JPS59100278A - ナロ−・ギヤツプガス電極型電解槽 - Google Patents
ナロ−・ギヤツプガス電極型電解槽Info
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- JPS59100278A JPS59100278A JP58156215A JP15621583A JPS59100278A JP S59100278 A JPS59100278 A JP S59100278A JP 58156215 A JP58156215 A JP 58156215A JP 15621583 A JP15621583 A JP 15621583A JP S59100278 A JPS59100278 A JP S59100278A
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- Japan
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- frame
- oxygen
- electrode
- gas
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B9/00—Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
- C25B9/17—Cells comprising dimensionally-stable non-movable electrodes; Assemblies of constructional parts thereof
- C25B9/19—Cells comprising dimensionally-stable non-movable electrodes; Assemblies of constructional parts thereof with diaphragms
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- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Inert Electrodes (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電解槽に関し、とくにガス拡散電極を用いる
電気化学槽に関する。詳しくは、本発明は、いわゆる酸
素陰極を、とくに塩素およびカ性ソーダの製造に用いる
電気化学槽に関する。
電気化学槽に関する。詳しくは、本発明は、いわゆる酸
素陰極を、とくに塩素およびカ性ソーダの製造に用いる
電気化学槽に関する。
多くの従来の電解槽において、槽内の陽極と陰極との間
にセパレーターが付加されており、このセパレーターは
電解槽内の陽極室と陰極室とを定める。一般に、異なる
電解液がこれらの隔室の各々内に存在し、電解液は一般
にその隔室内に存在する特定の電極において起こる反応
に関係ずけられる。たとえば、クロルアルカリ槽におい
て、アルカリ金属塩化物のブライン電解液は陽極室内に
陽極液として存在し、そしてアルカリ金属の水酸化物の
溶液は陰極室内に陰極液として存在する。
にセパレーターが付加されており、このセパレーターは
電解槽内の陽極室と陰極室とを定める。一般に、異なる
電解液がこれらの隔室の各々内に存在し、電解液は一般
にその隔室内に存在する特定の電極において起こる反応
に関係ずけられる。たとえば、クロルアルカリ槽におい
て、アルカリ金属塩化物のブライン電解液は陽極室内に
陽極液として存在し、そしてアルカリ金属の水酸化物の
溶液は陰極室内に陰極液として存在する。
セパレーターの液圧透過性に依存して、陰極液はある量
のアルカリ金属塩化物塩を含むこともできる。
のアルカリ金属塩化物塩を含むこともできる。
このようなクロルアルカリ槽において、塩素は一般に陽
極から発生するが、多くの槽において、水素ガスは陰極
において発生し、この水素はヒドロキシル基を形成する
水の分解反応から生じ、ヒドロキシル基は陽極と陰極と
の間に電流を流すとき、セパレーターを横切るアルカリ
金属イオンと反応する。１つの特定の型の槽、すなわち
、いわゆる酸素陰極槽、において、酸素は陰極における
電気触媒物質とともに存在し、そして酸素は発生する水
素イオンと結合して水を再形成する。気体のＨ２の形成
に関連するエネルギーはこれにより回避され、槽の運転
における電力は実質的に節約される。
極から発生するが、多くの槽において、水素ガスは陰極
において発生し、この水素はヒドロキシル基を形成する
水の分解反応から生じ、ヒドロキシル基は陽極と陰極と
の間に電流を流すとき、セパレーターを横切るアルカリ
金属イオンと反応する。１つの特定の型の槽、すなわち
、いわゆる酸素陰極槽、において、酸素は陰極における
電気触媒物質とともに存在し、そして酸素は発生する水
素イオンと結合して水を再形成する。気体のＨ２の形成
に関連するエネルギーはこれにより回避され、槽の運転
における電力は実質的に節約される。
典型的な酸素陰極型槽において、陽極および酸素陰極は
別々のフレーム内に個々に保持される。
別々のフレーム内に個々に保持される。
セパレーターにより分離されたこれらのフレームは、一
般に、電解液を保持する陽極室と陰極室を定める。セパ
レーターが膜であるとき、この膜はフレームの間に保持
される。セパレーターが多孔質のセパレーターであると
き、それはセパレーター間に保持されるか、あるいは別
々に支持されることができる。セパレーターがフレーム
の間に保持されるとき、それはしばしばガスケット材料
によりフレームから分離される。
般に、電解液を保持する陽極室と陰極室を定める。セパ
レーターが膜であるとき、この膜はフレームの間に保持
される。セパレーターが多孔質のセパレーターであると
き、それはセパレーター間に保持されるか、あるいは別
々に支持されることができる。セパレーターがフレーム
の間に保持されるとき、それはしばしばガスケット材料
によりフレームから分離される。
典型的な酸素陰極槽において、シート様陰極が陰極フレ
ーム上に保持される。陰極は陰極の一方の表面と接触し
、酸素含有ガスは陰極の他方表面と接触する。酸素含有
ガスは、典型的には、陰極フレーム中に含有される通路
を経て導入され、ぞして酸素分が消耗されたガスは同様
に抜き出される。
ーム上に保持される。陰極は陰極の一方の表面と接触し
、酸素含有ガスは陰極の他方表面と接触する。酸素含有
ガスは、典型的には、陰極フレーム中に含有される通路
を経て導入され、ぞして酸素分が消耗されたガスは同様
