JPS60169593A - 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製法 - Google Patents
高密度磁気記録材用アルマイト基板の製法Info
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- JPS60169593A JPS60169593A JP2195784A JP2195784A JPS60169593A JP S60169593 A JPS60169593 A JP S60169593A JP 2195784 A JP2195784 A JP 2195784A JP 2195784 A JP2195784 A JP 2195784A JP S60169593 A JPS60169593 A JP S60169593A
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- Japan
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- alumite
- chromic acid
- magnetic recording
- aluminum
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
密度の低下を防止し得て黒点欠陥がなく，平滑度。
耐熱性などがすぐれている高密度磁気記録材用アルマイ
ト基板の製法に関するものである。
ト基板の製法に関するものである。
磁気ティスフなどのような磁気記録材基板として要望さ
れている耐摩耗性がすぐれ，研摩イ′１も良好で高精度
の平滑面が得られ易く，容易にその表面に薄膜の磁性層
が形成できるといった賭性質を具備しているものとして
アルマイト処理を施行したアルミニウム又はアルミニウ
ム合金利が用いられている。しかし７ながら，このアル
マイト基板には，アルミニウム又はアルミニウム合金素
利中に存在する鉄，ケイ素などの不純分が金属間化合物
として晶出し，これが累月表面に点在してアルマイト処
理に際してこの部分がごく微小なアルマイト皮膜欠落部
となるいわゆる黒点欠陥が生じ，この欠落部は当初１ｒ
ｉサブミクロン単位のごく微小なものであるが，アルマ
イト皮膜の成長とともに拡大し，５μｍ以上の皮膜厚の
アルマイト層では。
れている耐摩耗性がすぐれ，研摩イ′１も良好で高精度
の平滑面が得られ易く，容易にその表面に薄膜の磁性層
が形成できるといった賭性質を具備しているものとして
アルマイト処理を施行したアルミニウム又はアルミニウ
ム合金利が用いられている。しかし７ながら，このアル
マイト基板には，アルミニウム又はアルミニウム合金素
利中に存在する鉄，ケイ素などの不純分が金属間化合物
として晶出し，これが累月表面に点在してアルマイト処
理に際してこの部分がごく微小なアルマイト皮膜欠落部
となるいわゆる黒点欠陥が生じ，この欠落部は当初１ｒ
ｉサブミクロン単位のごく微小なものであるが，アルマ
イト皮膜の成長とともに拡大し，５μｍ以上の皮膜厚の
アルマイト層では。
５〜１０μｍのピノト状微小欠陥となるものであって，
この数が多いほど磁気記録相における信号エラーが多く
なるものであって好寸しくない問題である。又，高密度
磁気記録材とする場合，アルマイト基板上にα−Ｆｅ３
０＝をスパツタリングその他の方法によって被着させ，
これを３００〜４００℃に加熱してγ−Ｆｅ＝０＝化す
る必要があるが、このような高温加熱を行なった場合、
アルマイト皮膜に亀裂が生じ、このために製品不良をお
こし易いという問題があり、そのためにアルマイト １〜３μＩｎ程度といった極端に薄い皮膜厚にしなけれ
ばならずアルマイト基板の耐ヘツドクラノン−件低一Ｆ
の原因となるといった問題もあった。
この数が多いほど磁気記録相における信号エラーが多く
なるものであって好寸しくない問題である。又，高密度
磁気記録材とする場合，アルマイト基板上にα−Ｆｅ３
０＝をスパツタリングその他の方法によって被着させ，
これを３００〜４００℃に加熱してγ−Ｆｅ＝０＝化す
る必要があるが、このような高温加熱を行なった場合、
アルマイト皮膜に亀裂が生じ、このために製品不良をお
こし易いという問題があり、そのためにアルマイト １〜３μＩｎ程度といった極端に薄い皮膜厚にしなけれ
ばならずアルマイト基板の耐ヘツドクラノン−件低一Ｆ
