JPS60181822A - タツチパネルの製造方法 - Google Patents
タツチパネルの製造方法Info
- Publication number
- JPS60181822A JPS60181822A JP59037782A JP3778284A JPS60181822A JP S60181822 A JPS60181822 A JP S60181822A JP 59037782 A JP59037782 A JP 59037782A JP 3778284 A JP3778284 A JP 3778284A JP S60181822 A JPS60181822 A JP S60181822A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- resin film
- touch panel
- etching solution
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は座標入力装置に係ル、特に嫉面に透明導電膜の
クランプ電極を備え九−タッチパネルの製造方法に関す
る。
クランプ電極を備え九−タッチパネルの製造方法に関す
る。
技術の背景
近年各種の計測器や制御機器及び日常使われる複写機等
の入力装置として、プ、シュ厘のスイッチに変わって、
入間の指を触れるだけでスイッチの切シ替えを行うタッ
チスイッチが用いられるようになった。このスイッチは
、前述のように指で触れるだけでスイッチが動作するの
で操作し易い特徴を有しておシ、さらに表示装置等の前
面に透明電極を用い配置して座標検出パネルとし、表示
装置の表示を変えることによってその対応するスイッチ
に関する動作も変更することが可能となる特徴を有する
。この場合、タッチスイッチは一般に座標パネル化され
、座標検出パネルとして使用されている。そして一般に
ＬＣ共振回路によってそのタッチの検出がなされている
。前述のＬＣ共振回路で構成された座標検出パネルの駆
動装置には発振器から一定の周波数の正弦波が加わって
いる。そして入カバネルの何れか１個のスイッ゛チを指
でタッチした場合、コンデンサとコイルの前述のＬＣ共
振回路はコンデンサとコイル及びタッチ容量との並列共
振回路となシ、非タッチ時のコンデンサとコイルとの共
振周波数、すなわち発振器からの出力周波数とは異なっ
た共振周波数となることを前述の正弦波の振幅の変化に
よって検出している。第１図はこの共振特性を示したも
ので、Ｉはタッチ時の共振特性を示し、■は非タッチ時
の共振特性を示す。従って、ある周波数Ａで出力電圧を
検出すると、タッチ時と非タッチ時には電圧変化が存在
し、この変化分を検出して入カバネルのスイッチに指の
タッチがあったことを判断できるものである。
の入力装置として、プ、シュ厘のスイッチに変わって、
入間の指を触れるだけでスイッチの切シ替えを行うタッ
チスイッチが用いられるようになった。このスイッチは
、前述のように指で触れるだけでスイッチが動作するの
で操作し易い特徴を有しておシ、さらに表示装置等の前
面に透明電極を用い配置して座標検出パネルとし、表示
装置の表示を変えることによってその対応するスイッチ
に関する動作も変更することが可能となる特徴を有する
。この場合、タッチスイッチは一般に座標パネル化され
、座標検出パネルとして使用されている。そして一般に
ＬＣ共振回路によってそのタッチの検出がなされている
。前述のＬＣ共振回路で構成された座標検出パネルの駆
動装置には発振器から一定の周波数の正弦波が加わって
いる。そして入カバネルの何れか１個のスイッ゛チを指
でタッチした場合、コンデンサとコイルの前述のＬＣ共
振回路はコンデンサとコイル及びタッチ容量との並列共
振回路となシ、非タッチ時のコンデンサとコイルとの共
振周波数、すなわち発振器からの出力周波数とは異なっ
た共振周波数となることを前述の正弦波の振幅の変化に
よって検出している。第１図はこの共振特性を示したも
ので、Ｉはタッチ時の共振特性を示し、■は非タッチ時
の共振特性を示す。従って、ある周波数Ａで出力電圧を
検出すると、タッチ時と非タッチ時には電圧変化が存在
し、この変化分を検出して入カバネルのスイッチに指の
タッチがあったことを判断できるものである。
