JPS60174874A - メタルマスク - Google Patents
メタルマスクInfo
- Publication number
- JPS60174874A JPS60174874A JP2295984A JP2295984A JPS60174874A JP S60174874 A JPS60174874 A JP S60174874A JP 2295984 A JP2295984 A JP 2295984A JP 2295984 A JP2295984 A JP 2295984A JP S60174874 A JPS60174874 A JP S60174874A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- alloy
- melting point
- mask
- metal mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は基板上に薄膜等を被覆する場合、そのパターン
形成に用いられるメタルマスクに関する。
形成に用いられるメタルマスクに関する。
〈従来技術〉
メタルマスクは真空蒸着法等で微細パターンを形成する
のに用いられているが、使用に伴ないメタルマスク上に
パターン形成物質が堆積するため、ノ臂ターンの目詰シ
が生じ、反復使用に限度があった。とくに、メタルマス
ク沫で７リツプチツｆｄ？ンデイング用のソルダバング
を形成する場合、ソルダの蒸着膜厚は約５０μｍでアシ
、メタルマスクの板厚と同程度の厚さに達するため、再
生処理を施さずに再使用するのは難かしい。
のに用いられているが、使用に伴ないメタルマスク上に
パターン形成物質が堆積するため、ノ臂ターンの目詰シ
が生じ、反復使用に限度があった。とくに、メタルマス
ク沫で７リツプチツｆｄ？ンデイング用のソルダバング
を形成する場合、ソルダの蒸着膜厚は約５０μｍでアシ
、メタルマスクの板厚と同程度の厚さに達するため、再
生処理を施さずに再使用するのは難かしい。
このため一般に上記゛メタルマスクを再生処理すること
が行なわれている。従来、メタルマスクの再生処理は、
メタルマスク上の蒸着物質を塩酸等の強酸あるいは強ア
ルカリなどを溶剤として溶出する方法によシ行なわれて
いる。この従来の化学処理による方法は、メタルマスク
を侵さず蒸着物質のみを溶解させる必要上、汎用性に欠
け、メタルマスクの材質と蒸着物質の組み合わせによシ
使用できる溶剤が限られ、場合によっては適切な溶剤が
無いため高価なメタルマスクを使い捨てにしなければな
らないという問題がある。
が行なわれている。従来、メタルマスクの再生処理は、
メタルマスク上の蒸着物質を塩酸等の強酸あるいは強ア
ルカリなどを溶剤として溶出する方法によシ行なわれて
いる。この従来の化学処理による方法は、メタルマスク
を侵さず蒸着物質のみを溶解させる必要上、汎用性に欠
け、メタルマスクの材質と蒸着物質の組み合わせによシ
使用できる溶剤が限られ、場合によっては適切な溶剤が
無いため高価なメタルマスクを使い捨てにしなければな
らないという問題がある。
また従来の化学処理法の場合、塩酸、過酸化水素水等の
腐食性の強い薬品中で蒸着物質をエツチング除去するも
のであるから、再生に時間がかかるだけでなくエツチン
グ液の廃液処理上の問題がある。
腐食性の強い薬品中で蒸着物質をエツチング除去するも
のであるから、再生に時間がかかるだけでなくエツチン
グ液の廃液処理上の問題がある。
〈発明の目的〉
本発明は上記従来の問題点を解消するため再生の容易な
メタルマスクを提供することを目的とする。
メタルマスクを提供することを目的とする。
〈発明の構成〉
本発明は上記目的を達成するため、メタルマスクの表面
に該メタルマスクと合金を形成しない低融点金属を被覆
したことを特徴とする。
に該メタルマスクと合金を形成しない低融点金属を被覆
したことを特徴とする。
メタルマスクはモリブデン（Ｍｏ ） 、ステンレス、
Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ 合金（商品名コバール）等によって
一般に形成されているが、本発明はこれらメタルマスク
の表面に該メタルマスクと合金を形成しない低融点金属
を被覆し被覆ごと蒸着付着物を除去することにより、メ
タルマスクに悪影響を与えず容易に再生できるようにし
たものである。
Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ 合金（商品名コバール）等によって
一般に形成されているが、本発明はこれらメタルマスク
の表面に該メタルマスクと合金を形成しない低融点金属
を被覆し被覆ごと蒸着付着物を除去することにより、メ
タルマスクに悪影響を与えず容易に再生できるようにし
たものである。
上記被覆用低融点金属としてはメタルマスクとは合金を
形成しない低融点のものであることが必要である。上記
金属としてはＢ１基の低融点合金、例えば融点６０℃の
ウッド合金、融点７゜℃のリポウィック合金、融点６０
℃のアナトミカル合金等種々のものが、Ｍｏ、ステンレ
ス、コバール等のメタルマスクの被覆に適用できる。
形成しない低融点のものであることが必要である。上記
金属としてはＢ１基の低融点合金、例えば融点６０℃の
ウッド合金、融点７゜℃のリポウィック合金、融点６０
℃のアナトミカル合金等種々のものが、Ｍｏ、ステンレ
ス、コバール等のメタルマスクの被覆に適用できる。
また、Ｉｎ基の低融点合金としては、実施例に示すもの
