JPS60163681A - Electric razor - Google Patents
Electric razorInfo
- Publication number
- JPS60163681A JPS60163681A JP1819684A JP1819684A JPS60163681A JP S60163681 A JPS60163681 A JP S60163681A JP 1819684 A JP1819684 A JP 1819684A JP 1819684 A JP1819684 A JP 1819684A JP S60163681 A JPS60163681 A JP S60163681A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nitride film
- nitrogen
- silicon
- aluminum
- outer cutter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Dry Shavers And Clippers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は回転式あるいは振動式などの電気かみそりに係
り、特にそれの外刃の構成に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a rotary or vibrating electric shaver, and particularly to the structure of an outer cutter thereof.
従来の電気かみそり用外刃はニッケルやステンレス鋼な
どで作られていたため、長期間使用していると汗などで
変色して製品価値が低下する。また、外刃と内刃の摩擦
抵抗が大きく摺動負荷が犬となり、消費電力が多いなど
の欠点を有している。Conventional electric razor outer blades are made of materials such as nickel or stainless steel, so if used for a long period of time, they will discolor due to sweat and other factors, reducing the product's value. Further, it has drawbacks such as high frictional resistance between the outer cutter and the inner cutter, a heavy sliding load, and high power consumption.
本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、
耐久性に優れ、しかも摺動抵抗の小さい電気かみそりを
提供するにある。The purpose of the present invention is to eliminate such drawbacks of the prior art,
To provide an electric shaver with excellent durability and low sliding resistance.
この目的を達成するため、本発明は、例えばケイ素、ア
ルミニウムおよびクロムのグループから選択された1種
もしくは2種以上の元素の窒化物で構成された窒化膜を
外刃の表面に形成したことを特徴とするものである。In order to achieve this object, the present invention provides that a nitride film made of nitride of one or more elements selected from the group of silicon, aluminum and chromium is formed on the surface of the outer cutter. This is a characteristic feature.
ケイ素、アルミニウムおよびクロムのグループから選択
された1種もしくは2種以上の元素の窒化物からなる薄
膜は耐食性に優れ、特にケイ素およびアルミニウムの窒
化物は窒素含有率が約30原子%以上になると優れた耐
食性を有しながら透明になり、外刃の外観を損なうこと
がない。−力、クロムの屋化物は銀白色の金属光沢を有
して外刃の外観を損なうことがないとともに、窒素含有
率が約30原子%以上になると皮ふに対してかぶれなど
の悪影響を与えない。A thin film made of a nitride of one or more elements selected from the group of silicon, aluminum and chromium has excellent corrosion resistance, and nitrides of silicon and aluminum have particularly good properties when the nitrogen content is about 30 at.% or more. It has excellent corrosion resistance and is transparent, so it does not spoil the appearance of the outer cutter. - The chromium compound has a silver-white metallic luster and does not damage the appearance of the outer blade, and if the nitrogen content is about 30 atomic percent or more, it does not have any adverse effects on the skin such as rashes. .
前記窒化膜の厚さは耐食性の点から約200λ以上必要
で、特に500〜5000λが好適である。窒化膜の形
成方法としては高周波マグネトロンスパッタリング法、
イオンビームスパッタリング法、イオンプレーテインク
法などがある。前記高周波マグネトロンスパッタリング
法の場合の使用ガスはアルゴンと窒素の混合ガスで、窒
素対アルゴンのガス比を約1対3にすれば形成膜の窒素
含有率は30原子%程度となる。アルゴンを少なくする
と当然窒素含有率は上昇し、窒素対アルゴンのガス比を
1対1にすると窒素含有率は約50原子%となる。The thickness of the nitride film needs to be about 200λ or more from the viewpoint of corrosion resistance, and preferably 500 to 5000λ. The nitride film is formed using high frequency magnetron sputtering method,
Examples include ion beam sputtering method and ion plate ink method. The gas used in the high frequency magnetron sputtering method is a mixed gas of argon and nitrogen, and if the gas ratio of nitrogen to argon is about 1:3, the nitrogen content of the formed film will be about 30 atomic %. Naturally, when the amount of argon is reduced, the nitrogen content increases, and when the gas ratio of nitrogen to argon is set to 1:1, the nitrogen content becomes about 50 atomic %.