に抜き出される。
陰極液は、典型的には、陰極液供給フレームを通して導
入され、そして抜き出される。この陰極液供給フレーム
は、一般に、セパレーターと陰極フレームとの間に位置
し、そして陰極とセパレーターとを互いに効果的に離れ
させる。この間隔は、槽内のこの間隔を満たす陰極液を
通過する電流の増大に寄与する。陰極液供給フレームの
厚さに帰因するこの間隔を排除できるならば、電気化学
槽の運転においてかなりの電圧が節約されるであろう。
入され、そして抜き出される。この陰極液供給フレーム
は、一般に、セパレーターと陰極フレームとの間に位置
し、そして陰極とセパレーターとを互いに効果的に離れ
させる。この間隔は、槽内のこの間隔を満たす陰極液を
通過する電流の増大に寄与する。陰極液供給フレームの
厚さに帰因するこの間隔を排除できるならば、電気化学
槽の運転においてかなりの電圧が節約されるであろう。
本発明は、ガス拡散電極型電解槽の改良を提供する。本
発明を用いるガス拡散電極槽は、槽のセパレーターによ
り定められた陽極室および陰極室を含む。ガス拡散電極
は、隔室の少なくとも一方内に位置する。電解槽は隔室
内に含有され、そしてガス拡散電極の表面とセパレータ
ーの表面とに接触する。ガス拡散電極における反応のた
めの成分を含むガスは、槽構造内に含有され、ガス拡散
電極表面と接触する。
発明を用いるガス拡散電極槽は、槽のセパレーターによ
り定められた陽極室および陰極室を含む。ガス拡散電極
は、隔室の少なくとも一方内に位置する。電解槽は隔室
内に含有され、そしてガス拡散電極の表面とセパレータ
ーの表面とに接触する。ガス拡散電極における反応のた
めの成分を含むガスは、槽構造内に含有され、ガス拡散
電極表面と接触する。
この改良は、電極フレームからなる。このフレーム上に
、ガス拡散電極は保持される。このフレームは、ガス拡
散電極の第２表面に隣接してガスを導入しかつガスを抜
き出すための一体通路と、ガス拡散電極の第１表面と接
触させて電解液を導入しおよび／または前記第１表面と
の接触から電解液を抜き出す、別の、一体通路とを含む
。好ましい実施態様において、陰極フレーム上に保持さ
れたガス拡散電極は槽のセパレーターからわずかにガス
ケットの厚さだけ離れている。セパレータが多孔質隔膜
であるとき、ガス拡散電極は電極液の抜き出しおよび導
入を許すために十分な距離だけセパレーターから離れて
いればよい。
、ガス拡散電極は保持される。このフレームは、ガス拡
散電極の第２表面に隣接してガスを導入しかつガスを抜
き出すための一体通路と、ガス拡散電極の第１表面と接
触させて電解液を導入しおよび／または前記第１表面と
の接触から電解液を抜き出す、別の、一体通路とを含む
。好ましい実施態様において、陰極フレーム上に保持さ
れたガス拡散電極は槽のセパレーターからわずかにガス
ケットの厚さだけ離れている。セパレータが多孔質隔膜
であるとき、ガス拡散電極は電極液の抜き出しおよび導
入を許すために十分な距離だけセパレーターから離れて
いればよい。
好ましい実施態様において、ガス拡散電極はクロルアル
カリ槽において用いられる酸素陰極である。セパレータ
ーは多孔質隔膜またはカチオン透過性膜である。セパレ
ーターと酸素陰極との間の間隔は、陰極との接触および
分離の陰極液の流れに十分であるように維持される。
カリ槽において用いられる酸素陰極である。セパレータ
ーは多孔質隔膜またはカチオン透過性膜である。セパレ
ーターと酸素陰極との間の間隔は、陰極との接触および
分離の陰極液の流れに十分であるように維持される。
本発明の改良された電解槽の陰極フレームを利用すると
、セパレーターと陰極フレームとの間に介在する陰極液
供給フレームを排除することができ、その結果、酸素陰
極とセパレーターとの間隔は減少される。この排除は槽
内の陽極と陰極との間隔を効果的に減少し、運転を減少
した電圧において可能とし、そして、槽の運転時の電力
を実質的に節約する。
、セパレーターと陰極フレームとの間に介在する陰極液
供給フレームを排除することができ、その結果、酸素陰
極とセパレーターとの間隔は減少される。この排除は槽
内の陽極と陰極との間隔を効果的に減少し、運転を減少
した電圧において可能とし、そして、槽の運転時の電力
を実質的に節約する。
本発明の前述のおよび他の特徴および利点は、図面を参
照する好ましい実施態様の説明から明らかとなるであろ
う。
照する好ましい実施態様の説明から明らかとなるであろ
う。
図面を参照すると、第１図はナローギャップ（ｎａｒｒ
ｏｗ ｇａｐ）酸素陰極の構造を用いる槽１０の、ヘリ
についての、形状の部分断面図である。
ｏｗ ｇａｐ）酸素陰極の構造を用いる槽１０の、ヘリ
についての、形状の部分断面図である。
この槽は、陽極フレーム１４内に保持された陽極１２と
、陰極フレーム１８内に保持された酸素陰極１６とを含
む。フレーム１４、１８は、セパレーター２１により互
いに分離されている。セパレーター２１は、槽内で、そ
れぞね陽極室２３および陰極室２５を定める機能をする
。
、陰極フレーム１８内に保持された酸素陰極１６とを含
む。フレーム１４、１８は、セパレーター２１により互
いに分離されている。セパレーター２１は、槽内で、そ
れぞね陽極室２３および陰極室２５を定める機能をする
。
陽極は、水性塩ブラインからのハロゲンの電解に有用で
ある適当なあるいは普通の型のいずれであることもでき
る。典型的には、このような陽極は、この分野でよく知
られているような、バルブまたは不動態化耐火金属、た
とえば、チタンから製作された、有孔の性質のものであ
ろう。
ある適当なあるいは普通の型のいずれであることもでき
る。典型的には、このような陽極は、この分野でよく知
られているような、バルブまたは不動態化耐火金属、た
とえば、チタンから製作された、有孔の性質のものであ
ろう。
このような陽極は、典型的には、適当なあるいは普通の
電気触媒、たとえば、白金族金属の酸化物、すなわち、
白金、ロジウム、イリジウム、オスミウム、ルテニウム
およびパラジウムの酸化物をも含み、これは、多分、バ
ルブまたは不動態化耐火金属、たとえば、チタン、ジル
コニウム、ハフニウム、タングステン、タンタル、ニオ
ブ、バナジウムおよびアルミニウムの酸化物と混合され
ている。適当な陽極材料は、たとえは、クロルアルカリ
の製造の実施においてよく知られている。
電気触媒、たとえば、白金族金属の酸化物、すなわち、
白金、ロジウム、イリジウム、オスミウム、ルテニウム
およびパラジウムの酸化物をも含み、これは、多分、バ
ルブまたは不動態化耐火金属、たとえば、チタン、ジル