第２図はこの種の座標検出パネルの駆動装置の回路構成
図で、図中、１はタッチパネル、２はマルチプレクサ回
路、３は検出回路である。タッチパネル１は、上下面に
絶縁層４を備えている。そして、上面の絶縁層４の下側
のガラス基板５上には検出電極６が設けられ、ガラス基
板５と下面絶縁ＷＩ４の間には裏面導電膜（クランプ電
極）７が設けられている。また、各検出電極６はマルチ
プレクサ回路２の各入力端子に接続している。マルチプ
レクサ２の出力は、バッフ７ア／プ８のプラス入力端子
に接続し、バッフ１ア／プ８の出力はタッチパネル１の
裏面導電膜７に接続している。
図で、図中、１はタッチパネル、２はマルチプレクサ回
路、３は検出回路である。タッチパネル１は、上下面に
絶縁層４を備えている。そして、上面の絶縁層４の下側
のガラス基板５上には検出電極６が設けられ、ガラス基
板５と下面絶縁ＷＩ４の間には裏面導電膜（クランプ電
極）７が設けられている。また、各検出電極６はマルチ
プレクサ回路２の各入力端子に接続している。マルチプ
レクサ２の出力は、バッフ７ア／プ８のプラス入力端子
に接続し、バッフ１ア／プ８の出力はタッチパネル１の
裏面導電膜７に接続している。
またマルチプレクサ２の出力は検出回路３のコイル９に
も入力し、コイル９の他端はコンデンサ１０トコイル１
１の並列回路と抵抗１２に接続シ、コンデンサ１０とコ
イル１１の並列回路の他端はアースされ、抵抗１２の他
端は正弦波発振器１５を介し′Ｃ接地されている。検出
回路３の出力はマイクロプロセッサ１４に入力し、マイ
クロプロセッサ１４はマルチプレクサ２に制御信号を出
力するとともに座標指示出力を出力する。
も入力し、コイル９の他端はコンデンサ１０トコイル１
１の並列回路と抵抗１２に接続シ、コンデンサ１０とコ
イル１１の並列回路の他端はアースされ、抵抗１２の他
端は正弦波発振器１５を介し′Ｃ接地されている。検出
回路３の出力はマイクロプロセッサ１４に入力し、マイ
クロプロセッサ１４はマルチプレクサ２に制御信号を出
力するとともに座標指示出力を出力する。
このような構成の座標検出パネルの駆動装置の動作は次
の通シである。
の通シである。
タッチパネル１の各検出電極６が非タッチの場合、発信
器１５から一定周波数の正弦波が出力されている。この
出力はコイル９．マルチプレクサ入力容量を含む浮遊容
量１５のコンデンサ１０及びコイル１１からなる複数回
路の共振周波数と一致している。次にタッチパネル１の
各電極の一個にタッチが行われた場合、夕、テした人が
持つ人体対地静電容量がこの共振回路に付加され、その
共振周波数が変化（低下）する。この際タッチ検出電極
６の対地静電容量は主として定電位である筐体。
器１５から一定周波数の正弦波が出力されている。この
出力はコイル９．マルチプレクサ入力容量を含む浮遊容
量１５のコンデンサ１０及びコイル１１からなる複数回
路の共振周波数と一致している。次にタッチパネル１の
各電極の一個にタッチが行われた場合、夕、テした人が
持つ人体対地静電容量がこの共振回路に付加され、その
共振周波数が変化（低下）する。この際タッチ検出電極
６の対地静電容量は主として定電位である筐体。
ＣＴＲ’／ ＋ ）”−マスク等タッチパネル１裏面の
導体との間に形成されるが、タッチパネル１の裏面の導
電膜７と、入力インピーダンスが数百Ｍｇと高く出力イ
ンピーダンスが１Ω以下と低いいわゆるエミックフロア
形式のバッフ７アンプ８の出力とを同電位にすることに
よシ、タッチ検出電極６の対地静電容量の影響を取シ除
くことができる。すなわち、指のタッチによる人体対地
静電容量のみを検出電極が確実に検出し、指のタッチに
よ）変化した共振周波数を正確に検出回路よシマイクロ
プロセッサ１４に出力する。従って、マイクロプロセッ
サ１４には、ある周波数での出力電圧におけるタッチ時
と非タッチ時の正確な電圧変化の変化分が確実に入力し
、これをマイクロプロセッサ１４でＭ十Ｄｉすることに
より、マイクロプロセッサ１４は正確な座標指示を出力
することができる。
導体との間に形成されるが、タッチパネル１の裏面の導
電膜７と、入力インピーダンスが数百Ｍｇと高く出力イ
ンピーダンスが１Ω以下と低いいわゆるエミックフロア
形式のバッフ７アンプ８の出力とを同電位にすることに
よシ、タッチ検出電極６の対地静電容量の影響を取シ除