の原因となるといった問題もあった。
これらの問題を解決する手段として，さきに。
アルミニウム又はアルミニウム合金材をクロム酸溶液浴
中で定電圧法によって通常使用される電圧より高い電解
電圧でアルマイト処理する方法を提案した。（特願昭５
８−４４３６４）Ｌかしガから。
中で定電圧法によって通常使用される電圧より高い電解
電圧でアルマイト処理する方法を提案した。（特願昭５
８−４４３６４）Ｌかしガから。
この方法において，同一浴を長時間使用している見次第
に電流密度が低下し，電解時間が長くなり。
に電流密度が低下し，電解時間が長くなり。
皮膜の性状も悪化させる傾向があることが認められた。
本発明者らは，この原因を究明し，解決手段を得べく研
究を重ねた結果，その原因は，アルマイト処理中に，生
成したアルマイト皮膜の一部が溶解していくためにクロ
ム酸浴中のアルミニウムイオン量が増加し，このために
電流密度が低下し。
究を重ねた結果，その原因は，アルマイト処理中に，生
成したアルマイト皮膜の一部が溶解していくためにクロ
ム酸浴中のアルミニウムイオン量が増加し，このために
電流密度が低下し。
電解時間が延びることによることを認め，クロム酸浴中
のアルミニウムイオン量を一始値以下に維持しながらア
ルマイト処理することによって％’６決し得ることを認
めて本発明をなしたものである。
のアルミニウムイオン量を一始値以下に維持しながらア
ルマイト処理することによって％’６決し得ることを認
めて本発明をなしたものである。
すなわち、本発明は，アルミニウム又はアルミニウム合
金利をクロム酸溶液浴中へ溶解しているアルミニウムイ
オン量をクロム酸濃度の１／２０以下に維持しながら１
５〜１５重量係のクロム酸溶液浴中で定電圧法により６
０Ｖよシ高い電圧でアルマイト処理する高密度磁気記録
材用アルマイト基板の製法である。
金利をクロム酸溶液浴中へ溶解しているアルミニウムイ
オン量をクロム酸濃度の１／２０以下に維持しながら１
５〜１５重量係のクロム酸溶液浴中で定電圧法により６
０Ｖよシ高い電圧でアルマイト処理する高密度磁気記録
材用アルマイト基板の製法である。
本発明において使用するアルミニウム又はアルミニウム
合金材としては，通常の累月を使用し得るが，黒点欠陥
の点からは，鉄，ケイ素などの含有量の少ないものの方
が好ましい。
合金材としては，通常の累月を使用し得るが，黒点欠陥
の点からは，鉄，ケイ素などの含有量の少ないものの方
が好ましい。
又，本発明においてアルマイト用電解浴として使用する
クロム酸溶液の濃度は，１．５〜１５重量係であって，
この範囲外の濃度では効果を十分に発揮し得ないもので
あって，浴温度は，従来のブノーリ”−ド法と吋ばれる
定電圧クロム酸アルマイト法における条イ／１とほぼ同
様な３５〜５０°Ｃであるが，重用−は，ブノサ−１・
法の４０Ｖよりも高く。
クロム酸溶液の濃度は，１．５〜１５重量係であって，
この範囲外の濃度では効果を十分に発揮し得ないもので
あって，浴温度は，従来のブノーリ”−ド法と吋ばれる
定電圧クロム酸アルマイト法における条イ／１とほぼ同
様な３５〜５０°Ｃであるが，重用−は，ブノサ−１・
法の４０Ｖよりも高く。
６ ０ Ｖ以上，りｆ″！ｆシ＜は７０〜１００Ｖの範
囲て処」１１１するものである。
囲て処」１１１するものである。
しかして、アルマイト処理中のクロム酸浴中に溶育する
アルミニウムイオン量を，そのクロム酸θ１°Ｊ度の＋
／２ｏ以下に維持するものであって， Ｉ，／２０以ｊ
．になると電流密度が低下し，電解時間が長くなり，皮
膜の性状を悪化させるものである。アルミニウムイオン
濃度をクロム酸濃度の１／２０以下に保つ／こめには，
／ことえば，イオン交換樹脂法，イオン透析膜法などに
よってこれらのいずれかを電フＩＩイ槽に直列あるいｄ
、並列に設置し所望のアルミニウムイオン濃度に管片す
ることができる。
アルミニウムイオン量を，そのクロム酸θ１°Ｊ度の＋
／２ｏ以下に維持するものであって， Ｉ，／２０以ｊ
．になると電流密度が低下し，電解時間が長くなり，皮
膜の性状を悪化させるものである。アルミニウムイオン
濃度をクロム酸濃度の１／２０以下に保つ／こめには，
／ことえば，イオン交換樹脂法，イオン透析膜法などに
よってこれらのいずれかを電フＩＩイ槽に直列あるいｄ
、並列に設置し所望のアルミニウムイオン濃度に管片す
ることができる。
次に，アルミニウム合金板（Ａｌ−３％Ｍｇ合金）を４