コニウム、ハフニウム、タングステン、タンタル、ニオ
ブ、バナジウムおよびアルミニウムの酸化物と混合され
ている。適当な陽極材料は、たとえは、クロルアルカリ
の製造の実施においてよく知られている。
また、陽極は、電解槽技術の実施においてよく知られて
いるように、少なくとも１本の導電性支持導体棒２７を
含む。同様に、一般に管状の、陽極フレーム１４は、電
解槽工業内で許容されうる実施に従い、よく知られた材
料から製作され、構成材料は陽極室の内容物の腐食作用
に耐えることができるものである。
いるように、少なくとも１本の導電性支持導体棒２７を
含む。同様に、一般に管状の、陽極フレーム１４は、電
解槽工業内で許容されうる実施に従い、よく知られた材
料から製作され、構成材料は陽極室の内容物の腐食作用
に耐えることができるものである。
セパレーター２１は、適当なあるいは普通の型であるこ
とができ、そして液圧透過性、あるいは実質的に液圧不
透過性であることができ、すなわち、隔膜あるいは膜で
ある。隔膜であるとき、この隔膜は電解槽の分野におい
てよく知られた、適当なあるいは普通の型であることが
できる。この最良の実施態様におけるように、この槽は
ハロゲンの塩のブラインから塩素のようなハロゲンを製
造するものであり、隔膜は原理的にはアスベスト繊維か
ら構成されているものであり、そして適当なあるいは普
通の強化バインダー、たとえば、ポリエチレンテトラフ
ルオロエチレン繊維、一緒に接着されている、またはジ
ルコニウムまたはチタンの酸化物を含むことができる。
とができ、そして液圧透過性、あるいは実質的に液圧不
透過性であることができ、すなわち、隔膜あるいは膜で
ある。隔膜であるとき、この隔膜は電解槽の分野におい
てよく知られた、適当なあるいは普通の型であることが
できる。この最良の実施態様におけるように、この槽は
ハロゲンの塩のブラインから塩素のようなハロゲンを製
造するものであり、隔膜は原理的にはアスベスト繊維か
ら構成されているものであり、そして適当なあるいは普
通の強化バインダー、たとえば、ポリエチレンテトラフ
ルオロエチレン繊維、一緒に接着されている、またはジ
ルコニウムまたはチタンの酸化物を含むことができる。
膜であるとき、この膜は好ましくはカチオンを容易に通
過するが、他の化学種、たとえば、ヒドロキシルアニオ
ンまたは基の動きに対して実質的に抵抗性であるもので
ある。１つの適当な膜は、パーフルオロカーボンのポリ
マーから構成されている。典型的には、このようなパー
フルオロカーボンはカチオン交換機能な付与できる特定
の官能基をもつシートの形で入手でき、あるいは、パー
フルオロカーボンは、それにカチオン交換性を付与でき
る官能基に比較的容易に転化される。一般的に官能的な
基を有するいわゆる中間体の形で入手できる。
過するが、他の化学種、たとえば、ヒドロキシルアニオ
ンまたは基の動きに対して実質的に抵抗性であるもので
ある。１つの適当な膜は、パーフルオロカーボンのポリ
マーから構成されている。典型的には、このようなパー
フルオロカーボンはカチオン交換機能な付与できる特定
の官能基をもつシートの形で入手でき、あるいは、パー
フルオロカーボンは、それにカチオン交換性を付与でき
る官能基に比較的容易に転化される。一般的に官能的な
基を有するいわゆる中間体の形で入手できる。
中量体のポリマーは、フッ素置換部位を含む少なくとも
２種のモノマーから製造される。モノマーの少なくとも
１種は、フッ化ビニル、ヘキサフルオロプロピレン、フ
ッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフ
ルオロエチレン、パーフルオロ（アルキルビニルエーテ
ル）、テトラフルオロエチレンおよびそれらの混合物か
らなる群より選ばれる。
２種のモノマーから製造される。モノマーの少なくとも
１種は、フッ化ビニル、ヘキサフルオロプロピレン、フ
ッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフ
ルオロエチレン、パーフルオロ（アルキルビニルエーテ
ル）、テトラフルオロエチレンおよびそれらの混合物か
らなる群より選ばれる。
モノマーの少なくとも１種は、カチオン交換特性を最終
ポリマーへ付与できる官能基をもつ構成員からなる群よ
り選ばれる。側鎖のスルホニル、カルボニルあるいは、
ある場合において、リン酸に基づく官能基を含有するモ
ノマーは、典型的な例である。縮合エステル、アミドま
たは同じ官能基に基づく塩も同様に利用できる。さらに
、これらの第２群のモノマーは、イオン交換基を容易に
導入できる官能基を含むことができ、これにより、炭素
、窒素、ケイ素、リン、イオウ、塩素、ヒ素、セレン、
またはテルルのオキシ酸、塩または縮合エステルを包含
する。
ポリマーへ付与できる官能基をもつ構成員からなる群よ
り選ばれる。側鎖のスルホニル、カルボニルあるいは、
ある場合において、リン酸に基づく官能基を含有するモ
ノマーは、典型的な例である。縮合エステル、アミドま
たは同じ官能基に基づく塩も同様に利用できる。さらに
、これらの第２群のモノマーは、イオン交換基を容易に
導入できる官能基を含むことができ、これにより、炭素
、窒素、ケイ素、リン、イオウ、塩素、ヒ素、セレン、
またはテルルのオキシ酸、塩または縮合エステルを包含
する。
第２群におけるモノマーの好ましい族には、前駆官能基
ＳＯ２ＦまたはＳＯ３アルキル、ＣＯＦまたはＣＯ２ア
ルキルを含有するスルホニルおよびカルボニル合有モノ
マーがある。このような族の構成員の例は、一般式ＣＦ
２＝ＣＦＳＯ２ＦおよびＣＦ２＝ＣＦＲ１ＳＯ２Ｆ（式
中Ｒ１は通常２〜８個の炭素原子からなるが、場合に応
じて２５個まで炭素原子を有する二官能性過フッ素化基
である）で表わすことができる。
ＳＯ２ＦまたはＳＯ３アルキル、ＣＯＦまたはＣＯ２ア
ルキルを含有するスルホニルおよびカルボニル合有モノ
マーがある。このような族の構成員の例は、一般式ＣＦ
２＝ＣＦＳＯ２ＦおよびＣＦ２＝ＣＦＲ１ＳＯ２Ｆ（式
中Ｒ１は通常２〜８個の炭素原子からなるが、場合に応
じて２５個まで炭素原子を有する二官能性過フッ素化基
である）で表わすことができる。
スルホニル基をコポリマー鎖へ結合する過フッ素化基の
特定の化学的含量および構造は、臨界的でなく、そして
スルホニルまたはカルボニルに基づく基が結合している
炭素原子へ結合したフッ素、塩素または水素原子を有す
ることができるが、スルホニルまたはカルボニルに基づ
く基が結合すろ炭素原子はまた少なくとも１個のフッ素
原子をもたなくてはならない。好ましくは、モノマーは
過フッ素化されている。官能基が連鎖に直接結合してい
