JPS60163889A - Ν−ホスホノメチルグリシンの製造方法 - Google Patents
Ν−ホスホノメチルグリシンの製造方法Info
- Publication number
- JPS60163889A JPS60163889A JP59009617A JP961784A JPS60163889A JP S60163889 A JPS60163889 A JP S60163889A JP 59009617 A JP59009617 A JP 59009617A JP 961784 A JP961784 A JP 961784A JP S60163889 A JPS60163889 A JP S60163889A
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- JP
- Japan
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- hexahydro
- phosphonomethylglycine
- acid
- substituted
- riazine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
- C07F9/3804—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se) not used, see subgroups
- C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
- C07F9/3813—N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、除草剤および植物生長調節剤として知られ
ているN−ホスホノメチルグリシンの新規な製造方法に
関する。
ているN−ホスホノメチルグリシンの新規な製造方法に
関する。
除草剤は、主要作物であるトウモロコシ、大豆、米その
他の収穫量を増加するために、あるいはまたハイウェー
、鉄道用地その他の地域の雑草を除去するために、農家
や、原産会社その他の産業分野で広く使用されている。
他の収穫量を増加するために、あるいはまたハイウェー
、鉄道用地その他の地域の雑草を除去するために、農家
や、原産会社その他の産業分野で広く使用されている。
除草剤は、作物のための土壌中の養分を奪ってしまう不
用雑草を殺した!ll調節したり、あるいはハイウェー
や鉄道用地の美観を改善したすするのに有効である。商
業的に販売されている除草剤には種々の異ったタイプの
もの(3) があるが、大別して発芽前の除草剤と発芽後の除草剤の
2つの範噂に分けられる。発芽前除草剤は、雑草が土中
から出現する前に土壌招し 中に適用される。そして発芽後除草剤は、除草や不用植
物が土中から出現した後に植物の表面に適用される。
用雑草を殺した!ll調節したり、あるいはハイウェー
や鉄道用地の美観を改善したすするのに有効である。商
業的に販売されている除草剤には種々の異ったタイプの
もの(3) があるが、大別して発芽前の除草剤と発芽後の除草剤の
2つの範噂に分けられる。発芽前除草剤は、雑草が土中
から出現する前に土壌招し 中に適用される。そして発芽後除草剤は、除草や不用植
物が土中から出現した後に植物の表面に適用される。
早くから商業的に知られている発芽後除草剤の一つは、
2.4−D(2,4−ジクロロフェノキシ酢酸)である
。この化合物や類似の、例えば2,4.5−T (2,
4,5−)ジクロロフェノキシ酢酸)は永年使用されて
来たが、これらの分解物は永く土壌中に留り、生物によ
シ分解されないことが判った。政府当局と商業上の利害
関係者との間で、これらの残留影響について議論された
が、当局は数年前これらの除草剤の米国での使用を制限
した。そのとき以来、適用後比較的短期間で生物的に分
解されて無害な残留物に変る除草剤の開発に努力が払わ
れてきた。
2.4−D(2,4−ジクロロフェノキシ酢酸)である
。この化合物や類似の、例えば2,4.5−T (2,
4,5−)ジクロロフェノキシ酢酸)は永年使用されて
来たが、これらの分解物は永く土壌中に留り、生物によ
シ分解されないことが判った。政府当局と商業上の利害
関係者との間で、これらの残留影響について議論された
が、当局は数年前これらの除草剤の米国での使用を制限
した。そのとき以来、適用後比較的短期間で生物的に分
解されて無害な残留物に変る除草剤の開発に努力が払わ
れてきた。
生物的に分解が可能で、少量の適用でも除(4)
草あるいは植物生長調節効果のあるような化合物の一種
に、N−ホスホノメチルグリシンおよびその各種塩類が
ある。
に、N−ホスホノメチルグリシンおよびその各種塩類が
ある。
N−ホスホノメチルグリシンおよびその特定の塩類のみ
が有効であって、かつ、この分野で発芽後除草剤として
認められている。現在の市販化合物は、 N−ホスホノ
メチルグリシンのイソプロピルアミン塩およびその誘導
体である。
が有効であって、かつ、この分野で発芽後除草剤として
認められている。現在の市販化合物は、 N−ホスホノ
メチルグリシンのイソプロピルアミン塩およびその誘導
体である。
畑地に適用の場合は、通常的0.01〜20ボンド/ニ
ーカー好ましくは2〜6ボンド/ニーカーの割合で使用
される。
ーカー好ましくは2〜6ボンド/ニーカーの割合で使用
される。
N−ホスホノメチルグリシンおよびその可溶性塩は種々
の方法で製造される。その一つの方法は米国特許第3.
