JPS60155166A - チアゾ−ル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記の一般式（１）で示される新規なチアゾー
ル誘導体およびその塩に関する。

［式中　Ｒ１はヒドロキシ低級アルキル基１．ホルミル
暴、カルボキノ基、低級アルコキシカルボニル基、シア
ノ基、ニトロ基、）・ロゲン原３ 子、チオシアナート基、又は式；、Ｒ，）Ｎ−Ａ−（Ｒ
３及びＲ４は同−又は異って水素原子又は低級アルキル
基を、Ａは低級アルキレン基を意味する。但し　Ｒ３と
Ｒ４とは窒素原子と一体となり、ピペリジン環２モルホ
リン環、Ｎ位が低級アルキル基で置換されて℃・てもよ
℃・ピペラジン環を形成していてもよし・）で示される
基を　Ｒ２は低級アルキル基を意味ずろ。以下同様］ 本明細書の一般式の定義において、「低級」なる語は炭
素数が１乃至５個の直鎖又は分枝状の炭素鎖を意味する
。従って、「低級アルキル基」としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基。

５ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基。

インペンチル基７　ネオペンチル基等が挙げられる。

また、Ａが示す「低級アルキレン基」や。

「ヒドロキシ低級アルキル基」の低級アルキレン鎖とし
ては、メチレン基、エチレン基、メチルメチレン基、ト
リメチレン基、プロピレン基。

テトラメチレン基、エチルエチレン基、メチルトリメチ
レン基、ペンタメチレン基等が挙ケラれる。

また、「低級アルコキシカルボニル基」の低級アルコキ
シ基としてはメトキン基、エトキシ基、プロポキシ基、
イソプロポキン基、ブトキン基、インブトキシ基、ペン
チルオキシ基等が挙げられる。

さらに、ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子等が
挙げられる。

上記一般式（Ｔ）で示される本発明化合物は塩を形成す
る。本発明には化合物（＋）の塩も含まれ、このような
塩としては塩酸、臭化水素酸。

硫酸、硝酸やリン酸などの無機酸や、ギ酸、酢酸、／ユ
ウ酸、クエン酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、
酒石酸、メタンスルホン酸。

エタンスルホン酸などの有機酸との酸付加塩や。

置換基の種類によってはナトリウム、カリウム等の塩基
との塩やアンモニウム塩などが挙げられる。

本発明化合物（Ｄおよびその塩は新規化合物であり、抗
炎症作用、解熱鎮痛作用、抗関節炎作用および免疫機能
調整作用を有するので、抗炎症剤、解熱剤、鎮痛剤、抗
関節炎剤、抗リウマチ剤および免疫機能調整剤として有
用である。

即ち１本発明化合物（Ｉ）は、ヒト・リウマチの動物モ
デルとされるアジュバント関節炎に対して、治療的並び
に予防的に効果を示す他に。

鎮痛・抗炎症作用も有し、また生化学的にはプロスフグ
ランジン生合成阻害作用も有することからヒトのリウマ
チ性疾患の治療・予防に有用であると考えられる。更に
１本発明化合物は。

ＩＩＩ型およびＩＶ型（遅延型）のアレルギー反応を顕
著妃抑制すると共に、リボギシゲナーゼ抑制作用やラジ
カルスカベンジャーとしての性質をあわせて有しており
、この性質はインドツタシンやジクロフェナックに代表
される従来の非スｆｏイド性酸性抗炎症・リウマチ剤に
はみもれなかったものである。従って２本発明化合物は
、殊に新しい作用メカニズムの抗リウマチ剤として期待
される。

本発明化合物の化学構造上の第１の特徴点は。

インドメタシンやジクロフェナックに代表される従来の
非ステロイド性酸性抗炎症剤に属しな（゛非ステロイド
性非酸性抗炎症剤である点にある。

第２の特徴点は、複素環化合物が３，５−ジーｔｅｒｔ
−ブチルー４−ヒドロ−１−／フェニル基で直接置換さ
れている点にある。第３の特徴点はその置換される複素
環が特定の複素環のチアゾール環である点にある。