るとぎ、官能基が結合している連鎖中の炭素原子はそれ
に結合したフッ素原子をもたなくてはならない。前記式
のＲ１基は、枝分れしているか、あるいは枝分れしてい
ない、すなわち、直鎖である、ことができ、そして１個
またはそれ以上の結合を有することができる、スルボニ
ルまたはカルボニルのフッ化物を含有するコモノマーの
この基中のビニル基はエーテル結合を介してＲ１基へ結
合していること、すなわち、式ＣＦ２＝−ＣＦＯＲ１Ｘ
（式中ＸはＣＯＦまたはＳＯ２Ｆである）をコモノマー
は有すること、が好ましい。このようなフッ化スルホニ
ル含有コモノマーの例は、次のとおりである： ＣＦ２＝ＣＦ０ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｆ、ＣＦ２＝ＣＦＣ
Ｆ２ＣＦ２ＳＯ２Ｆ、 前述のフッ化スルホニルおよびフッ化カルボニルの対応
エステルは、同等に好ましい。
特定の化学的含量および構造は、臨界的でなく、そして
スルホニルまたはカルボニルに基づく基が結合している
炭素原子へ結合したフッ素、塩素または水素原子を有す
ることができるが、スルホニルまたはカルボニルに基づ
く基が結合すろ炭素原子はまた少なくとも１個のフッ素
原子をもたなくてはならない。好ましくは、モノマーは
過フッ素化されている。官能基が連鎖に直接結合してい
るとぎ、官能基が結合している連鎖中の炭素原子はそれ
に結合したフッ素原子をもたなくてはならない。前記式
のＲ１基は、枝分れしているか、あるいは枝分れしてい
ない、すなわち、直鎖である、ことができ、そして１個
またはそれ以上の結合を有することができる、スルボニ
ルまたはカルボニルのフッ化物を含有するコモノマーの
この基中のビニル基はエーテル結合を介してＲ１基へ結
合していること、すなわち、式ＣＦ２＝−ＣＦＯＲ１Ｘ
（式中ＸはＣＯＦまたはＳＯ２Ｆである）をコモノマー
は有すること、が好ましい。このようなフッ化スルホニ
ル含有コモノマーの例は、次のとおりである： ＣＦ２＝ＣＦ０ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｆ、ＣＦ２＝ＣＦＣ
Ｆ２ＣＦ２ＳＯ２Ｆ、 前述のフッ化スルホニルおよびフッ化カルボニルの対応
エステルは、同等に好ましい。
好ましい中間体のコポリマーはパーフルオロカーボン、
すなわち、過フッ素化されたもの、であろが、スルホニ
ル基またはカルボニル基が結合している炭素原子へフッ
素原子が結合している、他のものを使用できる。高度に
好ましいコポリマーは、テトラフルオロエチレンおよび
パーフルオロ（３，６−ジオキサ−４−メチル−７−オ
クテンスルホニルフルオライド）とからなり、後者のモ
ノマーが１０〜６０重量％、好ましくは２５〜４０重量
％である、ものである。
すなわち、過フッ素化されたもの、であろが、スルホニ
ル基またはカルボニル基が結合している炭素原子へフッ
素原子が結合している、他のものを使用できる。高度に
好ましいコポリマーは、テトラフルオロエチレンおよび
パーフルオロ（３，６−ジオキサ−４−メチル−７−オ
クテンスルホニルフルオライド）とからなり、後者のモ
ノマーが１０〜６０重量％、好ましくは２５〜４０重量
％である、ものである。
これらの過フッ素化コポリマーは、ある数のよく知られ
たモノマー、たとえば、米国特許第３，０４１，３１７
号、同第２，６９３，９６７号、同第２，５５９，７５
２号および同第２，５９３，５８３号中に示されかつ記
載されているもののいずれであることもできる。
たモノマー、たとえば、米国特許第３，０４１，３１７
号、同第２，６９３，９６７号、同第２，５５９，７５
２号および同第２，５９３，５８３号中に示されかつ記
載されているもののいずれであることもできる。
中間体のコポリマーは、スルホニル基まだはカルボニル
基（−ＳＯ２Ｆまたは−ＳＯ３アルキルおよび−ＣＯＦ
または−ＣＯ２アルキル）をけん化などにより−ＳＯ３
ＺまたはーＣＯ２Ｚ（式中Ｚは水素、アルカリ金属、ア
ミン、アンモニウムのイオンまたは塩、またはアルカリ
土類金属である）の形に転化することにより、イオン交
換部位を含有するコポリマーに容易に変えられる。転化
されたコポリマーは、コポリマーの側鎖中に含有されか
つ少なくとも１個の結合されたフッ素原子を有する炭素
原子へ結合した、スルボニル基またはカルボニル基に基
づくイオン交換部位を含有する。中間体のコポリマー中
のスルホニル基またはカルボニル基のすべてを転化する
必要はない。転化は、適当なあるいは普通の方法で、た
とえば、米国特許第３，７７０，５４７号および同第３
，７８４，３９９号中に示されているようにして、達成
できる。
基（−ＳＯ２Ｆまたは−ＳＯ３アルキルおよび−ＣＯＦ
または−ＣＯ２アルキル）をけん化などにより−ＳＯ３
ＺまたはーＣＯ２Ｚ（式中Ｚは水素、アルカリ金属、ア
ミン、アンモニウムのイオンまたは塩、またはアルカリ
土類金属である）の形に転化することにより、イオン交
換部位を含有するコポリマーに容易に変えられる。転化
されたコポリマーは、コポリマーの側鎖中に含有されか
つ少なくとも１個の結合されたフッ素原子を有する炭素
原子へ結合した、スルボニル基またはカルボニル基に基
づくイオン交換部位を含有する。中間体のコポリマー中
のスルホニル基またはカルボニル基のすべてを転化する
必要はない。転化は、適当なあるいは普通の方法で、た
とえば、米国特許第３，７７０，５４７号および同第３
，７８４，３９９号中に示されているようにして、達成
できる。
スルホニルに基づくカチオン交換官能基を有するコポリ
マーのパーフルオロカーボンから作られたセパレーター
は、陰極から陽極への水酸化ナトリウムの逆移動に対し
て比較的低い抵抗を有するが、このような膜は他の力性
化合物、たとえば、ＫＯＨの逆移動に対して抵抗性であ
る。ある種の膜はパーフルオロカーボンの隣接層を使用
し、一方の層は側面のカルボニル誘導官能性を有し、そ
して他方の層は側面のスルホニル誘導官能性を有する。
マーのパーフルオロカーボンから作られたセパレーター
は、陰極から陽極への水酸化ナトリウムの逆移動に対し
て比較的低い抵抗を有するが、このような膜は他の力性
化合物、たとえば、ＫＯＨの逆移動に対して抵抗性であ
る。ある種の膜はパーフルオロカーボンの隣接層を使用
し、一方の層は側面のカルボニル誘導官能性を有し、そ
して他方の層は側面のスルホニル誘導官能性を有する。
官能性のカルボニル誘導層は、逆移動に対する追加の抵
抗性を提供するが、また所望のカチオン移動に対する追
加の抵抗性を提供する。スルボニル誘導側鎖官能性を有
するパーフルオロカーボンの層形成は、カルボニル層を