160.632号(Toy他、1964年12月8日)
に記載されているが、これはN−ホスフィノメチルグリ
シン(グリシンメチレンホスフィン酸)を水溶媒中で塩
化第2水銀と還流温度で反応させ、次いで反応生成物を
分離するものである。また他の方法は、エチルグリシン
をホルムアルデヒドおよびジエチルホスファイトと反応
させるものでその塩、誘導体に関する多くの特許で有用
な除草剤および植物生長調節剤を記載したものがある。
の方法で製造される。その一つの方法は米国特許第3.
160.632号(Toy他、1964年12月8日)
に記載されているが、これはN−ホスフィノメチルグリ
シン(グリシンメチレンホスフィン酸)を水溶媒中で塩
化第2水銀と還流温度で反応させ、次いで反応生成物を
分離するものである。また他の方法は、エチルグリシン
をホルムアルデヒドおよびジエチルホスファイトと反応
させるものでその塩、誘導体に関する多くの特許で有用
な除草剤および植物生長調節剤を記載したものがある。
さらに、N−ホスホノメチルグリシン、その適用方法、
製造方法、塩類、誘導体に関する特許には、米国特許第
3.868.407号、第4.197.254及び第4
.1.99.354号等がある。
製造方法、塩類、誘導体に関する特許には、米国特許第
3.868.407号、第4.197.254及び第4
.1.99.354号等がある。
N−ホスホノメチルグリシンおよび特定の塩類は重要な
除草剤である故、これら化合物の改良製造法を確立すべ
く種々の製造方法が考究されて来た。
除草剤である故、これら化合物の改良製造法を確立すべ
く種々の製造方法が考究されて来た。
そして、今回次記通シのN−ホスホノメチルグリシンの
製造方法を見出した。
製造方法を見出した。
(1) 1,3.5−)リス(アルコキシ−又はアリー
ルオキシカルボニルメチル) へキサヒドロ−8−)リ
アジンと、一般式pxyz式中、Xは、ハロゲンであり
;Yおよび2はそれぞれ独立してハロゲン、C7〜、0
アルコキシおよびアリールオキシからなる群から選ばれ
る。
ルオキシカルボニルメチル) へキサヒドロ−8−)リ
アジンと、一般式pxyz式中、Xは、ハロゲンであり
;Yおよび2はそれぞれ独立してハロゲン、C7〜、0
アルコキシおよびアリールオキシからなる群から選ばれ
る。
の置換リン化合物とを、比較的強いプロトン性酸とCI
〜、の低分子量カルボン酸との存在下で反応させ、 (2) このようにして生成し7’CN−ホスホノメチ
ルグリシンの中間エステルをN−ホスホノメチルグリシ
ンに加水分解する。
〜、の低分子量カルボン酸との存在下で反応させ、 (2) このようにして生成し7’CN−ホスホノメチ
ルグリシンの中間エステルをN−ホスホノメチルグリシ
ンに加水分解する。
この発明の方法に使用される好ましい出発化合物には、
1,3.5−)リス(エトキシカルボニルメチル)へキ
サヒドロ一旦−トリアジンおよび1.3.5− )リス
(プロポキシカルボニルメチル) へキサヒドロ−8−
)リアジンがおる。他の適当な化合物には、アリールオ
キシ置換カルボニルメチル へキサヒドロ=8−)リア
ジンがある。
1,3.5−)リス(エトキシカルボニルメチル)へキ
サヒドロ一旦−トリアジンおよび1.3.5− )リス
(プロポキシカルボニルメチル) へキサヒドロ−8−
)リアジンがおる。他の適当な化合物には、アリールオ
キシ置換カルボニルメチル へキサヒドロ=8−)リア
ジンがある。
上記の製法に使用される好ましい置換リン化合物には、
三塩化リン、三臭化リン、エチル ジクロロホスファイ
トおよびジエチルクロロホスファイトがある。
三塩化リン、三臭化リン、エチル ジクロロホスファイ
トおよびジエチルクロロホスファイトがある。
上記製法に使用される好ましい比較的強いプロトン性酸
には、塩化水素酸、臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸およ
びリン酸があるが、最も好ましい酸は塩化水素酸である
。
には、塩化水素酸、臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸およ
びリン酸があるが、最も好ましい酸は塩化水素酸である
。
適当な低分子量カルボン酸には、酢酸、プロピオン酸お
よび酪酸がある。
よび酪酸がある。
三価リン化合物である三塩化リンを使用した場合の第一
段の反応生成物は、N−ホスホノメチルグリシン、C−
エチル エステル塩酸塩とカルボン酸塩化物である。こ
の中間エステルは適切な加水分解剤による加水分解反応
によってN−ホスホノメチルグリシンとなる。
段の反応生成物は、N−ホスホノメチルグリシン、C−
エチル エステル塩酸塩とカルボン酸塩化物である。こ
の中間エステルは適切な加水分解剤による加水分解反応
によってN−ホスホノメチルグリシンとなる。
この発明の方法の一つの特徴は、上記でえられたホスホ
ノメチルグリシン化合物は、任意に適切な塩基と反応さ
せて可溶性塩とすることができる点にある。この目的の
ための適切な塩基には、水酸化ナトリウム、水酸化力(
7) リウム、水酸化トリメチルスルホニウム、および農業用