次に本発明の実施例について説明する。 Next, examples of the present invention will be described.
実施例1
図は、実施例1に用いる高周波マグネトロンスパッタリ
ング装置の概略構成図である。図中の1はアルゴンガス
、2は窒素ガス、3は外刃、4はアルミニウム、ケイ素
またはクロムなどのターゲット、5はマグネット、6は
高周波電源、7は排気、8はアースシールド、9は外刃
ホルダー、10は処理容器である。Example 1 The figure is a schematic configuration diagram of a high frequency magnetron sputtering apparatus used in Example 1. In the figure, 1 is argon gas, 2 is nitrogen gas, 3 is outer blade, 4 is a target such as aluminum, silicon or chromium, 5 is magnet, 6 is high frequency power supply, 7 is exhaust, 8 is earth shield, 9 is outer The blade holder 10 is a processing container.
ニッケル電鋳刃からなる外刃3を所定数ホルダー9に保
持し、ターゲット4にケイ素を用い、処理容器10内を
排気7によって減圧状態にしたのち、アルゴンガス1と
窒素ガス2をガス圧比を種々変えて全ガス圧が5X10
Torrになるように送入する。そして500Wの高
周波電力でケイ素のスパッタリングを行ない、処理時間
を調整して2000λ厚のケイ素蟹化膜を外刃3の表面
に形成する。A predetermined number of outer blades 3 made of electroformed nickel blades are held in a holder 9, silicon is used as the target 4, and the inside of the processing container 10 is reduced in pressure by exhaust 7, and then argon gas 1 and nitrogen gas 2 are heated at a gas pressure ratio. The total gas pressure is 5X10 after various changes.
Send it so that it becomes Torr. Then, silicon is sputtered with a high frequency power of 500 W, and a silicon crab film with a thickness of 2000λ is formed on the surface of the outer cutter 3 by adjusting the processing time.
実施例2
ニッケル電鋳刃からなる外刃3を用い、ターゲット4に
アルミニウムを使用し、前記実Mflllと同様にして
高周波マグネトロンスパッタリングにより、膜厚2oo
oAのアルミニウム窒化膜を外刃30表面に形成した。Example 2 Using the outer cutter 3 made of a nickel electroformed blade and using aluminum for the target 4, a film with a thickness of 2 oo
An aluminum nitride film of oA was formed on the surface of the outer cutter 30.
なお、アルゴンガス圧および窒素ガス圧はともに2X1
01″orr 、高周波電力は500W、スパッタリン
グ時間は7分間である。Note that both argon gas pressure and nitrogen gas pressure are 2X1
01"orr, high frequency power is 500W, and sputtering time is 7 minutes.
実施例3
ニアケル電鋳刃からなる外刃3を用い、ターゲット4に
クロムを使用し、前記実施例1と同様にして高周波マグ
ネトロンスパッタリングにより、膜厚2000λのクロ
ム窒化膜を外刃30表面に形成した。なお、アルゴンガ
ス圧は2 X 10 Torr。Example 3 A chromium nitride film with a thickness of 2000λ was formed on the surface of the outer blade 30 by high-frequency magnetron sputtering in the same manner as in Example 1, using an outer cutter 3 made of a Niacel electroformed blade and using chromium as the target 4. did. Note that the argon gas pressure was 2×10 Torr.
窒素ガス圧は3 X 10 1’orγ、高周波電力は
600W、スパッタリング時間は6分間である。The nitrogen gas pressure was 3×10 1'orγ, the high frequency power was 600 W, and the sputtering time was 6 minutes.
実施例4
ステンレス類の外刃3を用い、他は実施例2と同じ条件
でアルミニウム窒化膜を表面に形成した。Example 4 An aluminum nitride film was formed on the surface using a stainless steel outer cutter 3 under the same conditions as Example 2 except for the outer cutter 3 made of stainless steel.