本発明化合物（Ｉ）又はその塩の１種又は２種以上を有
効成分として含有する製剤は２通常用いられる製薬用担
体、賦形剤その他の添加剤を用いて２錠剤、散剤、細粒
剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤２液剤、軟膏、坐剤、注
射剤等に調製され、経口的または非経口的に投与される
。投与量は患者の体重２年令、症状等により適宜調整さ
れるが１例えば経口投与の場合１通常成人１日当り１０
〜］０００ｆｎｇであり、これを通常２，３回に分けて
投与する。

本発明化合物（Ｉ）は５位の置換基の種類に応じて種々
の方法により製造される。代表的な方法を以下に例示す
る。

（１ｃ） （反応式中、Ｘはハロゲン原子を　Ｒ５およびＲｏは一
方が水素原子または低級アルキル基を、他方が同−又は
相異なる低級アルキル基を意味する。

但し、Ｒ５とＲ６とは窒素原子と一体となりピペリジン
環９モルホリン環、Ｎ位が低級アルキル基で置換されて
いてもよ（・ピペラジン環を形成して℃・てもよい。以
下同様） 一般式（Ｉａ）、　（ｌｂｌ、　（ｌｃ）、　（Ｉｄ）
、　（Ｉｅ）、　（Ｉｆ）および（Ｉｇ）で示される化
合物は、一般式（■１）で示される４−置換−２−低級
アルキルチオ−１，３−デアゾール誘導体を原料化合物
としてそれぞれ製造される。

なお２本発明原料化合物（１１）は本願出願人の出願に
係る特開昭５７−１７５１．７１号に記載された方法に
より合成することができる。

（、）ホルミル化 一般式（Ｉａ）で示されるホルミル化合物は、化合物（
１１）にオキシ塩化リン、オキザソルクロリドや塩化チ
オニル等の存在下、メチルホルムアミド、ジメチルホル
ムアミドを作用させてホルミル基を導入するヴイルスマ
イアー（Ｖｉ　１ｓｒｒ＋＆１ｅｒ）反応により合成す
ることができる。

反応は、ジノチルホルムアミド等にオキ７塩化リン等を
冷却下に加えた後、化合物（１１）を加えるか、あるい
は化合物（ｌｒ）をジメチルホルムアミド等に溶解し、
これ枚オキ／塩化リン等を滴下して行なうのが好適であ
る。

ジメチルホルやアミドは溶媒をも兼ねることができるが
、さらに反応に不活性な他の有機溶媒例エバジクロロメ
タン、クロロホルム、べ／ゼンヤジクロロベンゼン等を
用いることもできる。

反応温度は室温乃至加温下に設定するのが望ましい。

（ｂ）アミノメチル化 一般式（Ｉｂ）で示されるモノ又はジ低級アルキルアミ
ノメチル化合物は、原料化合物（１１）にホルムアルデ
ヒドとモノ又はジ低級アルキルアミンとを作用させるマ
ンニッヒ（Ｍａｎｎｉｃｈ　）反応により製造すること
ができる。

反応は、メタノール、エタノール、イノプロパツール等
のアルコール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン。

酢酸等の有機溶媒や水、あるいは含水有機溶媒中で、室
温乃至加温下好ましくは加熱還流下に行なうのが有利で
ある。

（ｃ）シアン化 一般式（Ｉｃ）で示されるニトリル化合物は（ａ）製法
により原料化合物（ＩＩ）を一旦ホルミル化合物（Ｉａ
）となし２次いでヒドロキシアミノの鉱酸塩を作用させ
て直接あるいはさらに脱水剤を加えて合成することがで
きる。この方法によるときは原料化合物（ＴＩ）から一
連の工程て化合物（Ｉａ）を単離することな〈実施でき
る。

ホルミル化反応は（、）と同様に実施され、後段のアル
デヒドオキシム化及び脱水反応は、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、クロロホルム。

ジメチルポルムア′ミド、ピリジン、ベンゼン。

酢酸エチル、アセトニトリル、エーテル等の反応に不活
性な有機溶媒中、ホルミル化合物（Ｉａ）とヒドロキシ
ルアミンの鉱酸塩、好ましくは塩酸塩とを、室温乃至加
温下に作用させることによって行なわれる。