に用いられるすべての陽イオンの水酸化物又は酸化物が
ある。
ノメチルグリシン化合物は、任意に適切な塩基と反応さ
せて可溶性塩とすることができる点にある。この目的の
ための適切な塩基には、水酸化ナトリウム、水酸化力(
7) リウム、水酸化トリメチルスルホニウム、および農業用
に用いられるすべての陽イオンの水酸化物又は酸化物が
ある。
この発明の製造方法では、出発化合物1.3.5−トリ
ス(アルコキシ−又はアリールオキシカルボニルメチル
)へキサヒドロ−8−) IJアジンとの反応には、三
塩化リン、塩化水素および酢酸を使用するのが好ましい
。しかしながら、これらの化合物を変更することもでき
る。例えば、三塩化リンの場合には、三臭化リン、三臭
化−塩化リンおよびエチル ジクロロホスファイトで代
替ができる。塩化水素の場合の適切な代替化合物は、臭
化水素、沃化水素、硫酸およびリン酸である。酢酸の代
りには、プロピオン酸および酪酸を含むすべての低分子
量カルボン酸が使用できる。
ス(アルコキシ−又はアリールオキシカルボニルメチル
)へキサヒドロ−8−) IJアジンとの反応には、三
塩化リン、塩化水素および酢酸を使用するのが好ましい
。しかしながら、これらの化合物を変更することもでき
る。例えば、三塩化リンの場合には、三臭化リン、三臭
化−塩化リンおよびエチル ジクロロホスファイトで代
替ができる。塩化水素の場合の適切な代替化合物は、臭
化水素、沃化水素、硫酸およびリン酸である。酢酸の代
りには、プロピオン酸および酪酸を含むすべての低分子
量カルボン酸が使用できる。
上記反応の生成物、N−ホスホノメチルグリシン エス
テルは、次に水溶酸中での加水分解、つづいてのアルカ
リ処理又は水溶塩基中での加水分解、つづいて酸処理に
よって(8) N−ホスホノメチルグリシンとなる。
テルは、次に水溶酸中での加水分解、つづいてのアルカ
リ処理又は水溶塩基中での加水分解、つづいて酸処理に
よって(8) N−ホスホノメチルグリシンとなる。
好ましい成分を使用した場合の全工程は次の反応式で表
わされる。
わされる。
+:MaCn
N−ホスホノメチルグリシン
へキサヒドロ−8−)リアジンおよび三塩化リンは、は
ぼ化学量論量が、塩酸および酢酸は過剰量が使用される
。この反応は、約O〜50℃、好ましくは10−25℃
の温度範囲、大気圧下で、反応が完結するに十分な時間
(約3〜約18時間の範囲が好ましい)行われる。
ぼ化学量論量が、塩酸および酢酸は過剰量が使用される
。この反応は、約O〜50℃、好ましくは10−25℃
の温度範囲、大気圧下で、反応が完結するに十分な時間
(約3〜約18時間の範囲が好ましい)行われる。
この発明がよく理解できるように、次にこの発明の実施
例を以下に示す。
例を以下に示す。
実施例1
磁気攪拌機、窒素気泡器、還流冷却器、温度計および加
熱マントルを備えた50ゴ三頚丸底フラスコに窒素気流
下、10r/Ll(175ミリモル)の酢酸を装入した
。さらに、フラスコ中へ2.6WLl(30ミリモル)
の三塩化リンを一度に加えた。この溶液を水浴中で冷却
した後、2P(54ミ!Jモル)の塩酸を徐々に添加し
た。同時に3.457(10ミリモル)の1.3.5−
)リス(エトキシカルボニルメチル)ヘキサヒドロ−8
−)リアジンを40dの酢(11) 酸に溶解して滴下漏斗に入れ、このヘキサヒドロ−S−
トリアジン溶液を6〜12℃で0.9時間をかけて添加
した。ヘキサヒドロ−8−) !Jアジンの祭加中塩化
水素の象加をつづけた。塩化水素の合計添加量は6.5
9 (178ミリモル)であった。この反応混合物を約
1時間10〜15℃に、そして約18時間20℃で攪拌
した。その後に、5.01nlの水を20分間要して約
20℃で満願して不透明無色溶液をえた。この溶液を室
温で2.5時間攪拌してから40℃、真空で濃縮して透
明無すウム液をさらに5.Od添加した。次にこの溶液
を加熱して約6時間還流をつづけた。
熱マントルを備えた50ゴ三頚丸底フラスコに窒素気流
下、10r/Ll(175ミリモル)の酢酸を装入した
。さらに、フラスコ中へ2.6WLl(30ミリモル)
の三塩化リンを一度に加えた。この溶液を水浴中で冷却
した後、2P(54ミ!Jモル)の塩酸を徐々に添加し
た。同時に3.457(10ミリモル)の1.3.5−
)リス(エトキシカルボニルメチル)ヘキサヒドロ−8
−)リアジンを40dの酢(11) 酸に溶解して滴下漏斗に入れ、このヘキサヒドロ−S−
トリアジン溶液を6〜12℃で0.9時間をかけて添加
した。ヘキサヒドロ−8−) !Jアジンの祭加中塩化
水素の象加をつづけた。塩化水素の合計添加量は6.5
9 (178ミリモル)であった。この反応混合物を約
1時間10〜15℃に、そして約18時間20℃で攪拌
した。その後に、5.01nlの水を20分間要して約
20℃で満願して不透明無色溶液をえた。この溶液を室
温で2.5時間攪拌してから40℃、真空で濃縮して透
明無すウム液をさらに5.Od添加した。次にこの溶液
を加熱して約6時間還流をつづけた。
13c核磁気共鳴(nmr )分光法および高性能液体
クロマト法(hplc )によってこの反応混合物を分
析して、N−ホスホノメチルグリシンの三ナトリウム塩
