JPS60175018A - ビ−ム整形光学系 - Google Patents
ビ−ム整形光学系Info
- Publication number
- JPS60175018A JPS60175018A JP59030887A JP3088784A JPS60175018A JP S60175018 A JPS60175018 A JP S60175018A JP 59030887 A JP59030887 A JP 59030887A JP 3088784 A JP3088784 A JP 3088784A JP S60175018 A JPS60175018 A JP S60175018A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- incident
- beam shaping
- angle
- parallel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0972—Prisms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/08—Anamorphotic objectives
- G02B13/10—Anamorphotic objectives involving prisms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0911—Anamorphotic systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は平行ビームの断面形状を整形する光学系に関す
るものである。 半導体レーザーの射出光は一般に発散角が異なっている
ため、軸回転対称なコリメータレンズを用いて平行光束
を得た場合、コリメータレンズからの射出光は楕円状の
強度分布を持っている。 そこで、レーザー光を効率良く使用するため、及び軸回
転対称の強度分布を持つスポットに集光するために、波
面収差を十分に補正したアフォーカルアナモフィック光
学系が必要とされている。 また円形断面を持つレーザービームについても、レーザ
ービームプリンター用光学系において、結像レンズに入
るレーザービーム幅の縦横比を変えることによって縦方
向、横方向の解像力を所望の値にするなど収差の十分に
少ないアフォーカルアナモフィック光学系を必要とする
用途がある。 現在このような用途に用いられるアフォーカルアナモフ
ィック光学系としては、２枚のシリンドリカルレンズを
用いたものや、プリズムを１個あるいは２個用いたもの
が知られている。 しかし、これらには以下のような欠点がある。 即ち、シリンドリカルレンズを用いたものは、平面波が
シリンダー面に当るため、本質的に収差の発生は避けら
れない。従って、シリンドリカルレンズを用いた光学系
の設計は、２つ以上の面によって発生する収差をトータ
ルで０に近づくような、収差補正手段が採られている。 しかしながら。 この光学系は、補正し合う面のシリンダー軸のわずかな
ずれに対しても、大きな波面収差が補正されずに残って
しまうという欠点を持っている。 このためシリンドリカルレンズの加工及び取り付は精度
への要求は非常に厳しいものとなる。 また、プリズムを１個用いたものは、平面波が平面に入
射することから、収差の発生が無い利点はあるが、入射
光束と射出光束の角度がずれてしまい、光学系構成上非
常に不利である。 この欠点を改善したものが、第１図に示す２個のプリズ
ムを用いた型のものである。この形状の場合、入射光束
と射出光束は平行になるが、依然、ビーム整形光学系の
前段に配置される入射側の系と後段に配置される射出側
の系を、光軸を平行にずらして配置しなければならない
という欠点を持っている。 本発明は、上述の欠点を解消すべくなされたもので、入
射側の系と射出側の系の光軸がずれることがなく、且つ
波面収差に対して加工、取り付けの精度の・要求が厳し
くない、ビーム整形光学系を提供するものである。 本発明は、２つのプリズムからなるアフォーカルアナモ
フィック光学系であって、該光学系に平行ビームを入射
させたとき、ある方向に射出ビーム幅を拡大または縮小
する作用を持ち、該光学系には入射光ビームを１面に対