くことができる。すなわち、指のタッチによる人体対地
静電容量のみを検出電極が確実に検出し、指のタッチに
よ）変化した共振周波数を正確に検出回路よシマイクロ
プロセッサ１４に出力する。従って、マイクロプロセッ
サ１４には、ある周波数での出力電圧におけるタッチ時
と非タッチ時の正確な電圧変化の変化分が確実に入力し
、これをマイクロプロセッサ１４でＭ十Ｄｉすることに
より、マイクロプロセッサ１４は正確な座標指示を出力
することができる。
従来技術と問題点
このような構成９作用を有する座標入力装置のタッチパ
ネルの従来の製造方法の１つに、ガラス基板の、−面に
タッチ検出電極を作成してから他面にり２ンプ電極とな
る透明導電膜を形成する方法がある。
ネルの従来の製造方法の１つに、ガラス基板の、−面に
タッチ検出電極を作成してから他面にり２ンプ電極とな
る透明導電膜を形成する方法がある。
シかじ、この方法の場合、蒸着あるいはスパッタ等によ
シフランプ電極を形成する際に廻シ込みがないように制
御するのが難しく、また量産の膜形成が独立しているた
めコスト高になるという欠点を有している。
シフランプ電極を形成する際に廻シ込みがないように制
御するのが難しく、また量産の膜形成が独立しているた
めコスト高になるという欠点を有している。
この欠点を解決するため、第６図に示す方法が従来多く
採用されている。
採用されている。
この場合、まずＭ３図（α）に示すように、ガラス基板
２１の両面にＩＴＯ膜（透明導電膜）２２．２３を形成
し、次に第３図（ｂ）に示すように上面のＩＴＯ膜２２
の上にフォトレジス）２４ｅ塗布してこれに第３図（ｃ
）に示すようにフォトマスク２５葡用いてｈト光した後
、現像を行って第６図（ｄ）に示すようにレジストハタ
ーン２６を形成する。次に、第３図（＃）ＶＣ示すよう
に、下面のＩＴＯ膜２５の上にフォトレジスト２７を塗
布するが、これは次のエッチングエ桂においてクランプ
電極に相当するＩＴＯ膜２３をエッチンダ液から保護す
るためである。次に、ポストベークを行った後、第３図
ωに示すように、レジストパターン２６をマスクとして
エツチング処理を行ってガラス基板２１上面のＩＴＯ膜
をバターニングした後、第５図（ｇ）に示すように、レ
ジストを剥離する。これによシ、ガラス基板２１の上面
には検出電極２８が形成される。次に、第３図（Ｊ＆）
に示すように上面に樹脂膜２９を形成した後、第５図（
ｊ）に示すように下面に樹脂膜３０を形成してタッチパ
ネルが完成する。樹脂膜２９．ＳＯは電極の絶縁と保護
のだめのものである。
２１の両面にＩＴＯ膜（透明導電膜）２２．２３を形成
し、次に第３図（ｂ）に示すように上面のＩＴＯ膜２２
の上にフォトレジス）２４ｅ塗布してこれに第３図（ｃ
）に示すようにフォトマスク２５葡用いてｈト光した後
、現像を行って第６図（ｄ）に示すようにレジストハタ
ーン２６を形成する。次に、第３図（＃）ＶＣ示すよう
に、下面のＩＴＯ膜２５の上にフォトレジスト２７を塗
布するが、これは次のエッチングエ桂においてクランプ
電極に相当するＩＴＯ膜２３をエッチンダ液から保護す
るためである。次に、ポストベークを行った後、第３図
ωに示すように、レジストパターン２６をマスクとして
エツチング処理を行ってガラス基板２１上面のＩＴＯ膜
をバターニングした後、第５図（ｇ）に示すように、レ
ジストを剥離する。これによシ、ガラス基板２１の上面
には検出電極２８が形成される。次に、第３図（Ｊ＆）
に示すように上面に樹脂膜２９を形成した後、第５図（
ｊ）に示すように下面に樹脂膜３０を形成してタッチパ
ネルが完成する。樹脂膜２９．ＳＯは電極の絶縁と保護
のだめのものである。
この第１図の方法によれば、前述の方法に比べてコスト
、歩留ｐの点で有利であるが、基板裏面にエツチング液
からの保護のために塗布されるフォトレジストに廻シ込
みがあると基板表面のレジストパターンが溶解してしま
り次点があるので、この塗布には熟練した技術が要求さ
れる。
、歩留ｐの点で有利であるが、基板裏面にエツチング液
からの保護のために塗布されるフォトレジストに廻シ込
みがあると基板表面のレジストパターンが溶解してしま
り次点があるので、この塗布には熟練した技術が要求さ
れる。
発明の目的
本発明は上述の問題点を解決するためのもので、両面に
