JPS6015145B2 - automatic contact printer - Google Patents

automatic contact printer

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Publication number
JPS6015145B2
JPS6015145B2 JP50074671A JP7467175A JPS6015145B2 JP S6015145 B2 JPS6015145 B2 JP S6015145B2 JP 50074671 A JP50074671 A JP 50074671A JP 7467175 A JP7467175 A JP 7467175A JP S6015145 B2 JPS6015145 B2 JP S6015145B2
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JP
Japan
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plate
master
working
plates
frame
Prior art date
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Expired
Application number
JP50074671A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS51150280A (en
Inventor
利一 松井
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DAINIPPON KAKEN KK
Original Assignee
DAINIPPON KAKEN KK
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Publication date
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Priority to JP50074671A priority Critical patent/JPS6015145B2/en
Publication of JPS51150280A publication Critical patent/JPS51150280A/en
Publication of JPS6015145B2 publication Critical patent/JPS6015145B2/en
Expired legal-status Critical Current

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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、集積回路、いわゆるIC製造においてマス
タープレートからワーキングプレートを作成するに適し
た自動反転プリント装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an automatic reversing printing device suitable for producing a working plate from a master plate in the manufacture of integrated circuits, so-called ICs.

この種反転プリント工程においては、従来より精密な転
写パターンを得るためにマスタープレ−トと、ワーキン
グプレートを各収納位置から注意深く取り出して、両プ
レートを正確に重ねて露光位置にセットしなければなら
ず、したがってそれらの操作は手作業によるのが普通で
あった。
In this type of reversal printing process, in order to obtain a more precise transfer pattern than in the past, the master plate and working plate must be carefully removed from their respective storage positions, and both plates must be placed in the exposure position, overlapping each other accurately. Therefore, these operations were usually done manually.

このような手作業による人手と時間の浪費、および製品
のコスト高を解消するために、マスタープレートおよび
ワーキングプレートの取出しと、露光位置への搬送、お
よびセットを機械化する試みもなされてきたのであるが
、通常の搬送機械ではプレート面にきずをつけたり、塵
挨が付着したりしてミクロン以下の精度が要求されるプ
リントパターンを得る上で大きな障害となるのである。
本発明の目的は上記のようなマスタープレートからワー
キングプレートへのコンタクトプリントを行なうための
プレート供給および回収動作を自動的にかつフローティ
ング(浮動)状態でセット位置まで供給し、露光して後
同様に回収するための装置を提供することである。
In order to eliminate the waste of manpower and time due to manual work, as well as the high cost of products, attempts have been made to mechanize the removal of the master plate and working plate, their transportation to the exposure position, and their setting. However, with ordinary conveying machines, the plate surface may be scratched or dust may adhere, which poses a major obstacle to obtaining printed patterns that require sub-micron precision.
The object of the present invention is to automatically supply and collect the plate in a floating state to the set position, to perform contact printing from the master plate to the working plate as described above, and to perform the same operation after exposure. The objective is to provide a device for recovering the waste.

本発明のさらに別の目的は、前記露光位置に特来したマ
スタープレートおよびワーキングプレートを露光フィー
ルド制限用フレームおよびこれと協同する真空チャンバ
ーをもったプレートホルダーによって自動的に定位直に
おいて密着させる手段を前記供給一回収装置と併用する
ことにより全自動化したコンタクトプリンタを提供する
ことである。
Still another object of the present invention is to provide means for automatically bringing the master plate and the working plate, which are specific to the exposure position, into close contact in a stereotaxic manner by means of a plate holder having an exposure field limiting frame and a vacuum chamber cooperating therewith. It is an object of the present invention to provide a fully automated contact printer that can be used in combination with the supply and collection device.

本発明の前記プレートの自動供給および回収装置は、マ
スタープレート用およびワーキングプレート用として配
置された多数のプレートを収納するための一対のプレー
ト供給カセットと、同様な一対のプレート回収カセット
、および一対の供給カセットから露光位置までプレート
を搬送し、さらに露光後において一対の回収カセットに
返送するための王および補助無接触空気搬送(エアーロ
ード)主段を含むものである。
The automatic plate supply and collection device of the present invention includes a pair of plate supply cassettes for storing a large number of plates arranged for master plates and working plates, a similar pair of plate collection cassettes, and a pair of plate collection cassettes. It includes a main stage and an auxiliary non-contact air transport (air load) stage for transporting the plate from the supply cassette to the exposure position and then returning it to a pair of collection cassettes after exposure.