しである角度で入射させた場合に入射光と射出−光が平
行になるような入射角があり、そのような入射角で入射
光が入射する時その光学系の有効な開口部の中に、１本
のである。 このような本発明のビーム整形光学系は、ビーム幅を縮
小させる向きに用いる場合、第２図（実施例１）、第３
図（実施例２）に示すような構成を持っている。これら
の図において、（ａ）はＸＺ平面上での断面図を示し、
（ｂ）はＸＹ平面上での断面図を示している。 ただし、第２図、第３図において、Ｚ方向はこの光学系
を入射光と射出光が平行になるような入射角で用いると
きに、この光学系のビーム幅変換作用を有する向きであ
り、ビーム幅不変の向きをＹ方向とし、入射光の向きに
Ｘ方向を取り、有効な開口部のＹ方向の中点をＹ軸方向
の原点として、ＸＺ平面中で１本の入射光線とその射出
光線が１本の直線上に来るような入射点をＸ軸、Ｚ軸そ
れぞれの原点としている。 また、これらの光学系は、次の（１）〜（４）の条件を
満足するよう構成されている。 （１）θＺｔ＜＞０ （２）Ｉ （ｌＺ２ ｌ＞ｌθＺＩ Ｉ（３） ＯＺ２
／ Ｏｚ ｓ ＞０ （４） ０７． ａ ／ Ｏｚ ｔ ＜０ここでθＺｌ
〜Ｏｚ４はプリズムの各面とＸＺ平面の交線の法線とＸ
軸のなす角である。 条件（１）〜（４）は２個のプリズムで本光学系を構成
するための基本的な条件で、条件（１） 、 （２）
、 （３）によって、入射光はへの字または逆への字形
の光路を通り、入射光の主光線と射出光の主光線との平
行ずれを小さくすることができ、１本の入射光ることが
可能になる。条件（４）はビーム幅の変換倍率が実用的
な大きさになるための条件である。 これらの条件に、さらに （５） ｄ ｌ／ ｈ ｚ ＞０．８ （６） ｄ ｓ ／ （ｄ２＋ｄ、＋ ） ＞１ここで
ｈｚは入射面でのＺ方向の入射光幅。 ｄ、−ｄ３はＸ軸にそった各面間の距離である。 形光学系を加えたことによる入射側の系と射出側の系の
光軸のずれを０にすることが可能な系を構成することが
できる。 以下に本ビーム整形光学系の実施例を示す。
るものである。 半導体レーザーの射出光は一般に発散角が異なっている
ため、軸回転対称なコリメータレンズを用いて平行光束
を得た場合、コリメータレンズからの射出光は楕円状の
強度分布を持っている。 そこで、レーザー光を効率良く使用するため、及び軸回
転対称の強度分布を持つスポットに集光するために、波
面収差を十分に補正したアフォーカルアナモフィック光
学系が必要とされている。 また円形断面を持つレーザービームについても、レーザ
ービームプリンター用光学系において、結像レンズに入
るレーザービーム幅の縦横比を変えることによって縦方
向、横方向の解像力を所望の値にするなど収差の十分に
少ないアフォーカルアナモフィック光学系を必要とする
用途がある。 現在このような用途に用いられるアフォーカルアナモフ
ィック光学系としては、２枚のシリンドリカルレンズを
用いたものや、プリズムを１個あるいは２個用いたもの
が知られている。 しかし、これらには以下のような欠点がある。 即ち、シリンドリカルレンズを用いたものは、平面波が
シリンダー面に当るため、本質的に収差の発生は避けら
れない。従って、シリンドリカルレンズを用いた光学系
の設計は、２つ以上の面によって発生する収差をトータ
ルで０に近づくような、収差補正手段が採られている。 しかしながら。 この光学系は、補正し合う面のシリンダー軸のわずかな
ずれに対しても、大きな波面収差が補正されずに残って
しまうという欠点を持っている。 このためシリンドリカルレンズの加工及び取り付は精度
への要求は非常に厳しいものとなる。 また、プリズムを１個用いたものは、平面波が平面に入
射することから、収差の発生が無い利点はあるが、入射
光束と射出光束の角度がずれてしまい、光学系構成上非
常に不利である。 この欠点を改善したものが、第１図に示す２個のプリズ
ムを用いた型のものである。この形状の場合、入射光束
と射出光束は平行になるが、依然、ビーム整形光学系の
前段に配置される入射側の系と後段に配置される射出側
の系を、光軸を平行にずらして配置しなければならない
という欠点を持っている。 本発明は、上述の欠点を解消すべくなされたもので、入
射側の系と射出側の系の光軸がずれることがなく、且つ
