪耐膜になり　ＰＩＩ９以トだ
と金属塩の膜になり、中間のＰＨではこれらの混ざった
累積膜が得られる。なお、累積膜の付き方を定量的に表
示するために累積比という指標が用いられる。累積比と
は基板上の所定の面積に対する実際に水面２３から移し
取られた膜面積の比をいう。なお、水面から移し取られ
た膜面積は浮子１６の移動量を計測することによりめら
れる。例えば、累積比Ｏは全く膜が付かなかった場合、
累積比ｌは理想的に膜が移し取られた場合を示す。一般
には、遊＃酸よりも金属塩の方が累積比が大きい。

本発明において使用される基板２４は任意の適当な基板
でよく、基板寸法も特に限定されない。本発明における
ＬＢ膜の厚みは、上述した累積の繰り返えしにより　０
．５〜５１ｊ、の範囲である。本発明のグレーティング
型光結合器に適した物質は、適切な光学的特性を有し、
かつＬＢ膜形成物質であればよい。

特に適当なもの、例えば脂肪酸、殊に１０〜３０個の炭
素原子を含む直鎖脂肪酸（ステアリン酸、アラキシンＳ
Ｊ）及びそれらの塩（カドミウム塩）。

後述する重合性ＬＢ膜である。これらの物質の屈折率は
ＣＨ２鎖の長さを適宜選択することによりあるいは金属
イオンの付加により容易に制御される。

成膜されたＬＢ膜は公知−「１段によってパターニング
される。また本出願人の他の特許出願人（出願人番号未
定）に係る新規なパターニング形成方法によって所望の
形状にパターニングされる。パターニングされたＬＢ膜
は導波路として機能する。

次に本発明に係る平面型グレーティングの形成方法につ
いて、第５図を参照して説明する。ＬＢ膜材料としては
光重合性のものを使用する。この場合ＬＢ膜としては前
述のＹ型膜を前提とする“。

まず重合性ＬＢ膜７を前述した単分子累積法により、ガ
ラス、セラミックス、プラスチックス又は醸化シリコン
等の基板２Ｆに成膜する。次に、光結合器の所望の形状
を得るために、光又は電子によるパターニング露光（：
ＪＩＪｓ図（１））の後、現像（現像Ｍ　：アルコール
、クロロホルム、ベンゼン等）により末露光部のＬＢ膜
を除去する（第５図（１）、　（２））。この最重合部
分は現像液によって溶出されない（第５図（２））。

次に重合Ｌ膜製９の一ヒに重合性ＬＢ膜１０を単分子累
積法により成膜する。重合性ＬＢＩり１０は重合性ＬＢ
［７と同種のものが好ましいが、光学的条件を満たすな
ら異種のものでもよい。

この場合、重合ＬＢ膜９の表面（重合性ＬＢ膜１０と接
する面）が親水性なら、重合性ＬＢ膜１０の表面が疎水
性になるように、或いは重合性ＬＢ膜９の表面が疎水性
なら重合性ＬＢｌｌｉＩＱの表面が親水性になるように
重合性ＬＢ膜１０の厚みを調整する必要がある。

前述した単分子累積法により明らかなように、ＬＢ膜の
表面は必らず、親木性か疎水性かのいずれかをとり、そ
の制御は極めて容易である。所望の形状のＬＢ成膜の表
面に積層されたＬＢ膜のみが残るように、前述のパター
ニング露光を施す。

その際グレーティングのパターンも、同時に又は相前後
して露光する。これを現像後、第５図（４）に示す重合
ＬＢ膜１１のレリーフ・パターンが得られる。この時、
グレーティング１１の四部は重合ＬＢ膜９の表面であり
、凸部はＬＢ膜製Ｏの表面であるから、一方が親水性表
面のとき、他方は疎水性表面となっている。次いで重合
ＬＢ膜１１のＬにＬＢＭ１２及び１３を前述した中分子
累積法により形成する。このとき、重合ＬＢ膜１１の四
部低面が親水性なら、ＬＢＢｉ１２第１層目は親木基が
基板側を向くように付着させる。したがって、凸部では
疎水基と親木基（ＬＢｌり１２の第１層目）とが向いあ
うことになる。反対に重合ＬＢ膜１１の凹部低面が疎水
性なら、ＬＢＢｉ１２第１層目は疎水性が基板側を向く
ように付着させる。ＬＢＢｉ１２厚みがクレーティング
の深みと同じになるようにする（即ち、１１の凸部の表
面と１３の表面が同一面になるようにする。）第５図（
４））。ＬＢＢｉ１２膜厚制御が極めて容易であること
は単分子を繰り返えし累積する上程をとる単分子累積法
の特徴より明らかである。

