JPS60187688A - 高純度なアルカリ金属水酸化物の製法 - Google Patents
高純度なアルカリ金属水酸化物の製法Info
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- JPS60187688A JPS60187688A JP60003114A JP311485A JPS60187688A JP S60187688 A JPS60187688 A JP S60187688A JP 60003114 A JP60003114 A JP 60003114A JP 311485 A JP311485 A JP 311485A JP S60187688 A JPS60187688 A JP S60187688A
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- chamber
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- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/34—Simultaneous production of alkali metal hydroxides and chlorine, oxyacids or salts of chlorine, e.g. by chlor-alkali electrolysis
- C25B1/46—Simultaneous production of alkali metal hydroxides and chlorine, oxyacids or salts of chlorine, e.g. by chlor-alkali electrolysis in diaphragm cells
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高純度なアルカリ金属水酸化物の製法に関する
。詳しくは、略垂直に張設された陽イオン交換膜により
陽極室と陰極室とに分離された所謂竪型電解槽で、アル
カリ金属ハロゲン化物水溶液を電解して、高純度なアル
カリ金属水酸化物を製造する方法に関する。
。詳しくは、略垂直に張設された陽イオン交換膜により
陽極室と陰極室とに分離された所謂竪型電解槽で、アル
カリ金属ハロゲン化物水溶液を電解して、高純度なアル
カリ金属水酸化物を製造する方法に関する。
本発明の目的は、アルカリ金属ハロゲン化物濃度の低い
高純度なアルカリ金属水酸化物を得ることにある。
高純度なアルカリ金属水酸化物を得ることにある。
従来より、アルカリ金属ハロゲイ化物水溶液を電解して
アルカリ金属水酸化物をＩＭる方法として、水銀法と隔
膜法とがある。近年水銀Ｇこよる環境汚染問題を契機と
して後者が注目されているが、それぞれの方法によって
製造されたアルカリ金属水酸化物の性状には大きな差異
が認められ、不純物Ｉｊｌ ’ＦｔｐＡｔ ２２１ ノ
田す啼フ ＩＪ＝ ＩＩ・１１ 書・ 号ム・・ −解
して苛性ソーダを得る場合を例にとれば、５０％苛性ソ
ーダ水溶液中で、水銀法では塩化ナトリウム含量が数ｐ
ｐｍ〜数十ｐｐｍであるのに対し、隔膜法では塩化ナト
リウム含量が約１１００００ｐｐもある。
アルカリ金属水酸化物をＩＭる方法として、水銀法と隔
膜法とがある。近年水銀Ｇこよる環境汚染問題を契機と
して後者が注目されているが、それぞれの方法によって
製造されたアルカリ金属水酸化物の性状には大きな差異
が認められ、不純物Ｉｊｌ ’ＦｔｐＡｔ ２２１ ノ
田す啼フ ＩＪ＝ ＩＩ・１１ 書・ 号ム・・ −解
して苛性ソーダを得る場合を例にとれば、５０％苛性ソ