波面収差に対して加工、取り付けの精度の・要求が厳し
くない、ビーム整形光学系を提供するものである。 本発明は、２つのプリズムからなるアフォーカルアナモ
フィック光学系であって、該光学系に平行ビームを入射
させたとき、ある方向に射出ビーム幅を拡大または縮小
する作用を持ち、該光学系には入射光ビームを１面に対
しである角度で入射させた場合に入射光と射出−光が平
行になるような入射角があり、そのような入射角で入射
光が入射する時その光学系の有効な開口部の中に、１本
のである。 このような本発明のビーム整形光学系は、ビーム幅を縮
小させる向きに用いる場合、第２図（実施例１）、第３
図（実施例２）に示すような構成を持っている。これら
の図において、（ａ）はＸＺ平面上での断面図を示し、
（ｂ）はＸＹ平面上での断面図を示している。 ただし、第２図、第３図において、Ｚ方向はこの光学系
を入射光と射出光が平行になるような入射角で用いると
きに、この光学系のビーム幅変換作用を有する向きであ
り、ビーム幅不変の向きをＹ方向とし、入射光の向きに
Ｘ方向を取り、有効な開口部のＹ方向の中点をＹ軸方向
の原点として、ＸＺ平面中で１本の入射光線とその射出
光線が１本の直線上に来るような入射点をＸ軸、Ｚ軸そ
れぞれの原点としている。 また、これらの光学系は、次の（１）〜（４）の条件を
満足するよう構成されている。 （１）θＺｔ＜＞０ （２）Ｉ （ｌＺ２ ｌ＞ｌθＺＩ Ｉ（３） ＯＺ２
／ Ｏｚ ｓ ＞０ （４） ０７． ａ ／ Ｏｚ ｔ ＜０ここでθＺｌ
〜Ｏｚ４はプリズムの各面とＸＺ平面の交線の法線とＸ
軸のなす角である。 条件（１）〜（４）は２個のプリズムで本光学系を構成
するための基本的な条件で、条件（１） 、 （２）
、 （３）によって、入射光はへの字または逆への字形
の光路を通り、入射光の主光線と射出光の主光線との平
行ずれを小さくすることができ、１本の入射光ることが
可能になる。条件（４）はビーム幅の変換倍率が実用的
な大きさになるための条件である。 これらの条件に、さらに （５） ｄ ｌ／ ｈ ｚ ＞０．８ （６） ｄ ｓ ／ （ｄ２＋ｄ、＋ ） ＞１ここで
ｈｚは入射面でのＺ方向の入射光幅。 ｄ、−ｄ３はＸ軸にそった各面間の距離である。 形光学系を加えたことによる入射側の系と射出側の系の
光軸のずれを０にすることが可能な系を構成することが
できる。 以下に本ビーム整形光学系の実施例を示す。
【実施例１】
ｉ、ｏｏｏｏ。
１ １３．３０ ２０．０００ ０ １．７９ｇ８４２
３．２０ ３３．８００ ０ １．０００００３ ２
．６０ −１５．０１ＪＯ０１，７９８８４４−３２，
４３５０１，０００００ ｈ Ｚ ”９．００ ｂ ｙ ＝９．００ 倍率０．６
７
３．２０ ３３．８００ ０ １．０００００３ ２
．６０ −１５．０１ＪＯ０１，７９８８４４−３２，
４３５０１，０００００ ｈ Ｚ ”９．００ ｂ ｙ ＝９．００ 倍率０．６
７
【実施例２】
面番号 ｄｘ ＯＺ θｙ ｎ
（波長６３２．８ｎＩ１１）
１．０００００
１ １５．６０ ３０．０ ０ １．７９８８４２ ２
．１６ ４４．３ ０ １．０００００３ ２．４０
−３１．３ ０ １．５１４６２４ −５ｆ１．４ ０
１．０００００ｈ ｚ ＝９．ＯＯｈ ｙ ＝９．Ｏ
Ｏ倍率０．３３実施例１．２ではＺ方向有効開口部の中
央にＸ軸をとるような例を示したが、ビーム整形光学系
の有効開口がＸ軸に対して対称である必要はなく、対称
でない場合には、入射光束が小さい時は入射側系、射出
側系の光軸を一致させて使え、入射光束の幅が大きい時
は光軸のずれの少ないビーム整形光学系として用いるこ
とができる。この入射光束の幅が大きい場合でも、射出
側のレンズ系の有効系が大きく射出光がケラレることな
く使われる場合は１Ｍ像力の向上低減の用途などには何
ら効果を損うことなく使用できる。 尚、これまでビーム’Ｊｌ形光学系を入４ｒ光の幅を縮
小する向きに用いる場合についてビーム整形光学系を説
明してきたが、ビーム整形光学系を逆向きに用い、ビー
ム幅を拡大してビーム整形をすることも可能なことは自
明である。 本ビーム整形光学系は、ビーム幅変換作用を持つ方向を
そろえて２段以上重ねて用いると、各々の段の変換倍率
の積の倍率として使用することができる。これは高倍率