重合ＬＢＩり１１上に積層されるＬＢＩ桑１２及び１３
は重合性であると否とを問わないが、屈折率は重合ＬＢ
膜のそれより、小であることが要求される。

次に、第５図（４）の構成のものを不図示の超音防水槽
につけ、適当な条件下で超音波を発生させると、接合力
の弱い（疎水基と親木基が向い合っているからＬＢＢｉ
１２１２の接触面で剥離（除去）が生ずる。ＬＢＢｉ１
２１３の接触面では親水基同志（又は疎水基同志）が向
き合っているので、比較的接合力が強いため、剥離が生
じない。かくして選択的剥離（除去）により第５図に示
す断面図構造のもの形成される。ＬＢｌｐＪｌｌと１３
は同一平面］二に形成され、かくしてＩＶ−筒型、すな
わち位相差型グレーティングが構築される。このような
位相差型結合器は、他の構成要素をグレーティングヒに
構築する場合に有利である。

つぎに、本発明により構成した光導波路のグレーティン
グ１−に他の構成要素を構築・実施例により、第６図を
参照して説明する。

この図において、基板３２には平面型グレーティングの
形成されたＬＢ膜製Ｉが着設される。ＬＢＩＩ莫３１の
グレーティング部３６の門にはＬＢｌｌｉ３３が装着さ
れＬＢＢａ２Ｏ３３との表面は同一平面にあって、平面
型、すなわち位相差型グレーティング３６が形成されて
いる。またＬＢＢａ２Ｏよび３３は表面の性質が同じで
ある。すなわち、ＬＢＢａ２Ｏ表面が親木性なら、ＬＢ
Ｂａ２Ｏ表面も親水性にする必要がある。反対にＬＢＢ
ａ２Ｏ表面が疎水性なら、Ｌ　Ｂ　（４ｆ１３３の表面
も疎水性にする必要がある。

グレーティング」−にＬＢＢａ２Ｏ成膜されている。Ｌ
ＢＢａ２Ｏ屈折率はＬＢＢａ２Ｏ屈折率より低いことが
条件である。ＬＢＢａ２ＯＬＢＢａ２Ｏ同一材料である
か、又は屈折率が同じものが好適である。ＬＢＢａ２Ｏ
バッファ層として機能する。ＬＢ膜（バフフッ層）３４
のに面には反射層３５が装着される。反射層３５はＡｔ
膜を蒸着したものである。

ＬＢＢａ２ＯＬＢＢａ２Ｏ１，に−・様に成膜されてい
てもよいが第６図のようにグレーティング−しにのみ構
築されるように選択付着してもよい。その際、重合成し
膜製の場合は、パターン露光により、非重合成し膜製の
場合は、本出願人の他の特許出願（出願番号未定）に係
るパターニング形成方法によって所望の形状にパターニ
ングされる。ＬＢＢａ２Ｏ膜厚はグレーティングによっ
て回折され、直接基板側３２に射出する光３Ｂ−ｂと、
ＬＢ脱Ｓ４側に射出し反射層３５によって反射され基板
側３２に射出する光３６−ａとが干渉によって互いに強
めあうように設定される必要がある。この場合ＬＢ膜３
４は前述のようにバッファ層として機能する。

射出光３８−ａと３６−ｂとが干渉により強め合う最適
のＬＢＢａ２Ｏ膜厚条件は公知の光学的法則により容易
に導かれる。但し光の波長以下の膜厚制御が要求される
。射出光３Ｂ−ａと３６−ｂとは第６図に示すように光
路長が異なる。この光路差が波長の整数倍のとき強めあ
う。