０°Ｃに保持した３重量係クロム酸溶液浴中で溶イｒす
るアルミニウム量を変化させて，８０■の直流定電圧に
Ｊ：ってアルマイト処理した場合の電流密度及び電解時
間並びに高密度磁気記録材用アルマイト基板に要求され
る黒点，クラック及び硬度について評価した結果を次表
に示す。なお、アルマイト皮膜厚はいずれも１０μｍと
した。
０°Ｃに保持した３重量係クロム酸溶液浴中で溶イｒす
るアルミニウム量を変化させて，８０■の直流定電圧に
Ｊ：ってアルマイト処理した場合の電流密度及び電解時
間並びに高密度磁気記録材用アルマイト基板に要求され
る黒点，クラック及び硬度について評価した結果を次表
に示す。なお、アルマイト皮膜厚はいずれも１０μｍと
した。
黒点の評価は，顕微鏡視野（０．３６＋ηｄ）において
。
。
○ば２． ５ μｍ以下，△は３． ５ ｔｔｍ以下，
×は５μｍ以下の黒点が１ケ以下であることを示し，又
，クラックの評価は，加熱処理後のアルマイト基板を顕
微鏡観察し，○はクラックが全くないもの，△は部分的
にクラックを生じたもの，×は全面的にクラックが生じ
たことを示し，さらに、硬度の評価は，微小硬度側を使
用して測定した結果で，○（ｃｉ ２ ５ ０ Ｈｖ以
上，△は２００〜２５０Ｉ（ｖ，Ｘは２ ０ ０ Ｈｖ
以下であることを示す。
×は５μｍ以下の黒点が１ケ以下であることを示し，又
，クラックの評価は，加熱処理後のアルマイト基板を顕
微鏡観察し，○はクラックが全くないもの，△は部分的
にクラックを生じたもの，×は全面的にクラックが生じ
たことを示し，さらに、硬度の評価は，微小硬度側を使
用して測定した結果で，○（ｃｉ ２ ５ ０ Ｈｖ以
上，△は２００〜２５０Ｉ（ｖ，Ｘは２ ０ ０ Ｈｖ
以下であることを示す。
上表にみらＩ′とるように、クロム酸溶液浴中のアルミ
ニウムイオノ計がクロム酸濃度の１／２０以下でアルマ
イト処理（〜だ場合には、電流密度の低下及び電Ｗ（時
間の延長はそれほど大きくなく、かつアルマイト基板に
要求される皮膜性状も十分満足しているものがイ↓Ｊら
れている。これに対して、クロノ、酸濃度に対して１／
２０以上になると電流密度は急激に低下し、これに伴な
い電解時間も大巾に長くなり、得られたアルマイト基板
の皮膜性状もクラックが発生し、硬度も低下するために
高密度磁気記録利用として不適当であることが認められ
る。
ニウムイオノ計がクロム酸濃度の１／２０以下でアルマ
イト処理（〜だ場合には、電流密度の低下及び電Ｗ（時
間の延長はそれほど大きくなく、かつアルマイト基板に
要求される皮膜性状も十分満足しているものがイ↓Ｊら
れている。これに対して、クロノ、酸濃度に対して１／
２０以上になると電流密度は急激に低下し、これに伴な
い電解時間も大巾に長くなり、得られたアルマイト基板
の皮膜性状もクラックが発生し、硬度も低下するために
高密度磁気記録利用として不適当であることが認められ
る。
水元１３Ｊ］は、クロム酸アルマイト法におけるクロム
溶液浴中のアルミニウムイオン量がクロム酸濃度の１／
２０以下になるように維持して電解するようにしたので
、電流密度の低下にしたがって電Ｍ［情間が長くなるこ
とを防止し得て、黒点欠陥がなく。
溶液浴中のアルミニウムイオン量がクロム酸濃度の１／
２０以下になるように維持して電解するようにしたので
、電流密度の低下にしたがって電Ｍ［情間が長くなるこ
とを防止し得て、黒点欠陥がなく。
平滑度、耐熱性などがすぐれているアルマイト基板を製
造し得たものであってすぐれた効果が認められる。
造し得たものであってすぐれた効果が認められる。
次に２本発明方法の実施例を述べる。
実施例
高密度磁気記録材用アルミニウム合金ｎＵ’ （ＡＬ
−３％Ｍｇ合金、内径７５ｍｍ＋外径２００ｍｍ＋厚さ
２ｍｍ、 ）を所定の表面研摩を施した後、非侵食性洗
浄剤によって洗浄した後、４０℃に加熱保持した３重ｔ
％のクロム酸溶液浴中の溶存アルミニウムイオン量を
０．９ ＶＩＩになるように維持し、前記アルミニウム
合金材を浸漬し、アノードとして直流電圧を８０Ｖ一定
としてアルマイト処理を行ない。
−３％Ｍｇ合金、内径７５ｍｍ＋外径２００ｍｍ＋厚さ
２ｍｍ、 ）を所定の表面研摩を施した後、非侵食性洗
浄剤によって洗浄した後、４０℃に加熱保持した３重ｔ
％のクロム酸溶液浴中の溶存アルミニウムイオン量を
０．９ ＶＩＩになるように維持し、前記アルミニウム
合金材を浸漬し、アノードとして直流電圧を８０Ｖ一定
としてアルマイト処理を行ない。
