JPS60183599A - Ｘ線コリメ−タ - Google Patents
Ｘ線コリメ−タInfo
- Publication number
- JPS60183599A JPS60183599A JP59038731A JP3873184A JPS60183599A JP S60183599 A JPS60183599 A JP S60183599A JP 59038731 A JP59038731 A JP 59038731A JP 3873184 A JP3873184 A JP 3873184A JP S60183599 A JPS60183599 A JP S60183599A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- collimator
- temperature
- frame
- solar
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発明は、Ｘ線コリメータに関し、特に軟Ｘ線用のコリ
メータに関する。
メータに関する。
′［従来技術］
熊に、Ｘ線源は、Ｘ線分析装置等の分野に用いられてい
るか、近年ＬＳＩ￥の１′・９体製造の分野においても
、９ブミクロン線幅の微細バターニングを行う軟Ｘ線錨
光装♂１の露光源として用いられている。Ｘ線コリメー
タは、このようなＸ線分析装置、Ｘ線露光装置等におい
てＸ線源からのＸ線を１１行化するために用いられる。
るか、近年ＬＳＩ￥の１′・９体製造の分野においても
、９ブミクロン線幅の微細バターニングを行う軟Ｘ線錨
光装♂１の露光源として用いられている。Ｘ線コリメー
タは、このようなＸ線分析装置、Ｘ線露光装置等におい
てＸ線源からのＸ線を１１行化するために用いられる。
Ｘ線露光方式は、紫外光などの光露光を行う方式に比べ
て、ｌｉｉ ｔ／ｉや１；渉、反則なとによる解像度の
低ドがはとんとないので、木質的に微細パターンの転写
が容易であり、また高アスペクト比の転げパターンガｉ
ｔ＋られるという利点があるか、他力ではレジストの感
度不足やＸ線源の低効率のためにスループントが低いと
いう不都合かある。具体的には、Ｘ線０；（は、アメ−
１・であるターゲットが固定式の場合には６ＫＷ、回転
式の場合には２ＣＩＫＷ程度の入力重力を必要とし、更
により強いＸＶｊ、源が要求されている。このようにＸ
線露光装置においては、大きな電力を入力するため軟Ｘ
線の発生とともに多ｈｉ−の熱が発生する。
て、ｌｉｉ ｔ／ｉや１；渉、反則なとによる解像度の
低ドがはとんとないので、木質的に微細パターンの転写
が容易であり、また高アスペクト比の転げパターンガｉ
ｔ＋られるという利点があるか、他力ではレジストの感
度不足やＸ線源の低効率のためにスループントが低いと
いう不都合かある。具体的には、Ｘ線０；（は、アメ−
１・であるターゲットが固定式の場合には６ＫＷ、回転
式の場合には２ＣＩＫＷ程度の入力重力を必要とし、更
により強いＸＶｊ、源が要求されている。このようにＸ
線露光装置においては、大きな電力を入力するため軟Ｘ
線の発生とともに多ｈｉ−の熱が発生する。
Ｘ線露光装置を小型化する為にはＸ線の焦点の近くにＸ
線コリメータを設ける必要があり、更にＸ線マスクとウ
ェハを極近接させて、サブミクロンのパターンを転写す
るには、微小な温度範囲内にＸ線露光装ｚＩ内をコント
ロールしなけれはならない。界隈を小型化するためには
、Ｘ線コリメー夕とＸ線マスク、ウェハとは距離的に近
いノＪか好ましいか、Ｘ線コリメータから多穴の熱か副
Ｑイされ、その熱かＸ線マスク、ウェハ１１１こ（ム達
され５．１１゛畠に不都合である。
線コリメータを設ける必要があり、更にＸ線マスクとウ
ェハを極近接させて、サブミクロンのパターンを転写す
るには、微小な温度範囲内にＸ線露光装ｚＩ内をコント
ロールしなけれはならない。界隈を小型化するためには
、Ｘ線コリメー夕とＸ線マスク、ウェハとは距離的に近
いノＪか好ましいか、Ｘ線コリメータから多穴の熱か副
Ｑイされ、その熱かＸ線マスク、ウェハ１１１こ（ム達
され５．１１゛畠に不都合である。
従来のＸ線コリメータのツーラスリント式のものを１５
１図を参照して説明すると１図小されないＸ線タープ−
７１・から放射されるＸ線２°は、コリメークｔ１１１
内に設けられたカラスのソーラースリ、Ｉ・７％ ４に
開けられた多数のＸ線照射方向に・（・行な微小の貫通
孔５により発散角度を制限され。
１図を参照して説明すると１図小されないＸ線タープ−
７１・から放射されるＸ線２°は、コリメークｔ１１１
内に設けられたカラスのソーラースリ、Ｉ・７％ ４に
開けられた多数のＸ線照射方向に・（・行な微小の貫通
孔５により発散角度を制限され。
したかってその出射側ではほぼ平行化されたＸ線束３荀
畳ることか出来る。従来のＸ線コリＡ−夕は、カラス等
の材料で形成されるので温度トＳ１により破壊、変形さ
れるという問題もある。このようにＸ線コリメータには
温度］、ｙ１に対する対策が心安であるか、従来のＸ線
コリメータ自身には１−分なｔ、Ｉ ｆｆ＞かされてい