ここに、a マスタープレート用およびワーキングプレ
ート用供給カセットはそれぞれ露光位置から互いにほぼ
等間隔に配置されており、それぞれ多数のプレートを順
次間隙を置いて積上げるための側縁支持桟を有するマガ
ジン構造であって、マスタープレートは所定の第1レベ
ルで、またワーキングプレートはこれよりやや低い第2
レベルで前記露光位置に向けて放出するために前記プレ
ート積上げのピッチで間欠的に垂直移動することができ
るものである。
Here, a. The master plate supply cassettes and the working plate supply cassettes are each arranged at approximately equal intervals from the exposure position, and each has a magazine structure having side edge support bars for stacking a large number of plates in sequence at intervals. where the master plate is at a predetermined first level and the working plate is at a second, slightly lower level.
It is capable of vertically moving intermittently at the pitch of the plate stack to emit at a level toward the exposure position.

b マスタープレート用およびワーキングプレート用回
収カセットはそれぞれ対応する供給カセットと実質上同
一形状を有して隣接配置され、それぞれ前記第1および
第2レベルにおいて実質上前記露光位置の方向から返送
されるマスタープレートおよびワーキングプレートを一
枚ずつ回収するために各段の桟を順次プレート回収位置
に持来たすべく垂直移動できるものである。
b The master plate collection cassette and the working plate collection cassette have substantially the same shape as the corresponding supply cassette and are arranged adjacent to each other, and the master plate and the working plate collection cassette are respectively returned from the direction of the exposure position at the first and second levels. In order to collect plates and working plates one by one, the crosspieces of each stage can be vertically moved to sequentially bring them to the plate collecting position.

c 前記カセット中における補助ロード手段はカセット
の前記垂直移動を妨げないように配置されており、供給
カセットからは前記対応するレベルにおいてプレートを
放出し、回収カセットには前記対応するレベルにおいて
プレートを受入れるための無接触搬送用空気流を発生す
るものである。
c auxiliary loading means in said cassette are arranged so as not to impede said vertical movement of the cassette, ejecting plates from said supply cassette at said corresponding level and receiving plates from said collection cassette at said corresponding level; It generates a non-contact conveying air flow.

d 前記各一対のプレート供給および回収カセットから
露光位置までの間の、プレートの搬送および返送のため
の一対のエアーロード手段はそれぞれ一対のプレート供
給カセットと前記露光位置との間隔に対応した長さを有
し、それぞれ前記一対の供給カセットから前記第1およ
び策2レベルにおいて放出されたマスタープレートおよ
びワーキングプレートを前記露光位置まで無接触空気搬
送するための供給位置、およびそれぞれ前記第1および
第2レベルにおいてマスタープレートおよびワーキング
プレートを対応する回収カセットまで無接触空気搬送す
るための回収位置を選択的に占めることができ、前記各
位置においてその搬送方向に傾いた斜上向きの空気流を
発生することができるものである。
d The pair of air loading means for conveying and returning plates between each pair of plate supply and recovery cassettes to the exposure position each has a length corresponding to the distance between the pair of plate supply cassettes and the exposure position. a supply position for contactless pneumatic transport of the master plate and working plate discharged at the first and second levels from the pair of supply cassettes, respectively, to the exposure position; being able to selectively occupy collection positions for contactless pneumatic conveyance of the master plate and the working plate to the corresponding collection cassettes at the level, generating at each said position an oblique upward air flow inclined in the direction of the conveyance; It is something that can be done.