ーダ水溶液中で、水銀法では塩化ナトリウム含量が数ｐ
ｐｍ〜数十ｐｐｍであるのに対し、隔膜法では塩化ナト
リウム含量が約１１００００ｐｐもある。
隔膜法で得られる苛性ソーダ中の塩化ナトリウムを除去
する方法として、液体アンモニア抽出法、水和物法及び
複塩法等が研究され、一部実用化もされているが、いづ
れもコストアップを招き、更にはかかる方法で精製され
た苛性ソーダ中にも塩化ナトリウムが数百〜数千ｐｐｍ
残存し、高純度な苛性ソーダを必要とする市場分野には
使用出来ないのが実状である。
する方法として、液体アンモニア抽出法、水和物法及び
複塩法等が研究され、一部実用化もされているが、いづ
れもコストアップを招き、更にはかかる方法で精製され
た苛性ソーダ中にも塩化ナトリウムが数百〜数千ｐｐｍ
残存し、高純度な苛性ソーダを必要とする市場分野には
使用出来ないのが実状である。
従って、近年、隔膜法で一般に用いられるアスへスト等
の中性隔膜にかえて、陽イオン交換膜を用いる隔膜電解
法が提案されている。この陽イオン交換膜は陽極で発生
ずるハロゲンガス、陽極液中に生成する次亜ハロゲン酸
イオン等の酸化性物質により著しく劣化をうけるために
、耐酸化性を有する必要がある。このような要求に対し
て、最近、パーフルオロ化炭化水素とスルホン化パーフ
ルオロビニルエーテルの共重合体で作られた改良された
膜が開発されている。種々の実験において、かかる陽イ
オン交換膜はアルカリ金属水酸化物の製造用に耐え得る
ことがわかっている。
の中性隔膜にかえて、陽イオン交換膜を用いる隔膜電解
法が提案されている。この陽イオン交換膜は陽極で発生
ずるハロゲンガス、陽極液中に生成する次亜ハロゲン酸
イオン等の酸化性物質により著しく劣化をうけるために
、耐酸化性を有する必要がある。このような要求に対し
て、最近、パーフルオロ化炭化水素とスルホン化パーフ
ルオロビニルエーテルの共重合体で作られた改良された
膜が開発されている。種々の実験において、かかる陽イ
オン交換膜はアルカリ金属水酸化物の製造用に耐え得る
ことがわかっている。
しかしながら、このような膜を１枚だげ略垂直に張設し
て電解を行う２室式電解法においては、得られるアルカ
リ金属水酸化物中のアルカリ金属塩化物含量は未だ数百
〜数千ｐｐｍにも達し、高純度を必要とする市場分野で
の使用に耐えないとされている。最近、この問題を解決
する方法としては、略垂直に張設した陽イオン交換膜と
中性隔膜とをそれぞれ１枚以上用いる多室式電解法が研
究され、提案されている。この方法ｉよれば、水銀法と
同等の低アルカリ金属塩化物含有の高純度なアルカリ金
属水酸化物を製造し得ることが知られている。しかしな
がら、この多室式電解法は下記の如き幾多の欠陥が指摘
出来、工業的に極めて不利な方法といわざるを得ない。
て電解を行う２室式電解法においては、得られるアルカ
リ金属水酸化物中のアルカリ金属塩化物含量は未だ数百
〜数千ｐｐｍにも達し、高純度を必要とする市場分野で
の使用に耐えないとされている。最近、この問題を解決
する方法としては、略垂直に張設した陽イオン交換膜と
中性隔膜とをそれぞれ１枚以上用いる多室式電解法が研
究され、提案されている。この方法ｉよれば、水銀法と
同等の低アルカリ金属塩化物含有の高純度なアルカリ金
属水酸化物を製造し得ることが知られている。しかしな
がら、この多室式電解法は下記の如き幾多の欠陥が指摘
出来、工業的に極めて不利な方法といわざるを得ない。
■膜を２枚以上用いるために、必然的に摺電圧の上昇を
招き、エネルギーコストが大【１１にアップする。
招き、エネルギーコストが大【１１にアップする。
■電解槽構造が複雑化し、設備コストが過大となる。
■電解槽操作が煩雑化し、運転性が悪化する。
本発明者等は、上記従来方法の欠点を克服すべく、略垂