のビーム整形光学系を１段で作る場合に、光線のプリズ
ムへの入射角が大きくなりすぎ、光の反射によるロスが
増えるのを避けるのに有効であり、変換倍率が大きくな
い場合でも、実験装置等で倍率を変えて使用する必要の
ある場合には、変換倍率の異なった本光学系を数種用意
するととによって、それらの組み合せにより細かく倍率
をコントロールすることが可能になる利点を持つ。 また、本ビーム整形光学系を２段組み合せ、前段、後段
をＸ軸を基準にＹＺ平面内で回転して配置すると、ビー
ム形状の長軸方向と短軸方向の幅の割合を連続的に変え
ることが可能になる。 第４図（ｂ）は実施例１に示す１／１．５倍の系と実施
例２に示す１７３倍の系を４５°回転した場合の図であ
るが、この組み合わせで回転角を０°にした場合の長軸
：短軸比４．５：１から回転角９０°の２＝１まで連続
的に変化させることが可能である。特に同一の変換倍率
の系を９０°回転して組み合せた場合は、収差発生の無
い等方的なビーム拡大（縮小）系を作ることができる。 第４図（ｃ）は実施例２尚、第４図（ａ）は実施例１の
光学系によるビームパターン変換例を示すものである。 以上説明したように本発明によれば、入射側の系と射出
側の系の光軸がずれることがなく、波面収差に対する加
工、取り付は精度も厳しさが要求されないビーム整形光
学系が提供できる。また、光学系を２段以上組み合わせ
て用いることにより変換倍率やビーム幅の割合を変える
ことが容易に行えるものである。 特に、レーザービームプリンター用光学系など、現在す
でにある製品に本光学系を付は加えることにより、他の
構成要素を調整することなしに解像力を変化させること
ができる。
．１６ ４４．３ ０ １．０００００３ ２．４０
−３１．３ ０ １．５１４６２４ −５ｆ１．４ ０
１．０００００ｈ ｚ ＝９．ＯＯｈ ｙ ＝９．Ｏ
Ｏ倍率０．３３実施例１．２ではＺ方向有効開口部の中
央にＸ軸をとるような例を示したが、ビーム整形光学系
の有効開口がＸ軸に対して対称である必要はなく、対称
でない場合には、入射光束が小さい時は入射側系、射出
側系の光軸を一致させて使え、入射光束の幅が大きい時
は光軸のずれの少ないビーム整形光学系として用いるこ
とができる。この入射光束の幅が大きい場合でも、射出
側のレンズ系の有効系が大きく射出光がケラレることな
く使われる場合は１Ｍ像力の向上低減の用途などには何
ら効果を損うことなく使用できる。 尚、これまでビーム’Ｊｌ形光学系を入４ｒ光の幅を縮
小する向きに用いる場合についてビーム整形光学系を説
明してきたが、ビーム整形光学系を逆向きに用い、ビー
ム幅を拡大してビーム整形をすることも可能なことは自
明である。 本ビーム整形光学系は、ビーム幅変換作用を持つ方向を
そろえて２段以上重ねて用いると、各々の段の変換倍率
の積の倍率として使用することができる。これは高倍率
のビーム整形光学系を１段で作る場合に、光線のプリズ
ムへの入射角が大きくなりすぎ、光の反射によるロスが
増えるのを避けるのに有効であり、変換倍率が大きくな
い場合でも、実験装置等で倍率を変えて使用する必要の
ある場合には、変換倍率の異なった本光学系を数種用意
するととによって、それらの組み合せにより細かく倍率
をコントロールすることが可能になる利点を持つ。 また、本ビーム整形光学系を２段組み合せ、前段、後段
をＸ軸を基準にＹＺ平面内で回転して配置すると、ビー
ム形状の長軸方向と短軸方向の幅の割合を連続的に変え
ることが可能になる。 第４図（ｂ）は実施例１に示す１／１．５倍の系と実施
例２に示す１７３倍の系を４５°回転した場合の図であ
るが、この組み合わせで回転角を０°にした場合の長軸
：短軸比４．５：１から回転角９０°の２＝１まで連続
的に変化させることが可能である。特に同一の変換倍率
の系を９０°回転して組み合せた場合は、収差発生の無
い等方的なビーム拡大（縮小）系を作ることができる。 第４図（ｃ）は実施例２尚、第４図（ａ）は実施例１の
光学系によるビームパターン変換例を示すものである。 以上説明したように本発明によれば、入射側の系と射出
側の系の光軸がずれることがなく、波面収差に対する加
工、取り付は精度も厳しさが要求されないビーム整形光
学系が提供できる。また、光学系を２段以上組み合わせ
て用いることにより変換倍率やビーム幅の割合を変える