比較例1
ニッケル電鋳刃からなり、表面に窒化膜を形成しない外
刃。Comparative Example 1 An outer blade made of a nickel electroformed blade and with no nitride film formed on the surface.
比較例2 ステンレスからなり表面に窒化膜を形成しない外刃。Comparative example 2 The outer blade is made of stainless steel and does not form a nitride film on the surface.
前述の各側の外刃を人工汁液中に浸漬し、変色するまで
の日数を調べて次の表に示す。The outer blades on each side were immersed in artificial juice, and the number of days until they changed color was determined and is shown in the table below.
表
表からも明らかなように耐久性に優れ、しかも摺動抵抗
の小さい、換言すれば消費電力の少ない電気かみそりを
提供することができる。As is clear from the table, it is possible to provide an electric shaver that has excellent durability and low sliding resistance, in other words, low power consumption.
図は本発明の実施例に用いる高周波マグネトロンスパッ
タリング装置の概略構成図である。
1・・・・・・アルゴンガス、2・・・・・・窒g l
i ス、 3・・・・・・外刃、4・・・・・・ターゲ
ット、5・・・・・・マグネット。The figure is a schematic configuration diagram of a high frequency magnetron sputtering apparatus used in an embodiment of the present invention. 1...Argon gas, 2...Nitrogen g l
3...Outer blade, 4...Target, 5...Magnet.
Claims (1)
とする電気かみそり。 (2、特許請求の範囲第(1)項記載において、前記窒
化膜が、ケイ素、アルミニウムおよびクロムのグループ
から選択された少なくとも1種の元素の窒化物で構成さ
れていることを特徴とする電気かみそり。 (3)特許請求の範囲第(2)項記載において、前記窒
化膜中の窒素の含有率が約30原子%以上であることを
特徴とする電気かみそり。[Scope of Claims] (1) An electric shaver characterized by using an outer cutter having a nitride film formed on its surface. (2. Claim (1)), wherein the nitride film is made of a nitride of at least one element selected from the group of silicon, aluminum, and chromium. (3) An electric shaver according to claim (2), characterized in that the nitrogen content in the nitride film is about 30 atomic % or more.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1819684A JPS60163681A (en) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | Electric razor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1819684A JPS60163681A (en) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | Electric razor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60163681A true JPS60163681A (en) | 1985-08-26 |
Family
ID=11964873
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1819684A Pending JPS60163681A (en) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | Electric razor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60163681A (en) |
-
1984
- 1984-02-06 JP JP1819684A patent/JPS60163681A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
GB1532801A (en) | Metallic coatings | |
IE36250B1 (en) | Improvements in razor blades | |
GB1420941A (en) | Razor blades | |
US5262248A (en) | Soft magnetic alloy films | |
JPS60163681A (en) | Electric razor | |
GB1479400A (en) | Method of increasing the magnetic permeability of a film of magnetic alloy deposited upon a substrate and a substrate with a deposited film so treated | |
GB1380237A (en) | Surface treatment of chromium steels | |
KR890002230B1 (en) | Soft magnetic material | |
US4168187A (en) | Wear resisting high permeability alloy | |
JP2828071B2 (en) | Physically deposited amorphous film material with excellent corrosion resistance | |
US2058429A (en) | Mirror | |
JPH01190386A (en) | Cooking cutter | |
US4490437A (en) | Ductile nickel based brazing alloy foil | |
EP0178634B1 (en) | Amorphous soft magnetic thin film | |
JPS60163680A (en) | Electric razor | |
GB1327428A (en) | Metal article having alloy coating | |
JPS5882508A (en) | Magnetic thin film material | |
JPS5877024A (en) | Magnetic recording medium | |
US4908185A (en) | Nichrome resistive element and method of making same | |
JPS58204146A (en) | Co alloy for magnetic recording medium | |
JPH0547230B2 (en) | ||
Glasstone et al. | The electro-deposition of iron-cobalt alloys. Part II | |
JPH0699769B2 (en) | Thermal stability High magnetic flux density amorphous alloy | |
Takagi et al. | Anodization of Valve Metal--Valve Metal Double Layer Materials | |
GB1368010A (en) | Vapour deposition process |