透明４電膜が形成された基板からタッチパネルを作成す
る後者の製造方法におけるレジストパターン溶解の問題
を解決してタッチパネルｆ８易かつ低コストで歩留シ良
く製造することのできるタッチパネルの製造方法を提供
することを目的としている。
透明４電膜が形成された基板からタッチパネルを作成す
る後者の製造方法におけるレジストパターン溶解の問題
を解決してタッチパネルｆ８易かつ低コストで歩留シ良
く製造することのできるタッチパネルの製造方法を提供
することを目的としている。
発明の構成
本発明では、両面に透明導電膜が形成された基板から、
表面に検出電極を、裏面にクランプ電極を有するタッチ
パネルを作成する製造方法において、前記検出電極のエ
ツチング液によるバターニングに先立って基板裏面の前
記透明導電膜上に樹脂膜を形成し、該樹脂膜に前記エツ
チング液からの保護と最終生成品の絶縁、保護の役割を
兼ねさせるようにした構成の採用によシ、上記目的の達
成を図っている。
表面に検出電極を、裏面にクランプ電極を有するタッチ
パネルを作成する製造方法において、前記検出電極のエ
ツチング液によるバターニングに先立って基板裏面の前
記透明導電膜上に樹脂膜を形成し、該樹脂膜に前記エツ
チング液からの保護と最終生成品の絶縁、保護の役割を
兼ねさせるようにした構成の採用によシ、上記目的の達
成を図っている。
発明の実施例
以下、第４図に関連して本発明の詳細な説明する。
第４図は本発明に係るタッチパネルの製造方法の実施例
を示す工程図で、第４図（ｃＬ）〜（ｄ）の工程は従来
と同様である。
を示す工程図で、第４図（ｃＬ）〜（ｄ）の工程は従来
と同様である。
本発明では、この後第４図（１）に示すように、基板裏
面のＩ’ｌ’Ｏ膜（クランプ電極に相当）２５の上に樹
脂膜５１を形成する。この樹脂膜３１は、次のエツチン
グ工程においてＩＴＯ膜２膜上３ツチング液から保護す
る他に、最終生成品の絶縁、保護の役割をも兼ねるもの
である。このように、本発明では、従来のフォトンジス
１２フ０代シに樹脂膜５１を形成するため、従来問題と
なっているフォトレジストの廻シ込みによるレジストパ
ターン溶解の問題を解決することができるのみならず、
従来必要としていノを最終工程での樹脂膜６０の塗布を
省略することができ、コスト、歩留シを向上させること
が可能である。その後は、第４図（１）に示すようにエ
ツチング処Ｎを行って基板上面のＩＴＯ換をバターニン
グし、次に第４図（σ）に示すよりにレジストを剥離す
る。仁れによシ、ガラス基板２１の上面に検出電極２８
が形成される。最後に、第４図伍）に示すように、上面
に樹脂膜６２を形成してタッチパネルが完成する。
面のＩ’ｌ’Ｏ膜（クランプ電極に相当）２５の上に樹
脂膜５１を形成する。この樹脂膜３１は、次のエツチン
グ工程においてＩＴＯ膜２膜上３ツチング液から保護す
る他に、最終生成品の絶縁、保護の役割をも兼ねるもの
である。このように、本発明では、従来のフォトンジス
１２フ０代シに樹脂膜５１を形成するため、従来問題と
なっているフォトレジストの廻シ込みによるレジストパ
ターン溶解の問題を解決することができるのみならず、
従来必要としていノを最終工程での樹脂膜６０の塗布を
省略することができ、コスト、歩留シを向上させること
が可能である。その後は、第４図（１）に示すようにエ
ツチング処Ｎを行って基板上面のＩＴＯ換をバターニン
グし、次に第４図（σ）に示すよりにレジストを剥離す
る。仁れによシ、ガラス基板２１の上面に検出電極２８
が形成される。最後に、第４図伍）に示すように、上面
に樹脂膜６２を形成してタッチパネルが完成する。
発明の効果
以上述べたように、本発明によれば、次の各種の優れた
効果を奏することが可能である。
効果を奏することが可能である。
（１）従来工、テングに先立って基板裏面のクランプ電
極となる透明導電膜上に塗布してぃ庭フォトレジストの
代シに樹脂膜を形成するため、従来問題となっていたフ
ォトレジストの廻り込みによるレジストパターン溶解の
問題を解決することができる。
極となる透明導電膜上に塗布してぃ庭フォトレジストの
代シに樹脂膜を形成するため、従来問題となっていたフ
ォトレジストの廻り込みによるレジストパターン溶解の
問題を解決することができる。
（２） 従来最終工程で行っていた基板裏面の樹脂膜形