なかった。
畳ることか出来る。従来のＸ線コリＡ−夕は、カラス等
の材料で形成されるので温度トＳ１により破壊、変形さ
れるという問題もある。このようにＸ線コリメータには
温度］、ｙ１に対する対策が心安であるか、従来のＸ線
コリメータ自身には１−分なｔ、Ｉ ｆｆ＞かされてい
なかった。
［］１的］
本発明の１−１的は、１−記従来例の欠点を除去したＸ
線コリメータを提供することにある。
線コリメータを提供することにある。
［￥施例］
リド図面を参照して本発明の詳細な説明する。第２図は
、本発明の一実施例の！ｆ、１視図であり、第１図と回
し部材には回し参照番けを附す。
、本発明の一実施例の！ｆ、１視図であり、第１図と回
し部材には回し参照番けを附す。
板状のコリメータ枠１内には、カラスτより成る同様に
板状のツーラスリント部４かｌｌ５３人され、ツーラス
リント部４には後述するＸ線ＩＭ＋躬方向におｌｊ、い
に１ｉ−行で回−・断面形状の一１〜数１−ミクロンオ
ータの微細な貫通１−Ｉ５か多数開けられている。
板状のツーラスリント部４かｌｌ５３人され、ツーラス
リント部４には後述するＸ線ＩＭ＋躬方向におｌｊ、い
に１ｉ−行で回−・断面形状の一１〜数１−ミクロンオ
ータの微細な貫通１−Ｉ５か多数開けられている。
コリメータｌｉ’ １１−にはソーラスリット、ｒｚｇ
４を取囲むように、冷却用のバイブロか適当な形状で
熱融箔されている。
４を取囲むように、冷却用のバイブロか適当な形状で
熱融箔されている。
バイブロは全体として１本のパイプで構成され、バイブ
ロの中には冷却用の媒体（例えば水）か図小されない温
度制御１１丁能な循環器を介して流れている。またスリ
、１・枠１の適゛ｈな場所（図面ではコリメータ枠１の
側面）に温度センサー７が設けられており、この温度セ
ンサー７からの信すは前述の循環器に接続されている。
ロの中には冷却用の媒体（例えば水）か図小されない温
度制御１１丁能な循環器を介して流れている。またスリ
、１・枠１の適゛ｈな場所（図面ではコリメータ枠１の
側面）に温度センサー７が設けられており、この温度セ
ンサー７からの信すは前述の循環器に接続されている。
に記構成において、図、１、されないＸ線タープ。
１・から放射されたＸ線２と図示されない熱線はコリメ
ーター枠１やソーラースリ・７１・部４に照射されて吸
収され、熱に変換される。またＸ線２のうち、微小貫通
孔５を通過しなかったＸ線は、コリメータ枠ｌやソーラ
ースリード部４を４異成するカラス稼の材才゛ｌにその
エネルギーか吸収され、これが熱等に変換される。従っ
て照射時間が増えるとともにコリメータ全体の温度がＩ
：、 Ｉｔする。・方温度センザー７はコリメータ全体
の温度を監視しているので、冷却用奴体の流れ１や温度
は循環器を介して制御される。
ーター枠１やソーラースリ・７１・部４に照射されて吸
収され、熱に変換される。またＸ線２のうち、微小貫通
孔５を通過しなかったＸ線は、コリメータ枠ｌやソーラ
ースリード部４を４異成するカラス稼の材才゛ｌにその
エネルギーか吸収され、これが熱等に変換される。従っ
て照射時間が増えるとともにコリメータ全体の温度がＩ
：、 Ｉｔする。・方温度センザー７はコリメータ全体
の温度を監視しているので、冷却用奴体の流れ１や温度
は循環器を介して制御される。
尚、ｉ関度センサー７は必ずしもコリメータ枠ｌに設け
なくてもよく、コリメータ特にソーラスリ、１・部４を
冷却し−Ｃ戻ってくる冷却媒体の温度を検知出来る場所
ならどこでもよい。又冷却バイブロは複数本でもよく、
更にその４Ａ質は、４ｄ ｒの他ＳＯ５，Ｃｕ’１９の
金属、或いは、セラミンクスチューブやプラスチ、クチ
ューブでも良いが、熱伝導に１とコリメータ枠１との固
着性や加ＩＰ１を老成して選択出来る。同様にコリメー
タ枠ｌの４１ Ｙりも硝ｆ−の化セラミ、クス、ＳＯＳ
、 ＣｕＡηの金属又は合金等を用いることができる
か、ソーラースリツＩ−ｒ：ｕ ４の旧質との固着Ｐ１
、熱はう張係数の整合性、加−■性なとを老成して選択
出来る。更にコリメータ枠１とソーラースリード部４、
コレメーク枠ｌとべ）却バイブロとの固着力法は、融！
し溶ノＴ、接６等固清性、熱伝・ダシ１等を考慮して適
当に選ぶことかできる。
なくてもよく、コリメータ特にソーラスリ、１・部４を
冷却し−Ｃ戻ってくる冷却媒体の温度を検知出来る場所
ならどこでもよい。又冷却バイブロは複数本でもよく、
更にその４Ａ質は、４ｄ ｒの他ＳＯ５，Ｃｕ’１９の
金属、或いは、セラミンクスチューブやプラスチ、クチ
ューブでも良いが、熱伝導に１とコリメータ枠１との固
着性や加ＩＰ１を老成して選択出来る。同様にコリメー
タ枠ｌの４１ Ｙりも硝ｆ−の化セラミ、クス、ＳＯＳ
、 ＣｕＡηの金属又は合金等を用いることができる
か、ソーラースリツＩ−ｒ：ｕ ４の旧質との固着Ｐ１
、熱はう張係数の整合性、加−■性なとを老成して選択
出来る。更にコリメータ枠１とソーラースリード部４、
コレメーク枠ｌとべ）却バイブロとの固着力法は、融！
し溶ノＴ、接６等固清性、熱伝・ダシ１等を考慮して適
当に選ぶことかできる。