なお、この反応ではホルミル化工程における縮合剤２例
えばオキザリルクロリド、塩化チオニル等が脱水剤を兼
ねることもできる。

また、溶媒としてピリジン含有有機溶媒を用い、ヒドロ
キシルアミン鉱酸塩を作用させる場合には特に脱水剤を
用いることなく、ホルミル化合物（Ｉａ）より直接二）
　ＩＪル化合物（Ｉｃ）とすることもできる。

（ｄ）直接メタル化 一般式（Ｉｄ）で示されるカルボキン化合物は。

化合物（ＩＩ　）の直接メタル化により合成することが
できる。

反応は、化合物（ＩＩ）を反応に不活性な有機溶媒２例
えばエーテル、テトラヒトフラン、１．２−ジメトキシ
エタン等中でｎ−ブチルリチウムやフェニルリチウム等
のアルキルまたはアリールリチウムと反応させ２次いで
二酸化炭素を作用させることにより行なわれる。

反応は通常冷却下に行なうのが好適である。

（ｅ）チオンアナート化 一般式（Ｉｅ）で示されるチオシナート化合物は原料化
合物（ＩＩ）にチオシアン酸アルカリ金属塩とハロゲン
とを作用させることにより製造することができる。

反応はメタノール、エタノール、イソプロパツール等の
アルコール、ベンゼン、酢酸等の有機溶媒中冷却下乃至
室温下に実施するのが好ましい。

（ｆ）ハロゲン化 一般式（Ｉｆ）のハロゲン化合物は原料化合物（Ｉｌ）
のチアゾール５位の反応性が高く、直接ハロゲン化法を
適用して製造することもできる。

反応は、化合物（ＩＩ）に塩素、臭素等のハロゲンガス
あるいはスルフリルクロリドのようなハロゲン化剤を１
例えばクロロホルム、四塩化炭素、酢酸等反応に不活性
で塩素等に対して安定な有機溶媒中に作用させることに
よって行なわれる。

反応温度は冷却下乃至室温下に設定するのが望ましい。

（ｇ）ニトロ化 一般式（Ｉｇ）で示されるニトロ化合物は、硝酸アセチ
ルによるニトロ化により製造することができる。

反応は、無溶媒でも進行するがアセトニトリル等の有機
溶媒中で行なうのが好ましく原料化合物（ＩＩ）の有機
溶媒溶液に２発煙硝酸および無水酢酸の有機溶媒溶液を
加えて、冷却下乃至室温下に実施するのが有利である。

なお、収率や取扱し・の煩雑さを無視すれば発煙硝酸と
濃硫酸との混酸や、硝酸、あるいはニトロマロン酸ジエ
チル等を用いるニトロ化合物合成の一般的な合成法によ
っても本発明化合物（Ｉｇ）を合成する・−とはできる
。

（ｈ）ヒドロキシメチル化合物の合成 一般式（Ｉａ）のヒドロキシメチル化合物は（ａ）のホ
ルミル化によって合成されるホルミル化合物（Ｉａ）を
原料としてそれを還元することによって製造される。

反応はメタノール、エタノール、インプロノくノール等
のアルコール、エーテル、テトラヒドロフラン等の反応
に不活性な有機溶媒中で行なわれ、還元剤としては通常
水素化ホウ素ナトリウム等のホウ素化合物を用いるのが
有利であるが、他の還元剤例えば水素化アルミニウムリ
チウム等を用いたり、あるいは他の一般的な還元方法を
用いても本発明化合物（Ｉｈ）を製造することができる
。

その他の製造法 （１）エステル化合物の合成 （式中Ｒ７は低級アルキル基を意味する）一般式（■］
）で示されるエステル化合物は（ｄ）の方法により製造
されたカルボキシ化合物（Ｉｄ）を常法によりエステル
化することにより製造できる。

ここに、酸成分（Ｉｄ）の適当な反応性誘導体としては
酸無水物、酸ハロゲン化物や酸のアルカリ金属塩が、ア
ルコール成分（ＩＩ）の適当な反応性誘導体としてはハ
ロゲン化合物（Ｒ７−Ｘ）やトルエンスルホン酸ヤメタ
ンスルホン酸等のエステルが挙げられる。