の他、融点１１−７℃のＩｎ −４８％Ｓｎ合金モ、Ｍ
ｏ１ステンレス、コバールから成るメタルマスクの被覆
に適用できる。
の他、融点１１−７℃のＩｎ −４８％Ｓｎ合金モ、Ｍ
ｏ１ステンレス、コバールから成るメタルマスクの被覆
に適用できる。
上記低融点合金は上記被援用金属として好適に用いるこ
とができる。本発明はこれら低融点合金のように通常メ
タルマスクに使用される材質よシも融点が極めて低い金
属は、一般にメタルマスクと合金化せず、メタルマスク
とのぬれ性が著しく劣る性質に着目し、この性質を積極
的に利用したものである。
とができる。本発明はこれら低融点合金のように通常メ
タルマスクに使用される材質よシも融点が極めて低い金
属は、一般にメタルマスクと合金化せず、メタルマスク
とのぬれ性が著しく劣る性質に着目し、この性質を積極
的に利用したものである。
即ち低融点合金の表面酸化皮膜前の汚染皮膜を除去し、
該低融点合金の表面張力を低下させる効果のあるフラッ
クスを該低融点付会に塗布しあるいは、該スラックス中
に該低融点合金被覆のメタルマスクを浸漬し、該低融点
合金の融点以上で加熱することによシ、円滑に該低融点
合金をメタルマスクから遊離させるものである。
該低融点合金の表面張力を低下させる効果のあるフラッ
クスを該低融点付会に塗布しあるいは、該スラックス中
に該低融点合金被覆のメタルマスクを浸漬し、該低融点
合金の融点以上で加熱することによシ、円滑に該低融点
合金をメタルマスクから遊離させるものである。
これによシ被覆上に付着した蒸着物質は被覆と共に除去
され容易にメタルマスクが再生される。
され容易にメタルマスクが再生される。
〈実施例〉
板厚２５μｍのＭｏよ構成るメタルマスク上に、真空蒸
着法で厚さ２ ｆｉｍのＩｎ−３３％Ｂ１−１６％Ｓｎ
三元共晶合金（融点６０℃）を全面に均一に被覆し、
本発明のメタルマスクを得た（％は重量％を示す）。
着法で厚さ２ ｆｉｍのＩｎ−３３％Ｂ１−１６％Ｓｎ
三元共晶合金（融点６０℃）を全面に均一に被覆し、
本発明のメタルマスクを得た（％は重量％を示す）。
該メタルマスクを使用し、Ｓｉデバイスチップ上に、Ｃ
ｒ 、 Ｃｕ 、 Ａｕ の順序で各２０００人真壁蒸
着し、さらにソルダとして、融点１８３℃のＳｎ −３
７％ｐｂ二元共晶合金を厚さ３０μｍ真空蒸着し、直径
４０μｍ１ピツチ１００μｍの高密度微細ノルダパング
を形成した。このソルダパン１作製に使用したメタルマ
スクは使用後、ジメチルアミン塩酸塩２％、酒石酸８％
を活性剤とし、プチルセロンｌｆ２５ ％、ポリエチレ
ングリコール（分子量ＺＯＯ）６５％を溶媒とする水溶
性７ラツクス中に浸漬し、温度８０℃で１０分間、該メ
タルマスクを該スラックス中で攪拌することにより再生
処理した。
ｒ 、 Ｃｕ 、 Ａｕ の順序で各２０００人真壁蒸
着し、さらにソルダとして、融点１８３℃のＳｎ −３
７％ｐｂ二元共晶合金を厚さ３０μｍ真空蒸着し、直径
４０μｍ１ピツチ１００μｍの高密度微細ノルダパング
を形成した。このソルダパン１作製に使用したメタルマ
スクは使用後、ジメチルアミン塩酸塩２％、酒石酸８％
を活性剤とし、プチルセロンｌｆ２５ ％、ポリエチレ
ングリコール（分子量ＺＯＯ）６５％を溶媒とする水溶
性７ラツクス中に浸漬し、温度８０℃で１０分間、該メ
タルマスクを該スラックス中で攪拌することにより再生
処理した。
上記再生処理の結果、ＭＯメタルマスク上に被覆した前
記のＩｎ −３３％Ｂｉ −１６％、Ｓｎ 低融点合金
が溶出し、該低融点合金上に蒸着したＣｒ 、 Ｃｕ
、 Ａｕ及びＳｎ −３７％ｐｂ を完全に剥離するこ
とができた。尚、フラックスを使用しないで、単に該低
融点合金の融点以上に加熱するのみでは、該低融点合金
の溶出が不均一となシ、メタルマスクの目づまシが生じ
る等、実用に耐えなかった。又、本実施例のメタルマス
クについても再生処理をしなければ、１回しか使用に耐
えなかった。
記のＩｎ −３３％Ｂｉ −１６％、Ｓｎ 低融点合金
が溶出し、該低融点合金上に蒸着したＣｒ 、 Ｃｕ
、 Ａｕ及びＳｎ −３７％ｐｂ を完全に剥離するこ
とができた。尚、フラックスを使用しないで、単に該低
融点合金の融点以上に加熱するのみでは、該低融点合金
の溶出が不均一となシ、メタルマスクの目づまシが生じ
る等、実用に耐えなかった。又、本実施例のメタルマス
クについても再生処理をしなければ、１回しか使用に耐
えなかった。
再生法に使用するフラックスとしては、本実施例のもの
に限らず、公知のグルタミン酸塩酸塩と尿素を活性剤と
する水溶性フラックス等の有機ハロダン系７ラツクスの
他、フラックスとしては最も多用されているロジン系フ
ラックスのアルコール溶液等も効果があった８ 〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明のメタルマスクは低融点合
金を被覆することによシ、メタルマスクの性能を低下さ
せることなく、該メタルマスクを極めて容易に再生でき
る。
に限らず、公知のグルタミン酸塩酸塩と尿素を活性剤と
する水溶性フラックス等の有機ハロダン系７ラツクスの
他、フラックスとしては最も多用されているロジン系フ
ラックスのアルコール溶液等も効果があった８ 〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明のメタルマスクは低融点合
金を被覆することによシ、メタルマスクの性能を低下さ
せることなく、該メタルマスクを極めて容易に再生でき
る。
しかも本発明は被覆金属をメタルマスク表面に施せばよ