ことが容易に行えるものである。 特に、レーザービームプリンター用光学系など、現在す
でにある製品に本光学系を付は加えることにより、他の
構成要素を調整することなしに解像力を変化させること
ができる。
第１図は従来のプリズムを２個用いたビーム整形光学系
の断面図。第２図は本発明によるビーム整形光学系の実
施例１を示し、第２図（ａ）はＸＺ平面上での断面図、
第２図（ｂ）はＸＹ平面上での断面図。第３図は本発明
によるビーム整形光学系の実施例２を示し、第３図（ａ
）はＸＺ平面上での断面図、第３図（ｂ）はＸＹ平面上
での断面図。第４図は本発明によるビーム整形光学系使
用時のビームパターンの変換の例を示す図で、第４図（
ａ）は実施例１に示した光学系による変換の例、第４図
（ｂ）は実施例１に示した光学系と実施例２で示した光
学系をＹＺ平面内で４５＠ずらして２段組み合せた変換
の例、第４図（Ｃ）は実施例２に示した光学系をビーム
を拡大する向きにしてＹＺ平面内で９０″回転して２段
組み合せた変換の例である。 特許出願人 旭光学工業株式会社 駕１ｒｆＵ 第４図（ａ） ’Ｊ！ ４ ［！］ （ｂ） 情４図（ｃｌ） 入側ビーム 剤 妃ビーム 手 続 補 正 書 昭和６０年３月３目 特許庁長官 殿 ／、事件の表示 適 特願昭５９−３０８８７号 λ１発明の名称 ビーム整形光学系 ３、補正をする者 事件との関係 出願人 住所 東京都板橋区前野町２丁目３６番９号名称 （０
５２） 旭光学工業株式会社代表者 松本 徹 ダ９代理人 居所 東京都板橋区前野町２丁目３６番９号Ｊ、補正の
対象 （１）明細書の「発明の詳細な説明」の欄（２）図 面 乙、補正の内容 （１）明細書の［発明の詳細な説明Ｊの欄中。 第４頁第４行目にある 「近づく」を「近づけるＪと補正する。 （２）同第６頁第１３行１コにある １次の（１）〜（４）の条件Ｊを 「次の（１）〜（３）の条件」と補正する。 （３）同第６頁第１６行目〜第１８行ｇｋ次のとおり補
正する。 Ｉｔ’（２） Ｏ２２／θＺ＋＞１ （３） ＯｚｉＩ／ Ｏｚ ｒ ＜ＯＪｌ（４）同第７
頁第１行口にある 「条！１″（１）〜（４）」を ｒ条イ）Ｉ’ （１）〜（３）Ｊと補正する。 （５）同第７頁第２行日にある ｒ条件（１）、 （２） 、（３）」を「条件（１）、
（２） Ｊｌと補正する。 （６）同第７頁第８行目にある ｒ条件（４）勇を 「条件（３）Ｊと補正する。 （７）同第７頁第１１行目〜第１２行目を次のとおり補
正する。 「（４） （１ｔ ／ ｋｒ Ｚ ＞０．８（５）ｄ＋
／ （ｄ２＋（１１）＞Ｉ Ｊｌ（８）図面中、第２
図（ａ）、第２図（ｂ）、第３図（ａ）、第３図（ｂ）
を別紙のとおり補正する。 ・１１、゛□
の断面図。第２図は本発明によるビーム整形光学系の実
施例１を示し、第２図（ａ）はＸＺ平面上での断面図、
第２図（ｂ）はＸＹ平面上での断面図。第３図は本発明
によるビーム整形光学系の実施例２を示し、第３図（ａ
）はＸＺ平面上での断面図、第３図（ｂ）はＸＹ平面上
での断面図。第４図は本発明によるビーム整形光学系使
用時のビームパターンの変換の例を示す図で、第４図（
ａ）は実施例１に示した光学系による変換の例、第４図
（ｂ）は実施例１に示した光学系と実施例２で示した光
学系をＹＺ平面内で４５＠ずらして２段組み合せた変換
の例、第４図（Ｃ）は実施例２に示した光学系をビーム
を拡大する向きにしてＹＺ平面内で９０″回転して２段
組み合せた変換の例である。 特許出願人 旭光学工業株式会社 駕１ｒｆＵ 第４図（ａ） ’Ｊ！ ４ ［！］ （ｂ） 情４図（ｃｌ） 入側ビーム 剤 妃ビーム 手 続 補 正 書 昭和６０年３月３目 特許庁長官 殿 ／、事件の表示 適 特願昭５９−３０８８７号 λ１発明の名称 ビーム整形光学系 ３、補正をする者 事件との関係 出願人 住所 東京都板橋区前野町２丁目３６番９号名称 （０
５２） 旭光学工業株式会社代表者 松本 徹 ダ９代理人 居所 東京都板橋区前野町２丁目３６番９号Ｊ、補正の
対象 （１）明細書の「発明の詳細な説明」の欄（２）図 面 乙、補正の内容 （１）明細書の［発明の詳細な説明Ｊの欄中。 第４頁第４行目にある 「近づく」を「近づけるＪと補正する。 （２）同第６頁第１３行１コにある １次の（１）〜（４）の条件Ｊを 「次の（１）〜（３）の条件」と補正する。 （３）同第６頁第１６行目〜第１８行ｇｋ次のとおり補