直に張設した陽イオン交換膜を用いる隔膜電解法につき
鋭意研究を重ねた結果、一般に公知な耐酸化性陽イオン
交換膜を用いた隔膜電解法で、アルカリ金属ハロゲン化
物濃度の非常に低い高純度なアルカリ金属水酸化物を工
業的に極めて有利に製造出来る方法を見出した。
直に張設した陽イオン交換膜を用いる隔膜電解法につき
鋭意研究を重ねた結果、一般に公知な耐酸化性陽イオン
交換膜を用いた隔膜電解法で、アルカリ金属ハロゲン化
物濃度の非常に低い高純度なアルカリ金属水酸化物を工
業的に極めて有利に製造出来る方法を見出した。
即ち、本発明は略垂直に張設された陽イオン交換膜によ
り陽極室と陰極室とに分離された竪型電解槽で、アルカ
リ金属ハロゲン化物水溶液を電解してアルカリ金属水酸
化物を製造する方法において、陽極室内の陽極液の上野
流速を０．５ｃｍ／ｓｅｃ以上に保ら、且つ陽極液の出
口を上方向に設は陽極室で発生ずるハロゲンガスが陽極
液と分離する陽極室内に形成させないで電解を行なうこ
とを特徴とするアルカリ金属ハロゲン化物濃度の低い高
純度なアルカリ金属水酸化物の製法を内容とするもので
ある。
り陽極室と陰極室とに分離された竪型電解槽で、アルカ
リ金属ハロゲン化物水溶液を電解してアルカリ金属水酸
化物を製造する方法において、陽極室内の陽極液の上野
流速を０．５ｃｍ／ｓｅｃ以上に保ら、且つ陽極液の出
口を上方向に設は陽極室で発生ずるハロゲンガスが陽極
液と分離する陽極室内に形成させないで電解を行なうこ
とを特徴とするアルカリ金属ハロゲン化物濃度の低い高
純度なアルカリ金属水酸化物の製法を内容とするもので
ある。
本発明者等は、略垂直に張設した陽イオン交換膜を用い
るアルカリ金属ハロゲン化物水涜液の電解によって得ら
れるアルカリ金属水酸化物中のアルカリ金属ハロゲン化
物の混入原因につき、詳細に研究した結果、主たる原因
は、陽極室の上部に形成されるハロゲンガスよりなる気
相部が陽イオン交換膜と接している場合にハロゲンガス
が膜を通って陰極室に拡散し、そのハロゲンガスと陰極
室で生成されるアルカリ金属水酸化物とが直ちに反応し
て、アルカリ金属ハロゲン化物を生成するためであるこ
とをつきとめた。陽イオン交換膜の片側がハロゲンガス
に直接露出した場合、膜の反対側にハロゲンガスが容易
に拡散することは、下記の実験事実より理解出来る。
るアルカリ金属ハロゲン化物水涜液の電解によって得ら
れるアルカリ金属水酸化物中のアルカリ金属ハロゲン化
物の混入原因につき、詳細に研究した結果、主たる原因
は、陽極室の上部に形成されるハロゲンガスよりなる気
相部が陽イオン交換膜と接している場合にハロゲンガス
が膜を通って陰極室に拡散し、そのハロゲンガスと陰極
室で生成されるアルカリ金属水酸化物とが直ちに反応し
て、アルカリ金属ハロゲン化物を生成するためであるこ
とをつきとめた。陽イオン交換膜の片側がハロゲンガス
に直接露出した場合、膜の反対側にハロゲンガスが容易
に拡散することは、下記の実験事実より理解出来る。
第１図に示す如く、内容積１１２ （１０ｃ＋ｎＸ １
０イー・アイ・デュポン・デ・ニモアース・アンド・カ
ンパニー製パーフルオロスルホン酸膜（商品名“ナフィ
オンＸＲ３１５”）（図中記号２）をはさめこんで、３
′及び４′の２つの室を成形させ、室３′に２０％苛性
ソーダを一杯に充填し、室４′に塩素ガスを密圧で１．
２ρ／ｈｒを３時間通気し、その間に２０％苛性ソーダ
中に増加した塩化ナトリウムを測定した所、７３５ ｐ
ｐｍであった。
０イー・アイ・デュポン・デ・ニモアース・アンド・カ
ンパニー製パーフルオロスルホン酸膜（商品名“ナフィ
オンＸＲ３１５”）（図中記号２）をはさめこんで、３
′及び４′の２つの室を成形させ、室３′に２０％苛性