所望のように薄く、逆移動に抵抗性であるように、カル
ボニル層の製作を可能とするばかりであるが、構成され
た膜の強さを犠牲にしないで所望のカチオン移動を限界
的に妨害するだけである。
抗性を提供するが、また所望のカチオン移動に対する追
加の抵抗性を提供する。スルボニル誘導側鎖官能性を有
するパーフルオロカーボンの層形成は、カルボニル層を
所望のように薄く、逆移動に抵抗性であるように、カル
ボニル層の製作を可能とするばかりであるが、構成され
た膜の強さを犠牲にしないで所望のカチオン移動を限界
的に妨害するだけである。
１つの好ましい実施態様において、スルホニル誘導区域
は、−Ｒ１ＳＯ２ＮＨＲ２（式中Ｒ２は水素、アルキル
、置換アルキル、芳香族または環式炭化水素または金属
イオンであることかできる）の形のスルホンアミド官能
性であることができる、側鎖の官能基を含有するパーフ
ルオロカーボンを含むことがてきる。スルホンアミドに
基づくイオン交換膜を提供ずろ方法は、米国特許第３，
９６９，２８５号および同第４，１１１，５８５号中に
示されている。
は、−Ｒ１ＳＯ２ＮＨＲ２（式中Ｒ２は水素、アルキル
、置換アルキル、芳香族または環式炭化水素または金属
イオンであることかできる）の形のスルホンアミド官能
性であることができる、側鎖の官能基を含有するパーフ
ルオロカーボンを含むことがてきる。スルホンアミドに
基づくイオン交換膜を提供ずろ方法は、米国特許第３，
９６９，２８５号および同第４，１１１，５８５号中に
示されている。
側鎖のカルボキシレートのカチオン交換官能基を有する
コポリマーのパーフルオロカーボンは、適当なあるいは
普通の方法において、たとえば、米国特許第４，１５１
，１５３号または特願昭５２−３８４８６号に従い製造
することができ、あるいはスルホニル含有モノマーから
誘導されたカルボニル官能基含有モノマーから、米国特
許第４，１５１，０５３号中に示されているような方法
により、重合することができる。好ましいカルボニル含
有モノマーの例は、次の通りである：ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ
−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）２ＣＯＯＣＨおよ
びＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２Ｃ
ＯＯＣＨ３。
コポリマーのパーフルオロカーボンは、適当なあるいは
普通の方法において、たとえば、米国特許第４，１５１
，１５３号または特願昭５２−３８４８６号に従い製造
することができ、あるいはスルホニル含有モノマーから
誘導されたカルボニル官能基含有モノマーから、米国特
許第４，１５１，０５３号中に示されているような方法
により、重合することができる。好ましいカルボニル含
有モノマーの例は、次の通りである：ＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ
−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）２ＣＯＯＣＨおよ
びＣＦ２＝ＣＦ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２Ｃ
ＯＯＣＨ３。
したがって、本発明において使用する好ましいコポリマ
ーのパーフルオロ炭化水素は、次の基を含む：式−−Ｏ
ＣＦ２ＣＦ２Ｘおよび／または−−ＯＣＦ２ＣＦ２Ｙ−
Ｏ−ＹＣＦ２ＣＦ２Ｏ−−［式中Ｘはフッ化スルホニル
（ＳＯ２Ｆ）、フッ化カルボニル（ＣＯＦ）、スルホネ
ートメチルエステル（ＳＯ２ＯＣＨ３カルボキシレート
メチルエステル（ＣＯＯＣＨ３）、一般的形（Ｒ１ＳＯ
２ＮＨＲ２）のスルホンアミド、イオン性力ルボキシレ
ート（ＣＯＯ−Ｚ＋）またはイオン性スルホネート（Ｓ
Ｏ３−Ｚ＋）であり、Ｙはスルホニルまたはカルボニル
（−ＳＯ２−−ＣＯ−）であり、そしてＺは水素、アル
カリ金属、たとえば、リチウム、セシウム、ルビジウム
、カリウムおよびナトリウム、アルカリ土類金属、たと
えはバリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロン
チウム、バリウムおよびラジウム、アミンまたはアンモ
ニウムのイオンまたは塩である〕で表わされるカルボニ
ルおよび／またはスルホニルに基づく基。
ーのパーフルオロ炭化水素は、次の基を含む：式−−Ｏ
ＣＦ２ＣＦ２Ｘおよび／または−−ＯＣＦ２ＣＦ２Ｙ−
Ｏ−ＹＣＦ２ＣＦ２Ｏ−−［式中Ｘはフッ化スルホニル
（ＳＯ２Ｆ）、フッ化カルボニル（ＣＯＦ）、スルホネ
ートメチルエステル（ＳＯ２ＯＣＨ３カルボキシレート
メチルエステル（ＣＯＯＣＨ３）、一般的形（Ｒ１ＳＯ
２ＮＨＲ２）のスルホンアミド、イオン性力ルボキシレ
ート（ＣＯＯ−Ｚ＋）またはイオン性スルホネート（Ｓ
Ｏ３−Ｚ＋）であり、Ｙはスルホニルまたはカルボニル
（−ＳＯ２−−ＣＯ−）であり、そしてＺは水素、アル
カリ金属、たとえば、リチウム、セシウム、ルビジウム
、カリウムおよびナトリウム、アルカリ土類金属、たと
えはバリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロン
チウム、バリウムおよびラジウム、アミンまたはアンモ
ニウムのイオンまたは塩である〕で表わされるカルボニ
ルおよび／またはスルホニルに基づく基。
膜は適当なあるいは普通の手段、たとえば、押出し、カ
レンダー加工、溶液コーティングなどにより形成するこ
とができる。コポリマー材料内に強化用骨相を用いるこ
とは、有利であることがある。この細組は適当なあるい
は普通の種類のもの、たとえば、ＴＥＦＬＯＮメッシュ
などであることができる。異なる側鎖の官能基を含有す
るコポリマーの層を、よく知られた方法において、加熱
および圧力下に積層して、各膜表面にかつ各ラミネート
を通して所望の官能基の性質を有する膜を有する膜を製
造することができる。塩素を発生する槽のためには、こ
のような膜は一般に１〜１５０ミル、好ましくは４〜１
０ミルの範囲の厚さを有する。
レンダー加工、溶液コーティングなどにより形成するこ
とができる。コポリマー材料内に強化用骨相を用いるこ
とは、有利であることがある。この細組は適当なあるい
は普通の種類のもの、たとえば、ＴＥＦＬＯＮメッシュ
などであることができる。異なる側鎖の官能基を含有す
るコポリマーの層を、よく知られた方法において、加熱
および圧力下に積層して、各膜表面にかつ各ラミネート
を通して所望の官能基の性質を有する膜を有する膜を製