正する。 Ｉｔ’（２） Ｏ２２／θＺ＋＞１ （３） ＯｚｉＩ／ Ｏｚ ｒ ＜ＯＪｌ（４）同第７
頁第１行口にある 「条！１″（１）〜（４）」を ｒ条イ）Ｉ’ （１）〜（３）Ｊと補正する。 （５）同第７頁第２行日にある ｒ条件（１）、 （２） 、（３）」を「条件（１）、
（２） Ｊｌと補正する。 （６）同第７頁第８行目にある ｒ条件（４）勇を 「条件（３）Ｊと補正する。 （７）同第７頁第１１行目〜第１２行目を次のとおり補
正する。 「（４） （１ｔ ／ ｋｒ Ｚ ＞０．８（５）ｄ＋
／ （ｄ２＋（１１）＞Ｉ Ｊｌ（８）図面中、第２
図（ａ）、第２図（ｂ）、第３図（ａ）、第３図（ｂ）
を別紙のとおり補正する。 ・１１、゛□
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １２つのプリズムからなるアフォーカルアナモフィック
光学系であって、該光学系に平行ビームを入射させたと
き、ある方向に射出ビーム幅を拡大または縮小する作用
を持ち、該光学系には入射光ビームを１面に対しである
角度で入射させた場合に入射光と射出光が平行になるよ
うな入射角があり、そのような入射角で入射光が入射す
る時その光学系の有効な開口部の中に、１本の入射光２
２つのプリズムからなるアフォーカルアナモフィック光
学系であって、該光学系に平行ビームを入射させたとき
、ある方向に射出ビーム幅を拡大または縮小する作用を
持ち、該光学系には入射光ビームを１面に対しである角
度で入射させた場合に入射光と射出光が平行になるよう
な入射角があり、そのような入射角で入射光が入射する
時その光学系の有効な開口部の中に、１本の入射光以上
組み合わせて構成した平行ビーム整形光学系。 ３ 特許請求の範囲第２項において、組み合わせるビー
ム整形光学系が同一あるいは同一でない光学系であり、
その組み合わせる光学系のビーム変換作用を持つ方向が
同一方向にそろっていないことを特徴とする平行ビーム
整形光学系。 ４ 特許請求の範囲第２項または第３項において、同一
のビーム幅の拡大率あるいは縮小率を有するビーム整形
光学系を２段組み合わせ、ビーム幅の拡大率あるいは縮
小率をビームの方向によらず一定としたことを特徴とす
る平行ビーム整形光学系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59030887A JPS60175018A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | ビ−ム整形光学系 |
| US07/212,613 US4948233A (en) | 1984-02-20 | 1988-06-28 | Beam shaping optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59030887A JPS60175018A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | ビ−ム整形光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60175018A true JPS60175018A (ja) | 1985-09-09 |
| JPS6233569B2 JPS6233569B2 (ja) | 1987-07-21 |
Family
ID=12316236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59030887A Granted JPS60175018A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | ビ−ム整形光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60175018A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4915484A (en) * | 1987-04-06 | 1990-04-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Anamorphic single lens |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50147341A (ja) * | 1974-05-15 | 1975-11-26 |