このように、第６図に示すＬＢ層により構成されたグレ
ーティングと光導波路とバッファ層に反射層を設けた本
発明の光結合器は基板３２の反射側に射出する光を利用
できるので射出効率の向−Ｌを図ることができるという
効果がある。さらに本発明は安価な光結合器の製作方法
を提供し、バッファ層を容易に構築できる平面型グレー
ティングを有する光結合器を提供する。

〈実施例〉 争基板〜白板ガラス、１０醜■ＸｌＯ■■、０．３層曹
（Ｓ１０２８１％、８２０３１３％、　Ｎａ２Ｏ４％、
Ａｌ２０３２％）・グレーティングピッチ　２００Ａ　
深さ０．１＃Ｌ・ＬＢ脱Ｓの膜厚　０．９　ＩＬ ／／　１１）　／／　Ｑ、ｌル ”　１２．１３　ｔｔ　Ｏ，１色 ／／　１４　ｔｔ　Ｏ，２用 会入射光〜Ｈｅ−Ｎｅレーザ（８３２８Ａ）・半導体レ
ーザ（８３００Ａ） ・オレフィン系（光重合性） ・ステアリン酸ビニルにγ線をあてて重合。

・末露光部アルコールに溶ける。

・−一トリコセン酸に電子線（１０〜１００ＫｅＶ）を
あてて重合。

・電子ビーム露光装置（日本電子ＴＥＢＸ−’２Ｂ） ・ジアセチレン誘導体は紫外線で重合。

【図面の簡単な説明】 第１図は従来の光結合器の断面図、第２図（Ａ）。 （Ｂ）はＬＢ膜製作装置の斜視図および断面図、第３図
（Ａ）、　（Ｂ）、　（Ｃ）はＬＢ膜の３種類の構成を
説明する図、第４図（Ａ）、　ＣＢ）、　（Ｃ）はＬＢ
膜の形成を説明する図、第５図は（１）、　（２）、　
（３）、　（４）。 （５）は本発明の平面型グレーティングを形成する工程
説明図、第６図は本発明の実施例の断面図である。 ２−ｍ−基板 ７−−−　モノマＬ膜製 ８−ｍ−露光 ９−ｍ−重合ＬＢ膜 １Ｏ−−−モノマＬ膜製 １１−ｍ−重合ＬＢ膜 １２、１３−−−　モノマＬ膜製 １４−−−　水槽 １５−　枠 １Ｂ−ｍ−浮子 １９、２０−−一磁石 ２３−ｍ−水面 ２４−ｍ−基板 ２６−−−　単分子膜 ３１−−一　光導波路 ３２−ｍ−基板 ３３、３４−−−　ＬＢ膜 ３５−ｍ−反射層 特許出願人　キャノン株式会社 第　１ｖｌ 工 第　６　図 １＋ 第　２１！Ｉ（ａ） 第　２　図　（ｂ） （Ａ） 第　３　図 第４図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. クレーティングを設置した光導波路をＬＢ膜によって構
   成した光結合器の製作方法において、基板上に重合性Ｌ
   Ｂ膜（７）を形成し、パターニング露光後重合したＬＢ
   幕（９）を残して未露光部を除去し、次に該重合ＬＢ膜
   （９）上に重合性ＬＢ膜（１０）を形成し、この際該重
   合し膜製（９）の該重合性ＬＢ膜（１０）と接する面と
   該重合性ＬＢＭ（１０）の外面とは互に異なった親水性
   および疎水性表面に構成し、ついで前記重合性ＬＢ膜１
   ０が所望の形状に残留するようにパターニング露光と同
   時または前後してグレーティングのパターニングを施し
   、次にグレーティングを形成した重合ＬＢ膜（１１）上
   にＬＢｊり（１２）および（１３）を形成し、さらにグ
   レーティンク溝上のＬＢ！Ｉ！（１３）を残し他のＬＢ
   膜（１２）を剥離することを特徴とする光結合器の製作
   方法。