造することができる。塩素を発生する槽のためには、こ
のような膜は一般に１〜１５０ミル、好ましくは４〜１
０ミルの範囲の厚さを有する。
膜を製造するとき、使用するコポリマーの中間体の当量
範囲は、重要である。より低い当量の中間体のコポリマ
ーを使用するとき、膜は槽の化学により溶解のような破
壊的攻撃にさらされることがある。過度に高い当量のコ
ポリマーを使用すると、膜はカチオンを十分に容易に通
過させず、種運転時に許容されえないほどに高い電気抵
抗を生ずることがある。コポリマー中間体の当量は、好
ましくは、スルホニルに基づく膜材料について約１００
０〜１５００の範囲であり、そしてカルボニルに基づく
膜材料について約９００〜１５００の範囲であることが
わがった。
範囲は、重要である。より低い当量の中間体のコポリマ
ーを使用するとき、膜は槽の化学により溶解のような破
壊的攻撃にさらされることがある。過度に高い当量のコ
ポリマーを使用すると、膜はカチオンを十分に容易に通
過させず、種運転時に許容されえないほどに高い電気抵
抗を生ずることがある。コポリマー中間体の当量は、好
ましくは、スルホニルに基づく膜材料について約１００
０〜１５００の範囲であり、そしてカルボニルに基づく
膜材料について約９００〜１５００の範囲であることが
わがった。
膜２１は、一般に、陽極フレーム１４と陰極フレーム１
８との間に圧縮して保持されろ。適当なあるいは普通り
保持手段を利用できる。またはそれ以上のガスケット２
７．２８は、一般に、保持された膜を密封および保護す
るために使用され、ＥＰＤＭ（Ｒ）、Ｈｙｐａｌｏｎ（
Ｒ）、またはＮｅｏｐｒｅｎｅ（Ｒ）は、一般に、許容
されうる材料であり、後二者はイー・アイ・デュポン社
から市販されている。
８との間に圧縮して保持されろ。適当なあるいは普通り
保持手段を利用できる。またはそれ以上のガスケット２
７．２８は、一般に、保持された膜を密封および保護す
るために使用され、ＥＰＤＭ（Ｒ）、Ｈｙｐａｌｏｎ（
Ｒ）、またはＮｅｏｐｒｅｎｅ（Ｒ）は、一般に、許容
されうる材料であり、後二者はイー・アイ・デュポン社
から市販されている。
陰極フレームは、酸素陰極１６を受容ずろ、形成された
みぞ３０、流路またはノッチを含む。みぞ３０中に受容
されるように造形された保持器３２は、酸素陰極なみぞ
中に保持し、これにより陰極フレーム上に酸素陰極を圧
力下に配置かつ保持するために使用される。適当なまた
は普通のファスナ一手段、たとえば、機械ねじ、キャッ
プねじまたはソケットねじ３４は、陰極フレーム１８上
にねじ込まれて受容され、保持器３０を陰極フレーム１
８へ固定する。
みぞ３０、流路またはノッチを含む。みぞ３０中に受容
されるように造形された保持器３２は、酸素陰極なみぞ
中に保持し、これにより陰極フレーム上に酸素陰極を圧
力下に配置かつ保持するために使用される。適当なまた
は普通のファスナ一手段、たとえば、機械ねじ、キャッ
プねじまたはソケットねじ３４は、陰極フレーム１８上
にねじ込まれて受容され、保持器３０を陰極フレーム１
８へ固定する。
陰極フレームは、少なくとも１つの一体ガス供給路４１
と少なくとも１つの一体ガス戻り路４３とを合む。第１
図を参照すると明らかなように、これらの供給路および
戻り路は陰極フレームに対して一体であるガス陰極室４
７とガス流連絡するように一体ガス流路４５．４６を用
いて配置される。通路４１．４３、流路４５．４６およ
び室４７を用いると、酸素含有ガスは酸素陰極１６の表
面と接触するように導入され、次いで抜き生されること
ができる。一般に、単一通路４１．４３は複数の流路４
５．４６から供給を受ける。
と少なくとも１つの一体ガス戻り路４３とを合む。第１
図を参照すると明らかなように、これらの供給路および
戻り路は陰極フレームに対して一体であるガス陰極室４
７とガス流連絡するように一体ガス流路４５．４６を用
いて配置される。通路４１．４３、流路４５．４６およ
び室４７を用いると、酸素含有ガスは酸素陰極１６の表
面と接触するように導入され、次いで抜き生されること
ができる。一般に、単一通路４１．４３は複数の流路４
５．４６から供給を受ける。
陰極フレーム１８は、また、電解液を酸素陰極１６の他
方の表面と赫触させるように導入し、および／または陰
極室２５から抜ぎ出ずための、少なくとも１つの通路５
０および流路５１を含む。
方の表面と赫触させるように導入し、および／または陰
極室２５から抜ぎ出ずための、少なくとも１つの通路５
０および流路５１を含む。
典型的には、陰極フレームは、単一の陰極室２５かも供
給される、複数のガス陰極室４７および酸素陰極１６を
含む。電解液は、通路５０および流路５１を用いて導入
される場合、陰極フレーム１８の両端（図示せず）にお
いて抜き出される。
給される、複数のガス陰極室４７および酸素陰極１６を
含む。電解液は、通路５０および流路５１を用いて導入
される場合、陰極フレーム１８の両端（図示せず）にお
いて抜き出される。
第２ａ図および第２ｂ図を参照すると、複数の流路５１
を使用して単一の通路５０に供給することが可能である
ことがわかる。第３ａ図および第３ｂ図を参照すると、
陰極フレーム中にねじ込まれて受容されるねじ３４は中
空であって電解液通路５１′を形成することができるこ
とがわかる。
を使用して単一の通路５０に供給することが可能である
ことがわかる。第３ａ図および第３ｂ図を参照すると、
陰極フレーム中にねじ込まれて受容されるねじ３４は中
空であって電解液通路５１′を形成することができるこ
とがわかる。
便宜上、陰極フレーム１８は部分１８′、１８″でで製
造し、適当なあるいは普通の手段により接合して、陰極
フレームとして使用できる。製造法を無視して、酸素陰
極に１６はセパレーター２１から、ガスケット２７、使
用する場合、厚さだけ、あるいは必要な量の電解液を通
過するために十分な空間だけ、間隔を置いて位置させれ
ばよい。酸素陰極１６とセパレーター２１との間の距離
を増加させる、電解液のための別の供給フレームは不必
である。
造し、適当なあるいは普通の手段により接合して、陰極
フレームとして使用できる。製造法を無視して、酸素陰
極に１６はセパレーター２１から、ガスケット２７、使
用する場合、厚さだけ、あるいは必要な量の電解液を通
過するために十分な空間だけ、間隔を置いて位置させれ
ばよい。酸素陰極１６とセパレーター２１との間の距離
を増加させる、電解液のための別の供給フレームは不必
である。
酸素陰極は適当なあるいは普通の形状であることができ
る。典型的には、クロルアルカリ槽について、酸素陰極
は陰極室２５内で電解液と向かい合うポリテトラフルオ