が41%収率で含まれて(12) いることを確かめた。
クロマト法(hplc )によってこの反応混合物を分
析して、N−ホスホノメチルグリシンの三ナトリウム塩
が41%収率で含まれて(12) いることを確かめた。
この発明の分野における通常の知識を有する者は、本発
明の範囲内において、反応物の量、温度、モル比、反応
時間等は随意変更できるものである。
明の範囲内において、反応物の量、温度、モル比、反応
時間等は随意変更できるものである。
代理人 弁理士 桑 原 英 明
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の工程から成るN−ホスホノメチルグリシンの製
造方法。 (1) 1,3.5−トリス(アルコキシ−又はアリー
ルオキシ−置換カルボニルメチル)へキサヒドロ一旦−
トリアジンと、一般式pxyz 式中、Xはハロゲンであυ;Yおよび 2はそれぞれ独立して、ハロゲン、01〜10アルコキ
シおよびアリールオキシからなる群から選ばれる、 の置換リン化合物とを比較的強いプロトン性酸と低分子
量カルボン酸との存在下で反応させ、 (2)該反応系を約10〜約25℃の温度範囲でN−ホ
スホノメチルグリシンエステルが生成するのに十分な時
間加熱し、 (3) 生成したN−ホスホノメチルグリシンエステル
をN−ホスホノメチルグリシンに加水分解する。 2 置換リン化合物が、三塩化リン、三臭化リン、エチ
ル ジクロロホスファイトおよびジエチル クロロホス
ファイトとからなる群から選ばれたものである特許請求
の範囲第1項記載の方法。 3 低分子量カルボン酸が酢酸、プロピオン酸および酪
酸とからなる群から選ばれたものである特許請求の範囲
第1項記載の方法。 4 1、3.5− )リス(アルコキシ−又はアリール
オキシ−置換−カルボニルメチル)へキサヒドロ−s−
トリアジンおよび一般式pxyzの置換リン化合物が、
はぼ化学量論量使用され、そして、カルボン酸および比
較的強いプロトン性酸が過剰量使用される特許請求の範
囲第1項記載の方法。 5 ヘキサヒドロ−8−)リアジンが1.3.5−トリ
ス(エトキシカルボニルメチル)ヘキサヒドロ一旦−ト
リアジンである特許請求の範囲第1項記載の方法。 6 ヘキサヒドロ−8−)リアジンが1.3.5−トリ
ス(プロポキシカルボニルメチル)へキサヒドロ−8−
)リアジンである特許請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/408,322 US4428888A (en) | 1982-08-16 | 1982-08-16 | Method for preparation of N-phosphonomethylglycine |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60163889A true JPS60163889A (ja) | 1985-08-26 |
JPH0257077B2 JPH0257077B2 (ja) | 1990-12-03 |
Family
ID=23615782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59009617A Granted JPS60163889A (ja) | 1982-08-16 | 1984-01-24 | Ν−ホスホノメチルグリシンの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4428888A (ja) |
EP (1) | EP0149294A1 (ja) |
JP (1) | JPS60163889A (ja) |
AU (1) | AU559520B2 (ja) |
CA (1) | CA1212691A (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4428888A (en) * | 1982-08-16 | 1984-01-31 | Stauffer Chemical Company | Method for preparation of N-phosphonomethylglycine |
KR930005008B1 (ko) * | 1990-05-25 | 1993-06-11 | 한국과학기술연구원 | N-포스포노메틸글리신의 제조방법 |
US5120871A (en) * | 1991-05-16 | 1992-06-09 | American Cyanamid Company | N-[(pentaalkyl-cyclopentadienyl)methyl]-glycines, process for the preparation of the compounds and the use thereof in the manufacture of N-phosphonomethylglycine |
US5210277A (en) * | 1991-05-16 | 1993-05-11 | American Cyanamid Company | N-[pentaalkyl-cyclopentadienyl)methyl]-glycines |