１０１１ｍの乳白色の平滑なアルマイト皮膜を形成させ
た。
た。
このときの電流密度は０．４．５ ｋ／ｄｍ２であり、
電解時間は１０７分間であった。
電解時間は１０７分間であった。
得られた皮膜を顕微鏡で観察したが、黒点欠陥は認めら
れなかった。又、この皮膜をさらに３５０℃に２時間加
熱した後、顕微鏡で観察したがクラックは皆無であった
。さらに、皮膜のビッカース硬度ば２８０ Ｈｖであっ
た。
れなかった。又、この皮膜をさらに３５０℃に２時間加
熱した後、顕微鏡で観察したがクラックは皆無であった
。さらに、皮膜のビッカース硬度ば２８０ Ｈｖであっ
た。
比較例 ）
長時間連続使用することによって、３重量％のクロノ、
酸溶液浴中のアルミニウムイオン量が１７９／ｌ Ｋな
った浴を使用して他は実施例と同様条件で同様にアルマ
イト処岬を行なった結果、電流密度は０．３１ Ａ／ｄ
ｍ’であり、電解時間は１７５分間であった○イＩＩら
れたアルマイト皮膜は、黒点欠陥及びクラックの発生が
認められ、ビッカース硬度は２２０ ＨＶであった。
酸溶液浴中のアルミニウムイオン量が１７９／ｌ Ｋな
った浴を使用して他は実施例と同様条件で同様にアルマ
イト処岬を行なった結果、電流密度は０．３１ Ａ／ｄ
ｍ’であり、電解時間は１７５分間であった○イＩＩら
れたアルマイト皮膜は、黒点欠陥及びクラックの発生が
認められ、ビッカース硬度は２２０ ＨＶであった。
特５′１出願人 口本軽金属株式会社
Claims (1)
- ］）アルミニウム又はアルミニウム合金材をクロム酸溶
液浴中へ溶フ竹しているアルミニウムイオン）［４をク
ロム酸濃度の１／２０以下に維持しながら１．５〜１５
重り１係のクロム酸溶液浴中で定電圧法により６０Ｖよ
シ高い電圧でアルマイト処理することを特徴とする高密
度磁気記録利用アルマイト基板の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2195784A JPS60169593A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2195784A JPS60169593A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60169593A true JPS60169593A (ja) | 1985-09-03 |
| JPS6260478B2 JPS6260478B2 (ja) | 1987-12-16 |
Family
ID=12069541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2195784A Granted JPS60169593A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60169593A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005206937A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-08-04 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 酸化物被覆方法および装置 |
-
1984
- 1984-02-10 JP JP2195784A patent/JPS60169593A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005206937A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-08-04 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 酸化物被覆方法および装置 |
| JP4559188B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2010-10-06 | 東洋製罐株式会社 | 酸化物被覆方法および装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6260478B2 (ja) | 1987-12-16 |
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