反応に際しては用いられる原料化合物や目的化合物を考
慮して、その使用量、溶媒２反応温度な適宜設定し必要
ならば更に塩基や酸触媒を添加して実施する。

（２）ヒドロキシ低級アルキル化合物の合成Ｒ１がヒド
ロキシ低級アルキル基である本発明化合物は、上記（ｈ
）製法と同様対応するアルデヒド化合物を還元すること
により製造できる他対応するカルボン酸、エステル、酸
・・ロゲン化合物を還元する方法等連゛常のアルコール
類製造法を適用することによっても製造することができ
る。

（３）アミン低級アルキル化合物の合成Ｒ１が式＞Ｎ−
Ａ−で示される基であるアミン低級アルキル化合物は、
対応するニトロ化合物。

酸アミド（第一アミン）、モノ低級アルキルアミノ低級
アルキル化合物を適宜の方法で還元する方法、ハロゲン
化合物をアンモニアで処理する方法やガブリエル（Ｇａ
ｂｕｅｌ　）　法等通常の第一アミンを製造する方法を
適用して製造することができる。

（４）モノあるいはジー低級アルキルアミノ低級アルキ
ル化合物の合成 は、上記（ｂ）のアミノメチル化法の他、対応する酸ア
ミド（第二、三アミン）や第三アミンを製造するための
第三アミンの還元、対応するハロゲン化合物をアミンで
処理する方法等通常の第二、三アミンを製造する方法を
適用することによって合成することができる。

上記に例示した種々の製造法により製造された本発明化
合物は遊離のまま、塩として製造されるときは塩のまま
あるいは遊離化合物を常法によりその塩となし単離され
精製される。

単離、精製はＰ取、抽出、再結晶、各種カラムクロマト
グラフィー等通常用いられる化学操作を適用してなされ
る。

以下に実施例を挙げ７本発明を更に詳細に説明する。

なお＋　ｍＰは融点を表わす。

実施例１゜ ジメチルホルムアミド１．５　ｍｌとクロロホルム１０
ｍ／、の溶液に、冷却下にオキ／塩化リン１．１ｇを加
える。室温にて１時間攪拌した後、４−（３，５−シー
ｔｅｒｔ−フチルー４−ヒドロキシフェニル）−２−メ
チルチオチアゾール１５ｇを加える。その後２時間加熱
還流する。冷却後、１０％炭酸カリウム溶ｅ、２０　ｍ
ｌ中に反応液を分散し、１５分間攪拌する。クロロホル
ム層を分離後、乾燥、減圧濃縮する。残渣をシクロヘキ
サンより再結晶し。

４−（３，５−ジーｔｅｒ　ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−２−メチルチオ−５−チアゾールカルボ
アルデヒド１．３ｇを得る。ｍｐ１４５−１４６°Ｃ元
素分析値（Ｃ１ｏＨ２ｓＮＯｗＳ２として）Ｃ（％）　
Ｈ（チ）　Ｎ（％） 理論値　６２．７．８　６，９３　３．８５実験値　６
２，６５　７，０１　３．９０実施例２ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）−２−メチルチオ−５−チアゾールカルボア
ルデヒド２ｇをメタノール４０ｍ１に溶解１７た溶液に
ナトリウムボロハイドライド２３０■を室温にて加える
。３０分間攪拌した後、酢酸を加えて酸性とする。水へ
分散し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を乾燥後、減圧
留去し、残渣をシクロヘキザンより再結晶し、４−（３
，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル
）−２−メチルチオ−５−チアノ°−ルメタノール１０
ｇを得る。ｍｐ　１５８−１５９℃ 元素分析値（Ｃ，。Ｈ，ｙ　ＮＯ２Ｓｔとして）Ｃ（％
ＩＨ（％ｌ　Ｎ（％） 理論値　６２４３　７．４４　３．８３実験値　６２，
２６　７，７７　３．７３４−（３，５−ジーｔｅｒｔ
−メチルー４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルチオ
チアゾール１５ｇ。

５０％ジメチルアミン水溶１１．８ｇ、３５％ホルマリ
ン１．２ｇ、酢酸３　ｍｌ及びジオキサン１０ｍ＆の混
液を６〜７時間加熱還流する。冷却後、溶媒を減圧留去
する。残渣をベンゼンに溶解し、希塩酸で抽出する。塩
酸層を炭酸カリウムで塩基性とした後、クロロボルムで
抽出する。抽出液は乾燥後。