いので汎用性があシ、かつその製造も容易でおる。更に
従来の化学処理法のように強酸性溶液で蒸着物質を溶か
す方法と異なり、使用するフラックスは非腐食性のもの
でもよく、フラックスの廃液および廃液中に含まれる重
金属による環境汚染を生じない利点り、ある。
いので汎用性があシ、かつその製造も容易でおる。更に
従来の化学処理法のように強酸性溶液で蒸着物質を溶か
す方法と異なり、使用するフラックスは非腐食性のもの
でもよく、フラックスの廃液および廃液中に含まれる重
金属による環境汚染を生じない利点り、ある。
特許出願人 日本電信電話公社
Claims (1)
- メタルマスクの表面に該メタルマスクと合金を形成しな
い低融点金属を被覆したことを特徴とするメタルマスク
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2295984A JPS60174874A (ja) | 1984-02-13 | 1984-02-13 | メタルマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2295984A JPS60174874A (ja) | 1984-02-13 | 1984-02-13 | メタルマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60174874A true JPS60174874A (ja) | 1985-09-09 |
Family
ID=12097134
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2295984A Pending JPS60174874A (ja) | 1984-02-13 | 1984-02-13 | メタルマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60174874A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0790327A1 (en) * | 1996-02-15 | 1997-08-20 | Mitsubishi Materials Corporation | Deposition-preventing part for physical vapor deposition apparatuses |
| DE102005054611B4 (de) * | 2004-11-09 | 2010-04-15 | Creavac Creative Vakuumbeschichtung Gmbh | Verfahren zur Herstellung mäanderförmiger Widerstandsschichten von elektrisch beheizbaren Spiegelgläsern |
| WO2016107637A1 (en) * | 2014-12-29 | 2016-07-07 | Applied Materials, Inc. | Masking arrangement for masking a substrate during a deposition process, deposition apparatus for layer deposition on a substrate, and method for cleaning a masking arrangement |
-
1984
- 1984-02-13 JP JP2295984A patent/JPS60174874A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0790327A1 (en) * | 1996-02-15 | 1997-08-20 | Mitsubishi Materials Corporation | Deposition-preventing part for physical vapor deposition apparatuses |
| DE102005054611B4 (de) * | 2004-11-09 | 2010-04-15 | Creavac Creative Vakuumbeschichtung Gmbh | Verfahren zur Herstellung mäanderförmiger Widerstandsschichten von elektrisch beheizbaren Spiegelgläsern |
| WO2016107637A1 (en) * | 2014-12-29 | 2016-07-07 | Applied Materials, Inc. | Masking arrangement for masking a substrate during a deposition process, deposition apparatus for layer deposition on a substrate, and method for cleaning a masking arrangement |
| CN107109619A (zh) * | 2014-12-29 | 2017-08-29 | 应用材料公司 | 用于沉积处理期间掩蔽基板的掩蔽布置、用于在基板上的层沉积的沉积设备、和用于清洁掩蔽布置的方法 |
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