成を省略することができるため、コストを低減すること
ができ、また（１）項と関連して歩留を大幅に向上させ
ることが可能である。
成を省略することができるため、コストを低減すること
ができ、また（１）項と関連して歩留を大幅に向上させ
ることが可能である。
第１図はタッチパネルの駆動装置のタッチ時及び非タッ
チ時の波形図、第２図は同回路構成図、第３図（α）〜
（（ンは従来のタッチパネルの製造工程図、第４図（ａ
）〜（Ａ）は本発明に係るタッチパネルの製造方法の実
施例を示す製造工程図で、図中、２１はガラス基板、２
２．２３はＩＴＯ膜（透明導電膜）、２６”はレジスト
パターン、２８は検出電極、３Ｌ３２は樹脂膜である。 特許出願人富士通株式会社 代理人弁理士玉蟲久五部（外１名） 第１図 周波数−ｍ＝に 第３図 ２６ 第４図 ６
チ時の波形図、第２図は同回路構成図、第３図（α）〜
（（ンは従来のタッチパネルの製造工程図、第４図（ａ
）〜（Ａ）は本発明に係るタッチパネルの製造方法の実
施例を示す製造工程図で、図中、２１はガラス基板、２
２．２３はＩＴＯ膜（透明導電膜）、２６”はレジスト
パターン、２８は検出電極、３Ｌ３２は樹脂膜である。 特許出願人富士通株式会社 代理人弁理士玉蟲久五部（外１名） 第１図 周波数−ｍ＝に 第３図 ２６ 第４図 ６
Claims (1)
- 両面に透明導電膜が形成された基板から、表面に検出電
極を、裏面にクランプ電極を有するタッチパネルを作成
する製造方法において、前記検出電極のエツチング液に
よるバターニングに先立って基板裏面の前記透明導電膜
上に樹脂膜を形成し、該樹脂膜に前記エツチング液から
の保護と最終生成品の絶縁、保護の役割を兼ねさせるよ
うにしたことを特徴とするタッチパネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59037782A JPS60181822A (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | タツチパネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59037782A JPS60181822A (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | タツチパネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60181822A true JPS60181822A (ja) | 1985-09-17 |
Family
ID=12507055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59037782A Pending JPS60181822A (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | タツチパネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60181822A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2209064A1 (en) * | 2009-01-16 | 2010-07-21 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Touch screen panel and method of fabricating the same |
-
1984
- 1984-02-29 JP JP59037782A patent/JPS60181822A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2209064A1 (en) * | 2009-01-16 | 2010-07-21 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Touch screen panel and method of fabricating the same |
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