ソーダを一杯に充填し、室４′に塩素ガスを密圧で１．
２ρ／ｈｒを３時間通気し、その間に２０％苛性ソーダ
中に増加した塩化ナトリウムを測定した所、７３５ ｐ
ｐｍであった。
次に、第２図に示す如く、膜２′が水平になる如くし、
王室３′に２０％苛性ソーダを一杯に充填し、上室４′
に半容量の蒸留水を充填し、この水層の上部に塩素ガス
を常圧で１．２ｆｆ／ｈｒを３時間通気し、その間に２
０％苛性ソーダ中に増加した塩化すトリウムを測定した
所、２７ｐｐｍであった。従って、陽極室内の気液分離
により形成されるハロゲンガス相中に陽イオン交換膜が
露出することがないように電解することが、アルカリ金
属ハロゲン化物を殆んど含まない高純度なアルカリ金属
水酸化物を得ることを可能にする要点である。
王室３′に２０％苛性ソーダを一杯に充填し、上室４′
に半容量の蒸留水を充填し、この水層の上部に塩素ガス
を常圧で１．２ｆｆ／ｈｒを３時間通気し、その間に２
０％苛性ソーダ中に増加した塩化すトリウムを測定した
所、２７ｐｐｍであった。従って、陽極室内の気液分離
により形成されるハロゲンガス相中に陽イオン交換膜が
露出することがないように電解することが、アルカリ金
属ハロゲン化物を殆んど含まない高純度なアルカリ金属
水酸化物を得ることを可能にする要点である。
従来から種々発表されている陽イオン交換膜を隔膜とす
る竪型電解槽は、気液分離に関し、二つの型に大別出来
る。一つの型は、電解槽内の上部で気液分離を行わせる
ものであり、他の型は電解槽外の別槽で気液分離を行わ
セるものである。前者は、膜の装着の容易さから膜の上
端は電解槽の上面に付属するフランジ等に装着されるた
め、陽極液上部に形成されるハロゲンガス相に陽イオン
交換膜の上部が露出しているのが一般である。後者にお
いても、ガス中の液ミストを出来るだり少なくすること
と膜面の上部を出来るだけ有９）ｓに使うことを目的と
して行われており、陽極室内の陽極液の上部にハロゲン
ガス相が形成しないような特別な工夫がなされていない
ので、陽極室内の陽極液の上部にハロゲンガス相が形成
されることは避けられず、ハロゲンガス相に陽イオン交
換膜の上部が露出されることには変りがない。
る竪型電解槽は、気液分離に関し、二つの型に大別出来
る。一つの型は、電解槽内の上部で気液分離を行わせる
ものであり、他の型は電解槽外の別槽で気液分離を行わ
セるものである。前者は、膜の装着の容易さから膜の上
端は電解槽の上面に付属するフランジ等に装着されるた
め、陽極液上部に形成されるハロゲンガス相に陽イオン
交換膜の上部が露出しているのが一般である。後者にお
いても、ガス中の液ミストを出来るだり少なくすること
と膜面の上部を出来るだけ有９）ｓに使うことを目的と
して行われており、陽極室内の陽極液の上部にハロゲン
ガス相が形成しないような特別な工夫がなされていない
ので、陽極室内の陽極液の上部にハロゲンガス相が形成
されることは避けられず、ハロゲンガス相に陽イオン交
換膜の上部が露出されることには変りがない。
従って、上記従来方法により略垂直に張設された陽イオ
ン交換膜を隔膜として電解を行う場合は、陽極室で発生
するハロゲンガスが膜を通って陰極室に拡散しアルカリ
金属水酸化物中にアルカリ金属ハロゲン化物が含有され
る結果となる。
ン交換膜を隔膜として電解を行う場合は、陽極室で発生
するハロゲンガスが膜を通って陰極室に拡散しアルカリ
金属水酸化物中にアルカリ金属ハロゲン化物が含有され
る結果となる。
本発明は、略垂直に張設された陽イオン交換膜を陽極液
の上部に形成されるハロゲンガスからなる気相部中に露
出させないために、陽極室内の陽極液の上昇流速を０．
５ｃｍ／ｓｅｃ以上に保ち、陽極室で発生ずるハロゲン