ロエチレン防水層、およびしばしば吸着された金属触媒
化合物を有する炭素粒子およびフィブリル化されていて
もよい、ポリテトラフルオロエチレン、を通常含む触媒
層のラミネートである。酸素陰極は、導電性格子を含む
こともできる。陰極１６は陰極フレーム１８全体にわた
るシートとして形成することもできるが、それは複数の
明確な小さいシートに分離し、各シートは陰極フレーム
上に保持されて、単一のガス室４７をカバーする。
る。典型的には、クロルアルカリ槽について、酸素陰極
は陰極室２５内で電解液と向かい合うポリテトラフルオ
ロエチレン防水層、およびしばしば吸着された金属触媒
化合物を有する炭素粒子およびフィブリル化されていて
もよい、ポリテトラフルオロエチレン、を通常含む触媒
層のラミネートである。酸素陰極は、導電性格子を含む
こともできる。陰極１６は陰極フレーム１８全体にわた
るシートとして形成することもできるが、それは複数の
明確な小さいシートに分離し、各シートは陰極フレーム
上に保持されて、単一のガス室４７をカバーする。
それ以上の酸素陰極を収容し、５５に配置し、ガスおよ
び電解液の副流路４５″、４６″、５１″で第１図に示
すように供給することができることは、明らかであろう
。隔膜が多孔質であるかあるいは液圧透過性であるとき
、明らかなように、電解液の抜き出し通路５０および５
１のみが必要であり、電解液は陽極室から隔膜を通る物
質の流れにより供給される。等しく膜のセパレーターを
用いるとき、クロルアルカリ槽を用いるとき陰極室２５
へ水を加えて、電解液の強度を最適とすることが望まし
いであろう。
び電解液の副流路４５″、４６″、５１″で第１図に示
すように供給することができることは、明らかであろう
。隔膜が多孔質であるかあるいは液圧透過性であるとき
、明らかなように、電解液の抜き出し通路５０および５
１のみが必要であり、電解液は陽極室から隔膜を通る物
質の流れにより供給される。等しく膜のセパレーターを
用いるとき、クロルアルカリ槽を用いるとき陰極室２５
へ水を加えて、電解液の強度を最適とすることが望まし
いであろう。
明らかなように、槽の形状を逆転させ、ガス陽極を形成
することができる。このような場合において、セパレー
ター２１とガス陽極との間隔は、電極フレームに対して
一体の本発明の電解通路を用いて、同様に減少すること
ができる。
することができる。このような場合において、セパレー
ター２１とガス陽極との間隔は、電極フレームに対して
一体の本発明の電解通路を用いて、同様に減少すること
ができる。
第１図は、本発明の改良された槽のヘリについての部分
断面側面図である。 第２ａ図および第２ｂ図は、電解液の供給／抜き出し通
路の１つの形状の断面図である。 第６ａ図および第３ｂ図は、電解液の供給／抜き出し通
路の他の形状の断面図である。 １０：電解槽 １２：陽極 １４：陽極フレーム １６：酸素陰極 １８：陰極フレーム ２１：セパレーター ２６：陽極室 ２５：陰極室 ２７：ガスケット ２８：ガスケット ３０：みぞ ３２：保持器 ３４：ねじ ４１：一体ガス供給路 ４３：一体ガス戻り路 ４５：一体ガス流路 ４６：一体ガス流路 ４７：ガス陰極室 ５０：通路 ５１：流路 １８′：部分 １８″：部分 ４５″：ガスおよび電解液の副流路 ４６″：ガスお び電解液の副流路 ５１′：電解液通路 ５１″：ガスおよび電解液の副流路 ＦＩＧ、２Ａ ＦＩＧ、３Ａ ＦＩＧ ３Ｂ 手続補正書（方式） 昭和 へ−ざ年ノ２月２消ヨ 特許Ｆ’ｊ長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和（１年 γＳ；ｌｆ願第 バー乙２／、ｒ 号３
補正をする者 事件との関係 出 願 人 住所 八４ ウ“’） ７’／Ｌ ７°−ｕ、 □ Ａ” ＜
・’−（、？ｌ−７’／）４代理人 ６補正の対象 ・−４
０５−
断面側面図である。 第２ａ図および第２ｂ図は、電解液の供給／抜き出し通
路の１つの形状の断面図である。 第６ａ図および第３ｂ図は、電解液の供給／抜き出し通
路の他の形状の断面図である。 １０：電解槽 １２：陽極 １４：陽極フレーム １６：酸素陰極 １８：陰極フレーム ２１：セパレーター ２６：陽極室 ２５：陰極室 ２７：ガスケット ２８：ガスケット ３０：みぞ ３２：保持器 ３４：ねじ ４１：一体ガス供給路 ４３：一体ガス戻り路 ４５：一体ガス流路 ４６：一体ガス流路 ４７：ガス陰極室 ５０：通路 ５１：流路 １８′：部分 １８″：部分 ４５″：ガスおよび電解液の副流路 ４６″：ガスお び電解液の副流路 ５１′：電解液通路 ５１″：ガスおよび電解液の副流路 ＦＩＧ、２Ａ ＦＩＧ、３Ａ ＦＩＧ ３Ｂ 手続補正書（方式） 昭和 へ−ざ年ノ２月２消ヨ 特許Ｆ’ｊ長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和（１年 γＳ；ｌｆ願第 バー乙２／、ｒ 号３
補正をする者 事件との関係 出 願 人 住所 八４ ウ“’） ７’／Ｌ ７°−ｕ、 □ Ａ” ＜
・’−（、？ｌ−７’／）４代理人 ６補正の対象 ・−４
０５−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、槽のセパレーターにより定めらねた陽極室と陰極室
とを有し、かつ、陽極室および陰極室の少なくとも一方
向にセパレーターから間隔を置いて位置するガス拡散電
極を有し、ガス室内の電解液は電極の一方の表面と接触
し、そして反応成分含有ガスは電極の他方の表面と接触
する、ガス拡散電極型電解槽において、電極フレームを
含み、ガス拡散電極は前記フレーム上に保持され、前記
フレームはガスをガス拡散電極の一方の表面に隣接させ
て維持するための一体通路と、電解液をガス拡散電極の
他方の表面に隣接させて維持する別の一体通路とを含む
、ことを特徴とする、ガス拡散型電解槽。 ２、流路が電極フレームの周囲に形成されており、ガス
拡散電極の少なくともへり部分は前記流路内に受容され
ており、そして陰極フレームは流路内に受容された少な
くとも１つの保持器と、前記保持器を電極フレームへ固
定するための少なくとも１つのファスナーとを含み、こ
れによりガス拡散電極を電極フレーム上に保持する、特
許請求の範囲第１項記載の電解槽。 ３、ファスナーは中空であり、そして一体通路の少なイ
とも一部分からなり、前記部分により電解液はガス拡散
電極に隣接して維持される、特許請求の範囲第２項記載
の電解槽。 ４、槽のセパレーターにより定められた陽極室と陰極室
とを有し、かつ、陰極室内にセパレーターから間隔を置
いて位置する酸素陰極を有し、陰極室内の電解液は酸素