減圧濃縮し、残渣をシクロヘキザンより再結晶し。

４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−メチルー４−ヒドロキシ
フェニル）−５−ジメチルアミノメチル−２−メチルチ
オチアゾール１．０ｇを得た。ｍｐ　１４２１４３℃元
素分析値（Ｃ２，Ｈ，２ＮｔＯＳｔとして）Ｃ（チ）　
８価）　Ｎ（％） 理論値　６４，２４　８．２１　７．１４実験値　６４
．］、３　８，３０　７．２７実施例４ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキソ
フェニル）−２−メチルチオチアゾール１．５ｇを酢酸
１．０ｍ／、に溶解する。溶液にチアンアン酸ナトリウ
ム０．７ｇを加えた後、水冷下に臭素（）７ｇを滴下し
て行く。滴下終了後１時間室温で攪拌する。水へ分散し
、生じた沈殿を１取する。沈殿をヘキサノより再結晶し
、４−（３，５−ジーｔｅｒｔ　−フチルー４−ヒドロ
キシフェニル）−２−メチルチオ−５−チオノアナ−ト
チアゾール１２ｇを得た。ｍｐ　１．２４−１２５℃ 元素分析値（Ｃ１ｅ　Ｈ２４Ｋ　ＯＳ３として）Ｃ（％
）　Ｈ［％）　Ｎ（％） 理論値　５８．１３．　６，１６　７．１４実験値　５
８，１２　６，３１　６．９５実施例５゜ オキザリルクロライド０９ｇどエチレンクロライド５ｍ
ｌの混液を冷却する。ジメチルホルムアミド０５ｇを含
むエチレンクロライド溶Ｑ　ｉ　Ｏｍｔヲ滴下する。反
応液を１５〜２０分室温で攪拌した後、４−（３，５−
ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）−２
−メチルチオチアノ゛−ル１５ｇ、ジメチルホルムアミ
ド３ｍｔ及びエチレンクロライド５ｍｌの混液を室温に
て反応液に加える。

２〜３時間攪拌する。ヒドロキシルアミン塩酸塩０７ｇ
、ジメチルボルムアミド１．５　ｍｌ及びピリジン０．
６　ｍｌの混液を反応液に加えて、終夜加熱還流する。

冷却後、希炭酸カリウム水溶液へ分散する。

クロロボルムにて抽出する。抽出液を減圧濃縮し。

残渣をシリカゲルクロマトに伺す。クロロホルムにて溶
出し、４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒド
ロギンフェニル）−２−メチルチオ−５−チアノ゛−ル
ツノルボニトリル１０ｇを得だ。さらにｎ−ヘキサノよ
り再結晶し、ｍｐ　１４２−１４３℃の精製物０７５ｇ
を得た。

元素分析値（Ｃ＋ｏ　Ｈｔ＋　Ｎ２０　Ｓ２として）Ｃ
（％）Ｈ（％）　Ｎ（％） 理論値　６３，３０　６，７１　７．７７実験値　６３
，３８　６．７９　７７０実施例６ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−メチルー４−ヒドロキシ
フェニル）−２−メチルチオチアノ゛−ル１５ｇをクロ
ロホルム２０ｍ乙に溶解した後、１０’Ｃ以下に冷却す
る。臭素０．８ｇを含むクロロホルム溶液５ｍ／、を１
０℃以下で加えて行く。滴下終了後、１時間攪拌する。

生じた沈殿をｊコ取する。沈殿を含水インプロパツール
より再結晶し、５−フ゛ロモー４−（３，５−）−ｔｅ
ｒｔ−ブチ、ル−　４−ヒ　ドロキ／フェニル）−２−
メチルチオチアノ゛−ル０７４ｇを得た。ｍｐ　９：３
−９４℃ 元素分析値（Ｃ，、Ｈ，、Ｎｏ　Ｓ２Ｂ　ｒとして）Ｃ
（％ｉ　Ｈ（％）　Ｎ［チ） 理論値　５２．１？　５，８４　３．３８実験値　５２
，３４　５，９９　３．４０実施例　７ ４−　（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキ
シフェニル）−２−メチルチオチアゾール１．５ｇをク
ロロホルム２０　ｍｌに溶解する。塩素を１０Ｃ以下で
５〜１０分通じる。その後、水へ分散し、クロロホルム
層を分離する。クロロホルム層を１０％炭酸カリウム溶
液で洗った後、乾燥、減圧濃縮する。