ガスが陽極液と分離することによって生ずるハロゲンガ
スからなる気相を陽極室内で形成させないようにし、電
解槽外の別槽で気液分離を行わせるものである。陽極液
の上昇速度が０．５ｃｍ／ｓｅｃ未満のときは、陽極か
ら発生ずるハロゲンガスの気泡を陽極液がかかえこんだ
状態で陽極室から）ノ）出することが出来ず、陽極室上
部で一部気液分離が行われ、ハロゲンガス相が形成され
る。
の上部に形成されるハロゲンガスからなる気相部中に露
出させないために、陽極室内の陽極液の上昇流速を０．
５ｃｍ／ｓｅｃ以上に保ち、陽極室で発生ずるハロゲン
ガスが陽極液と分離することによって生ずるハロゲンガ
スからなる気相を陽極室内で形成させないようにし、電
解槽外の別槽で気液分離を行わせるものである。陽極液
の上昇速度が０．５ｃｍ／ｓｅｃ未満のときは、陽極か
ら発生ずるハロゲンガスの気泡を陽極液がかかえこんだ
状態で陽極室から）ノ）出することが出来ず、陽極室上
部で一部気液分離が行われ、ハロゲンガス相が形成され
る。
本発明の理解を容易にするために、図面により説明する
。
。
本発明は塩化ナトリウムや塩化カリウムの如きアルカリ
金属塩化物水溶液を略垂直に張設された陽イオン交換膜
を隔膜として電解し、塩素ガスの如きハロゲンガスと水
酸化ナトリウムや水酸化カリウムの如きアルカリ金属水
酸化物を製造する一般的な方法に適用出来る。電解槽外
の別槽で気液分離を行わせる典型的な竪型電解槽を第３
図に示す。陽イオン交換膜１によって２分割された２室
からなり、陽極室２は陽極４を、陰極室３は陰極５を有
し、膜１は極室２及び３の外周のフランジ６により所定
の位置に装着される。アルカリ金属ハロゲン化物水溶／
＆７は、電解液供給口９がら陽極室２内に供給される。
金属塩化物水溶液を略垂直に張設された陽イオン交換膜
を隔膜として電解し、塩素ガスの如きハロゲンガスと水
酸化ナトリウムや水酸化カリウムの如きアルカリ金属水
酸化物を製造する一般的な方法に適用出来る。電解槽外
の別槽で気液分離を行わせる典型的な竪型電解槽を第３
図に示す。陽イオン交換膜１によって２分割された２室
からなり、陽極室２は陽極４を、陰極室３は陰極５を有
し、膜１は極室２及び３の外周のフランジ６により所定
の位置に装着される。アルカリ金属ハロゲン化物水溶／
＆７は、電解液供給口９がら陽極室２内に供給される。
電解によって発生したハロゲンガスは電解されたアルカ
リ金属ハロゲン化物水溶液との混合物として陽極室排出
口１１がら取出される。陰極室ａへは水あるいはアルカ
リ金属水酸化物８が注液口１ｏがら供給され、電解によ
って発生した水素ガスは製品のアルカリ金属水酸化物と
の混合物として陰極室排出口１２がら取出される。陽イ
オン交換膜１は公知の膜が用いられ、一般にこれらの膜
物質は、電解環境に対し物理的及び化学的に安定であり
、がっ、スルホン酸基、カルボン酸基等の活性なカチオ
ン交換基を有する重合体からなる。代表的かつ非常に良
好な性質を持つ膜はイー・アイ・デュポン・デ ニモア
ース・アンＩ−・カンパニー製パーフルオロスルホン酸
膜（商品名、ナフィオン）である。主要な操作条件は特
に限定されるものではないが、約５０〜３３０ ｇ／／
！の濃度のアルカリ金属ハロゲン化物水溶液を供給し、
１０〜７０Δ／ｄｎ（の電流密度で、分解率１０〜７０
％で電解する。得られるアルカリ金属水酸化物の濃度は
１０〜５０％である。
リ金属ハロゲン化物水溶液との混合物として陽極室排出
口１１がら取出される。陰極室ａへは水あるいはアルカ
リ金属水酸化物８が注液口１ｏがら供給され、電解によ
って発生した水素ガスは製品のアルカリ金属水酸化物と
の混合物として陰極室排出口１２がら取出される。陽イ
オン交換膜１は公知の膜が用いられ、一般にこれらの膜