US5270473A (en) * | 1991-05-16 | 1993-12-14 | American Cyanamid Company | N-[(pentaalkyl-cyclopentadienyl)methyl]-glycines, process for the preparation of the compounds and the use thereof in the manufacture of N-phosphonomethylglycine |
JPH05232192A (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-07 | Fujitsu Ltd | シェルフ実装パッケージの試験方法と試験用接続器 |
DE19528060A1 (de) * | 1995-07-31 | 1997-02-06 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von N-Phosphonomethyl-glycinestern |
DE19528054A1 (de) * | 1995-07-31 | 1997-02-06 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von N-Phosphonomethylglycinestern |
AR027024A1 (es) | 1999-12-23 | 2003-03-12 | Basf Ag | Procedimiento para la preparacion de n-fosfonometilglicina |
DE10130135A1 (de) * | 2001-06-22 | 2003-01-02 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von N-Phosphonomethylglycin |
US20110111958A1 (en) * | 2008-11-06 | 2011-05-12 | Sn Biotech Technologies Sp. Z O.O. Sp. K. | Liquid, homogenous herbicide composition, a method of weed control, a method of production of liquid, homogenous herbicide composition and use of a liquid, homogenous herbicide composition for weed control |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4053505A (en) * | 1976-01-05 | 1977-10-11 | Monsanto Company | Preparation of n-phosphonomethyl glycine |
US4428888A (en) * | 1982-08-16 | 1984-01-31 | Stauffer Chemical Company | Method for preparation of N-phosphonomethylglycine |
US4415503A (en) * | 1982-09-28 | 1983-11-15 | Stauffer Chemical Company | Method for preparation of N-phosphonomethylglycine |
-
1982
- 1982-08-16 US US06/408,322 patent/US4428888A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-01-17 CA CA000445469A patent/CA1212691A/en not_active Expired
- 1984-01-19 EP EP84300320A patent/EP0149294A1/en not_active Withdrawn
- 1984-01-20 AU AU23656/84A patent/AU559520B2/en not_active Ceased
- 1984-01-24 JP JP59009617A patent/JPS60163889A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0149294A1 (en) | 1985-07-24 |
CA1212691A (en) | 1986-10-14 |
AU559520B2 (en) | 1987-03-12 |
US4428888A (en) | 1984-01-31 |
AU2365684A (en) | 1985-07-25 |
JPH0257077B2 (ja) | 1990-12-03 |
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