電極の一方の表面と接触し、そして酸素含有ガスは陰極
の他方の表面と接触する、酸素陰極型電解槽において、
陰極フレームを含み、酸素陰極は前記フレーム上に保持
されており、前記フレームは酸素含有ガスを酸素陰極の
一方の表面に隣接させて維持する一体通路と、陰極液を
酸素陰極の他方の表面に隣接させて維持する別の一体通
路とを含む、ことを特徴とする、酸素陰極型電解槽。 ５、流路が陰極フレームの周囲に形成されており酸素陰
極の少なくともヘリ部分は前記流路内に受容された少な
くとも１つの保持器と、前記保持器を陰極フレームへ固
定するための少なくとも１つのファスナーとを含み、こ
れにより酸素ガス陰極を陰極フレーム上に保持する、特
許請求の範囲第４項記載の電解槽。 ６、ファスナーは中空であり、そして一体通路の少なく
とも一部分からなり、前記部分により陰極液は酸素陰極
に隣接して維持される、特許請求の範囲第５項記載の電
解槽。 ７、ガスケットの厚さが電解槽内のセパレーターとガス
拡散電極との間の間隔である、特許請求の範囲第１〜６
項のいずれかに記載の電極。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/411,895 US4436608A (en) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | Narrow gap gas electrode electrolytic cell |
| US411895 | 1982-08-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59100278A true JPS59100278A (ja) | 1984-06-09 |
| JPH0573834B2 JPH0573834B2 (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=23630736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58156215A Granted JPS59100278A (ja) | 1982-08-26 | 1983-08-26 | ナロ−・ギヤツプガス電極型電解槽 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4436608A (ja) |
| EP (1) | EP0104137B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59100278A (ja) |
| AT (1) | ATE38861T1 (ja) |
| DE (1) | DE3378539D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05271974A (ja) * | 1992-03-26 | 1993-10-19 | Choichi Furuya | ガス拡散電極を用いるイオン交換膜法電解槽 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3425862A1 (de) * | 1984-07-13 | 1986-01-23 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Elektrolysezelle mit horizontal angeordneten elektroden |
| DE3439265A1 (de) * | 1984-10-26 | 1986-05-07 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Elektrolyseapparat mit horizontal angeordneten elektroden |
| US4758317A (en) * | 1986-11-20 | 1988-07-19 | Fmc Corporation | Process and cell for producing hydrogen peroxide |
| JPH08302492A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-19 | Permelec Electrode Ltd | ガス拡散電極を使用する電解槽 |
| DE19545332A1 (de) * | 1995-12-05 | 1997-06-12 | Karl Lohrberg | Elektrolytzelle |
| DE19646950A1 (de) * | 1996-11-13 | 1998-05-14 | Bayer Ag | Elektrochemische Gasdiffusionshalbzelle |
| US6753584B1 (en) | 1997-08-21 | 2004-06-22 | Micron Technology, Inc. | Antireflective coating layer |
| EP1041176A4 (en) * | 1998-10-13 | 2006-05-31 | Toagosei Co Ltd | METHOD FOR REDUCING THE LOAD IN A GAS DIFFUSION ELECTRODE AND CHARGE REDUCING STRUCTURE |
| US6368472B1 (en) | 1998-11-04 | 2002-04-09 | Mcguire Byron Duvon | Electrolytic chemical generator |
| DE10108452C2 (de) * | 2001-02-22 | 2003-02-20 | Karl Lohrberg | Elektrolyseeinrichtung |
| DE10143410A1 (de) * | 2001-09-05 | 2003-03-27 | Rossendorf Forschzent | Biomaterial und Verfahren zu dessen Herstellung |
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| JPH0573834B2 (ja) | 1993-10-15 |
| EP0104137A2 (en) | 1984-03-28 |
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