物質は、電解環境に対し物理的及び化学的に安定であり
、がっ、スルホン酸基、カルボン酸基等の活性なカチオ
ン交換基を有する重合体からなる。代表的かつ非常に良
好な性質を持つ膜はイー・アイ・デュポン・デ ニモア
ース・アンＩ−・カンパニー製パーフルオロスルホン酸
膜（商品名、ナフィオン）である。主要な操作条件は特
に限定されるものではないが、約５０〜３３０ ｇ／／
！の濃度のアルカリ金属ハロゲン化物水溶液を供給し、
１０〜７０Δ／ｄｎ（の電流密度で、分解率１０〜７０
％で電解する。得られるアルカリ金属水酸化物の濃度は
１０〜５０％である。
」−記の如き方法によれば、陽極室で発生ずる）１０ケ
ンカスが陽極液と分離することによって生ずるハロゲン
ガスからなる気相中に陽イオン交換膜を露出さセること
なく電解を行うことが出来るので、ハ［Ｉケンガスが膜
を通って陰極室に拡散されず、従一つで水金Ｒ法益みの
低アルカリ金属ハロゲン化物濃度の高純度なアルカリ金
属水酸化物を製造しくＭる。この優れた効果の理由につ
いては、下記の如く説明出来る。
ンカスが陽極液と分離することによって生ずるハロゲン
ガスからなる気相中に陽イオン交換膜を露出さセること
なく電解を行うことが出来るので、ハ［Ｉケンガスが膜
を通って陰極室に拡散されず、従一つで水金Ｒ法益みの
低アルカリ金属ハロゲン化物濃度の高純度なアルカリ金
属水酸化物を製造しくＭる。この優れた効果の理由につ
いては、下記の如く説明出来る。
イオン交換膜は、イオン選択透過性及び成子浸透性には
優れているが、ガス不透過性に対しては必ずしも十分で
はない。従って、ハロゲンガス相中に膜が露出している
と、ハロゲンガスは膜を通って陽極室から陰極室に浸透
、拡散する。陰極室にはアルカリ金属水酸化物が存在す
るので、ハロゲンガスはこれと瞬時に反応し、アルカリ
金属ハロゲン化物とアルカリ金属次亜ハロゲン酸とを生
成する。
優れているが、ガス不透過性に対しては必ずしも十分で
はない。従って、ハロゲンガス相中に膜が露出している
と、ハロゲンガスは膜を通って陽極室から陰極室に浸透
、拡散する。陰極室にはアルカリ金属水酸化物が存在す
るので、ハロゲンガスはこれと瞬時に反応し、アルカリ
金属ハロゲン化物とアルカリ金属次亜ハロゲン酸とを生
成する。
例えば、Ｃ１２＋２ＮａＯＩＩ −ＩＮａＣｌ ＋Ｎａ
Ｃｌ０ ＋ｌｌ２ＯＮａＣｌＯは陰極で直ちにＮａＣｌ
に還元される。
Ｃｌ０ ＋ｌｌ２ＯＮａＣｌＯは陰極で直ちにＮａＣｌ
に還元される。
ＮａＣｌ０ ＋ ）１２０ ＋ ２ｅ−＋ＮａＣｌ ＋
２０１１即ら、陰極室に拡散してきたＣ１２ガスは、
苛性ソーダ中にＮａＣ１として固定される結果となる。
２０１１即ら、陰極室に拡散してきたＣ１２ガスは、
苛性ソーダ中にＮａＣ１として固定される結果となる。
依って、略垂直に張設された膜を通してのハロゲンガス
の浸透、拡散を防ぐために、前記した如く、膜の存在す
る陽極室内に気液分離面を形成させないようにして電Ｉ
Ｗすれば、アルカリ金属水酸化物中のアルカリ金属ハロ
ゲン化物の濃度が顕著に減少する。
の浸透、拡散を防ぐために、前記した如く、膜の存在す
る陽極室内に気液分離面を形成させないようにして電Ｉ
Ｗすれば、アルカリ金属水酸化物中のアルカリ金属ハロ
ゲン化物の濃度が顕著に減少する。
尚、本発明方法は陽極室側に一略垂直に張設したフッ素
樹脂系中性多孔質膜又は陽イオン交換膜を用いる多室式
竪型電解槽にも適用出来、陽極室から膜間室へのハロゲ
ンガスの浸透、拡散を防止し得るので、膜間室液の純度
向上及び陰極室側のイオン交換膜の耐酸化性保護に対し
多大な効力を持つものであることはいうまでもない。
樹脂系中性多孔質膜又は陽イオン交換膜を用いる多室式
竪型電解槽にも適用出来、陽極室から膜間室へのハロゲ