残渣をシリカゲルクロマトに付し、クロロホルム−ｎ−
ヘキサノ（１：４）にて溶出し、５−クロロ−４−（３
，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル
）−２−メチルチオチアゾール０９ｇを得た。さらＶｃ
ｎ−ヘキサンより再結晶し２ｍｐ８７−８８０の精製物
０３４ｇを得た。

元素分析値（Ｃ，、Ｈ２４ＮＯ８２Ｃ１として）Ｃ（彌
　ＨｆｅＩｊＮ（彌 理論値　５８，４４　６，５４　３．７９実験値　５８
，２５　６．７８　３．７２実施例　８ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）−２−メチルチオチアゾール１．５ｇ　ヲ１
８２−ジメトキシエタン２０ｍ１Ｋ溶解した後。

−７０℃に冷却する。１５３規定のｎ−ブチルリチウム
溶液６ｍｌを加え、２０〜３０分攪拌する。大過剰のド
ライアイスを加え、徐々に室温まで上げる。

その後、希塩酸に分散し、酢酸エチルにて抽出する。抽
出液は乾燥後、減圧濃縮する。残直なシリカゲルクロマ
トに付し２クロロホルム−メタノール（９５：　５　）
にて溶出し、４−（３，５−ジーｔｅｒｔ　４−ヒドロ
キシフェニル）−２−メチルチオチアゾール０．６ｇ、
及び４−（３，５−ジーｔｅｒｔ　−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−２−メチルチオ−５−チアゾールカ
ルボッ酸０．７５ｇを得た。

後者はさらにイソプロパツールより再結晶し。

ｍｐ　２２２　２２３　’Ｃの精製物０．５５ｇを得た
。

元素分析値（Ｃ１ｇＨ２５ＮＯ３Ｓ２として）Ｃ（慢　
Ｈ（＠Ｎ（＠ 理論値　６０，１３　６，６４　３．６９実験値　５９
，９６　６，３７　３．３７実施例　９ ４、（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）−２−メチルチオチアゾール１．５ｇ　ヲア
セトニトリル２０　ｍｌに溶解する。発煙硝酸０７ｇ。

無水酢酸１．０ｇ及びアセトニトリル］Ｏｍｔの混液を
１０〜２０　Ｃで反応液に加える。

滴下終了後１０分攪拌した後、水へ分散する。

炭酸水素ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出
する。抽出液は乾燥後、減圧濃縮し、残渣をンリカゲル
カラムクロマトに付し、クロロホルム−ヘキサンにて溶
出し、４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−フチルー４−ヒド
ロキシフェニル）−２−メチルチオ−５−二トロチアゾ
ール０．２ｇを得た。さらＶｃｎ−ヘキサノより再結晶
し、ｍｐ　１３１−１３２　Ｕの精製物０．１ｇを得た
。

元素分析値（Ｃｌ１ｌ　Ｈ２４Ｎ２０ｓ　Ｓ２として）
Ｃ（−Ｈ（％ｌ　Ｎ（慢 理論値　５６，８２　６，３６　７．３６実験値　５６
，５５　６，４２　７．２９特許出願人　山之内製薬株
式会社 代理人　弁理士　長　井　省　三

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ［式中　Ｒ１はヒドロキシ低級アルキル基、ホルミル基
   、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアン
   基、ニトロ基、ハロゲン原３ 子、チオシアナート基、又は式１．＞Ｎ−Ａ−−Ｈ＋ （Ｒ３及びＲ４は同−又は異って水素原子又は低級アル
   キル基を、Ａは低級アルキレン基を意味する。但り、Ｒ
   ３とＲ４とは窒素原子と一体となり。 ピペリジン環９モルホリン環、Ｎ位が低級アルキル基で
   置換されていてもよいピペラジン環を形成していてもよ
   （・）で示される基を。 Ｒ２は低級アルキル基を意味する午 で示されるチアゾール誘導体またはその塩。