-
1984
- 1984-02-20 JP JP59030887A patent/JPS60175018A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50147341A (ja) * | 1974-05-15 | 1975-11-26 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4915484A (en) * | 1987-04-06 | 1990-04-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Anamorphic single lens |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6233569B2 (ja) | 1987-07-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5402267A (en) | Catadioptric reduction objective | |
| US5742436A (en) | Maximum aperture catadioptric reduction objective for microlithography | |
| US5153778A (en) | Powerless field-corrective lens | |
| US4948233A (en) | Beam shaping optical system | |
| US4685777A (en) | Reflection and refraction optical system | |
| EP0816892A2 (en) | Catadioptric lens system | |
| US3751136A (en) | Variable focal length anamorphotic cinecamera systems | |
| US5844728A (en) | Catadioptric reduction projection optical system | |
| EP0869383A2 (en) | Catadioptric optical system | |
| JPH0588089A (ja) | 反射屈折縮小投影光学系 | |
| KR20010062830A (ko) | 비구면 요소를 갖는 투영 노출 렌즈 시스템 | |
| JP6393906B2 (ja) | 投写光学系および画像投写装置 | |
| US5179398A (en) | Projector and image adjustment method | |
| JP2001154094A (ja) | 物理的ビームスプリッタを備えたカタジオプトリック対物レンズ | |
| US6122107A (en) | Angular integrator | |
| JPS6269217A (ja) | 焦点検出装置 | |
| US3975095A (en) | Catoptric projection system with a spherical reflecting surface | |
| US5369521A (en) | Scanning type projector | |
| JPH0130125B2 (ja) | ||
| JPS60175018A (ja) | ビ−ム整形光学系 | |
| JPH02181712A (ja) | 色消しレーザ走査光学系 | |
| JP7493156B2 (ja) | 光学系 | |
| JPH10308344A (ja) | 反射屈折投影光学系 | |
| JPS62210415A (ja) | 精密複写用投影光学系 | |
| JPH08220432A (ja) | 投影光学系および該光学系を備えた露光装置 |