ンガスの浸透、拡散を防止し得るので、膜間室液の純度
向上及び陰極室側のイオン交換膜の耐酸化性保護に対し
多大な効力を持つものであることはいうまでもない。
以下に、本発明を実施例及び比較例に基づいて説明する
。
。
実施例１〜３．比較例１〜２
第３図に示す構造の耐熱塩化ビニール（Ｌ４脂製電解槽
（有効膜面積２０ｃｍＸ２０ｃｍ）におい°ζ、陽極に
Ｔｌ０２−ＲｕＯ２よりなる不溶性電極、陰極にメツシ
ュ状鉄製電極を使用して、飽和食塩水を電解した。電解
隔膜はフッ素樹脂系の陽イメン交換膜゛ナフィオンＸＲ
３１５”を使用した。電解条件は供給食塩水濃度３０５
ｇ／β、供給食塩水Ｐ Ｈ３、食塩水分解率１５％、
電流密度５０Ａ／ｄｍ、電解温度８０℃とし、更に、電
解槽外の気液分離を行わせる別槽との間に陽極液を循環
させることにより、陽極室内の陽極液の上昇流速を０．
２．０゜４’、 ０．５． ０．６． ０．８ｃｍ／ｓ
ｅｅに変化させた。上記条件で電解を行った結果を第１
表に示す。
（有効膜面積２０ｃｍＸ２０ｃｍ）におい°ζ、陽極に
Ｔｌ０２−ＲｕＯ２よりなる不溶性電極、陰極にメツシ
ュ状鉄製電極を使用して、飽和食塩水を電解した。電解
隔膜はフッ素樹脂系の陽イメン交換膜゛ナフィオンＸＲ
３１５”を使用した。電解条件は供給食塩水濃度３０５
ｇ／β、供給食塩水Ｐ Ｈ３、食塩水分解率１５％、
電流密度５０Ａ／ｄｍ、電解温度８０℃とし、更に、電
解槽外の気液分離を行わせる別槽との間に陽極液を循環
させることにより、陽極室内の陽極液の上昇流速を０．
２．０゜４’、 ０．５． ０．６． ０．８ｃｍ／ｓ
ｅｅに変化させた。上記条件で電解を行った結果を第１
表に示す。
第１図及び第２図は、塩素ガスの拡散状況を調べるため
に用いた試験装置の概略断面図。第３図は別槽で気液分
離する竪型電解槽を示す断面図である。
に用いた試験装置の概略断面図。第３図は別槽で気液分
離する竪型電解槽を示す断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、略垂直に張設された陽イオン交換膜により陽極室と
陰極室とに分離された竪型電解槽で、アルカリ金属ハロ
ゲン化物水溶液を電解してアルカリ金属水酸化物を製造
する方法において、陽極室内の陽極液の上昇流速を０．
５ｃｍ／ｓｅｃ以」−に保ち、且つ陽極液の出口を上方
向に設は陽極室で発生するハロゲンガスが陽極液と分ｉ
ｌｌすることによって生ずるハロゲンガスからなる気相
を陽極室内に形成させないで電解を行なうことを特徴と
するアルカリ金属ハロゲン化物濃度の低い高純度なアル
カリ金属水酸化物の製法。 ２、アルカリ金属ハロゲン化物が塩化ブートリウム、ア
ルカリ金属水酸化物が水酸化すトリウム、およびハロゲ
ンガスが塩素ガスである特許請求の範囲第１項記載の語
法。 ３、アルカリ金属ハロケン化物が塩化カリウム、アルカ
リ金属水酸化物が水酸化カリウム、およびハロゲンガス
が塩素ガスである特許請求の範囲第１項記載の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60003114A JPS60187688A (ja) | 1985-01-10 | 1985-01-10 | 高純度なアルカリ金属水酸化物の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60003114A JPS60187688A (ja) | 1985-01-10 | 1985-01-10 | 高純度なアルカリ金属水酸化物の製法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6195276A Division JPS5844749B2 (ja) | 1976-05-27 | 1976-05-27 | 高純度なアルカリ金属水酸化物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60187688A true JPS60187688A (ja) | 1985-09-25 |