第３図は１．４．、発明に係るＸ線コリメータ（図では
コリメータ枠ｌとし１示されている）を用いたし、支柱
８により真空チャンバフ内に固’ＡＩされるＸ線コリメ
ータか配＋’ｉ’ｆされている。更にＸ線コリメータの
出用Ｘ線３のドには、移動ｒ＋（能なキャリア１２か配
置され、このキャリア１２には、Ｘ線マスク１１と、フ
ォトレシス［３か塗布されたつ１ハ１４が近接配置され
ている。ウェハ１４は、キャリア１２−内にＩ、’Ａ定
されたチャンク１５により（静、Ｉ！、気で）固力′さ
れる。、６゛は、Ｘ線コリメータのバイブロをイ・図小
の１１□ｉ度制御呵能な循環器に接続するｔ：めの、１
′″パイプであり、１６は、ヂＺ７を真空引きするため
のυ１気ボー１−である。
コリメータ枠ｌとし１示されている）を用いたし、支柱
８により真空チャンバフ内に固’ＡＩされるＸ線コリメ
ータか配＋’ｉ’ｆされている。更にＸ線コリメータの
出用Ｘ線３のドには、移動ｒ＋（能なキャリア１２か配
置され、このキャリア１２には、Ｘ線マスク１１と、フ
ォトレシス［３か塗布されたつ１ハ１４が近接配置され
ている。ウェハ１４は、キャリア１２−内にＩ、’Ａ定
されたチャンク１５により（静、Ｉ！、気で）固力′さ
れる。、６゛は、Ｘ線コリメータのバイブロをイ・図小
の１１□ｉ度制御呵能な循環器に接続するｔ：めの、１
′″パイプであり、１６は、ヂＺ７を真空引きするため
のυ１気ボー１−である。
ｌ記（１） 装；ＩＶ＜ ＋、： オイ”Ｃ１’ｉ［ｉ
、ｆ ３１ Ｌｏハ２０００°Ｃ以１．： ）１°、Ｉ
Ｊ温となり、マタ’：Ｉｉ ｒＳｌｊ Ｉ Ｏカラｆ７
） ’１２ ｆ ヒ’ −Ａ カ抄ｉ突するターケント
９０面も同様に高温となる。しかしなから木９′、明に
係るＸ線コリメータにより、マスク１１及びウェハ１４
−＼の温１（１の影響はｊｌＱ少限することかでき、そ
の効果は人である。
、ｆ ３１ Ｌｏハ２０００°Ｃ以１．： ）１°、Ｉ
Ｊ温となり、マタ’：Ｉｉ ｒＳｌｊ Ｉ Ｏカラｆ７
） ’１２ ｆ ヒ’ −Ａ カ抄ｉ突するターケント
９０面も同様に高温となる。しかしなから木９′、明に
係るＸ線コリメータにより、マスク１１及びウェハ１４
−＼の温１（１の影響はｊｌＱ少限することかでき、そ
の効果は人である。
［効果］
以りの説明で明らかな如く、Ｘ線コリメータのノーラー
スリ、トＦＡＲ以外の場所に冷却用のパイプを配設し、
これに冷却用の媒体を循環させることにより、ターケン
ト等から発生する熱やＸ線照射によるＸ線コリメータの
温度Ｊ、）１を・定の範囲内におさえることか出来る。
スリ、トＦＡＲ以外の場所に冷却用のパイプを配設し、
これに冷却用の媒体を循環させることにより、ターケン
ト等から発生する熱やＸ線照射によるＸ線コリメータの
温度Ｊ、）１を・定の範囲内におさえることか出来る。
また本発明をＸ線露光装ｙ１に用いれば、装置を小型化
することかできる。
することかできる。
第１図は、従来のＸ！！ｌＩコリメータの斜視図、第２
図は、本発明の一実施例の斜視図、第３図は、本発明を
適用したＸ線入光装置の縦断面図である。 １、コレメーク＋４し ２、入用Ｘ線 ３、はぼ・１ｉ、石化されたＸ線 ４、ソーラースリント部 ５、微小貫通孔 ６、冷却用パイプ ７、温１■七／サー
図は、本発明の一実施例の斜視図、第３図は、本発明を
適用したＸ線入光装置の縦断面図である。 １、コレメーク＋４し ２、入用Ｘ線 ３、はぼ・１ｉ、石化されたＸ線 ４、ソーラースリント部 ５、微小貫通孔 ６、冷却用パイプ ７、温１■七／サー
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｘ線源力臼うのＸ線を・１・石化するＸ線コリメータに
おいて、 多数の微細な貫通■を右する板状部材の周囲に冷却用の
パインを配設したことを４￥徴とするＸ線コリメータ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59038731A JPS60183599A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Ｘ線コリメ−タ |
| DE19853507340 DE3507340A1 (de) | 1984-03-02 | 1985-03-01 | Roentgenkollimator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59038731A JPS60183599A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Ｘ線コリメ−タ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60183599A true JPS60183599A (ja) | 1985-09-19 |
Family
ID=12533469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59038731A Pending JPS60183599A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Ｘ線コリメ−タ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60183599A (ja) |
-
1984
- 1984-03-02 JP JP59038731A patent/JPS60183599A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Manes et al. | Light–plasma interaction studies with high-power glass laser | |
| CA2292952A1 (en) | A method and apparatus for making large area two-dimensional grids | |
| JPH0756000A (ja) | マイクロｘ線ターゲット | |
| Thiel et al. | Production of intense micrometer‐sized x‐ray beams with tapered glass monocapillaries | |
| Valdivia et al. | Implementation of a Talbot–Lau x-ray deflectometer diagnostic platform for the OMEGA EP laser | |
| Montgomery et al. | Measurements of radial heat wave propagation in laser-produced exploding-foil plasmas | |
| Tang et al. | Anti-scattering X-ray grid | |
| JPS60183599A (ja) | Ｘ線コリメ−タ | |
| Eason et al. | Laser X-ray microscopy | |
| Haelbich et al. | Synchrotrom radiation X-ray lithography | |
| Mizui et al. | Extreme ultraviolet radiation transport in laser-irradiated high-Z metal foils | |
| Dusseau et al. | Irradiated integrated circuits dose-attenuation mapping using optically stimulated phosphors for packaging dosimetry | |
| Stamper et al. | Aneurisms in laser-driven blast waves | |
| US3457408A (en) | Track-etch neutron radiography | |
| Ullrich et al. | Potential for concentration of synchrotron beams with capillary optics | |
| JP3640657B2 (ja) | Ｘ線リソグラフィーデバイス | |
| Terai et al. | Lateral transport of hot electrons on a spherical target by 10.6‐μm CO2 laser irradiation | |
| Russell et al. | Application of polycapillary optics to hard x-ray astronomy | |
| Kumakhov | State and perspectives of capillary Roentgen optics | |
| Mallozzi et al. | Laser-Produced Plasmas as an Alternative X-Ray Source for Synchrotron Radiation Research and for Microradiography | |
| Attwood et al. | X-ray microscopy for the life and physical sciences | |
| JPH0426207B2 (ja) | ||
| Jaski et al. | Design and Application of CVD Diamond Windows for X‐Rays at the Advanced Photon Source | |
| US4665541A (en) | X-ray lithography | |
| Nikitin et al. | Scattered radiation suppression by means of X-ray capillary systems |