| JPS6135277B2 JPS6135277B2 (ja) | 1986-08-12 |
Family
ID=11548321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60003114A Granted JPS60187688A (ja) | 1985-01-10 | 1985-01-10 | 高純度なアルカリ金属水酸化物の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60187688A (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5096472A (ja) * | 1973-12-27 | 1975-07-31 | ||
| JPS50120493A (ja) * | 1974-03-09 | 1975-09-20 | ||
| JPS5143377A (ja) * | 1974-10-09 | 1976-04-14 | Asahi Chemical Ind | |
| JPS5168477A (en) * | 1974-12-10 | 1976-06-14 | Asahi Chemical Ind | Kairyosareta denkaihoho |
| JPS5177586A (ja) * | 1974-12-27 | 1976-07-05 | Daiki Engineering Co | |
| JPS51142497A (en) * | 1975-06-04 | 1976-12-08 | Asahi Chem Ind Co Ltd | The electrolytic bath for sodium chloride |
-
1985
- 1985-01-10 JP JP60003114A patent/JPS60187688A/ja active Granted
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5096472A (ja) * | 1973-12-27 | 1975-07-31 | ||
| JPS50120493A (ja) * | 1974-03-09 | 1975-09-20 | ||
| JPS5143377A (ja) * | 1974-10-09 | 1976-04-14 | Asahi Chemical Ind | |
| JPS5168477A (en) * | 1974-12-10 | 1976-06-14 | Asahi Chemical Ind | Kairyosareta denkaihoho |
| JPS5177586A (ja) * | 1974-12-27 | 1976-07-05 | Daiki Engineering Co | |
| JPS51142497A (en) * | 1975-06-04 | 1976-12-08 | Asahi Chem Ind Co Ltd | The electrolytic bath for sodium chloride |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6135277B2 (ja) | 1986-08-12 |
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