また、本発明において上記横成のプレート供給および回
収装置と併用し、露光位置においてマスターおよびワー
キングプレートを密着・固定するための装置は、フィー
ルド制限用フレームと、搬送されてきたマスタープレー
トを前記フレームに吸着させるべく特上げるための第1
リフト手段と、搬送されてきたワーキングプレートを特
上げてマスタープレート下面に接触させるための第2リ
フト手段、および前記第2リフト手段の動作が終了する
までに始動し前記フレームと協同してフレーム、マスタ
ープレートおよびワーキングプレートを密着させるため
のプレートからなるものである。ここに、a フィール
ド制限用フレームは前記第1レベルのやや上位に配置さ
れており、この位置に搬送されたマスタープレートを吸
着するための真空チャンネルを有する。
In addition, in the present invention, a device for closely contacting and fixing the master and working plates at the exposure position, which is used in combination with the above-mentioned Yokosei plate supply and recovery device, includes a field restriction frame, and a device for fixing the master plate that has been conveyed to the frame. The first step is to specially raise the
a lift means, a second lift means for lifting the conveyed working plate and bringing it into contact with the lower surface of the master plate, and a frame that starts and cooperates with the frame before the operation of the second lift means is completed; It consists of a plate for bringing the master plate and working plate into close contact. Here, the a field restriction frame is placed slightly above the first level, and has a vacuum channel for adsorbing the master plate transported to this position.

b 第1リフト手段は前記フレーム下位のマスタープレ
ートを同フレームに接触させてそのマスタープレート真
空吸着の始動を助けるためのものである。
b The first lift means is for bringing the master plate below the frame into contact with the frame to help start vacuum suction of the master plate.

c 第2リフト手段はやはりフレーム下位に持来たされ
たワーキングプレートを特上げて前記真空吸着されたマ
スタープレートに接触させることにより真空吸着の準備
をするものである。
c. The second lifting means also prepares for vacuum suction by lifting the working plate brought below the frame and bringing it into contact with the vacuum suctioned master plate.

d プレートホルダーは前記一対のエアーロード手段が
いずれも回収位置にあって前記第2リフト手段の動作が
終了する前に前記フレームおよびワーキングプレートに
接触し、このフレームおよび両プレートの各接触面を真
空接触させるための真空チャンバーを有するものである
。以下、図面を参照して、本発明の好ましい実施例を説
明する。第1図は本発明のプレート供給および回収行程
を略示する平面図である。
d) The plate holder contacts the frame and the working plate when both of the pair of air loading means are in the recovery position and before the operation of the second lifting means is completed, and the plate holder applies a vacuum to each contact surface of the frame and both plates. It has a vacuum chamber for contact. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view schematically showing the plate supply and recovery steps of the present invention.

ここに、円1は露光位贋を、この両側に対称的に隔てて
配置された矩形枠2および3は、それぞれマスタープレ
ート用およびワーキングプレート用供給カセットを、そ
してこれら供給カセットに隣接した矩形枠4および5は
それぞれマスタープレート用およびワーキングプレート
用回収カセットを表すものである。供給カセット2およ
び3にそれぞれ収納された多数のマスタープレート6お
よびワーキングプレート7のうちで最下位のもの(第2
図および第3図を参照して後述する)はそれぞれ所定の
レベルに持来たされた後、対応する無接触空気搬送手段
によりそれぞれ矢印8および9にそって露光位置1に供
給される。ここでマスタープレート6および、ワーキン
グプレート7は露光位置において整合・密着させられる
。無接触・空気搬送手段自体は前記搬送行程に対応する
全長と、プレートに対応する幅とを有するので前記各プ
レートの整合・密着および露光の折にはそれぞれ矢印1
0aおよび11aで示すように返送行程に対応する位置
まで並進してこれらの操作を妨げないように待機してお
り、露光後は矢EO10bおよび11bにそって再びも
との搬送行程に対応する位置にもと、て、それぞれ真空
密着から解放された各プレートを戦受し、返送行程に対
応する位置までもう一度移行してから、最初と逆の方向
12および13に無接触搬送用空気流を発生し、回収カ
セット4および5のそれぞれ受入れ可能なしベルで特受
けている空桟までマスタープレート6およびワーキング
プレート7を返送するものである。第2図は上記のよう
なプレートの供給および回収行程を有する本発明のコン
タクトプリンタにおける全体的構成を示す分解斜視図で
ある。
Here, circle 1 represents the exposure level, rectangular frames 2 and 3 arranged symmetrically on both sides represent supply cassettes for master plate and working plate, respectively, and rectangular frames adjacent to these supply cassettes. 4 and 5 represent recovery cassettes for master plate and working plate, respectively. Among the many master plates 6 and working plates 7 stored in the supply cassettes 2 and 3, the lowest
(described below with reference to FIGS. 3 and 3) are each brought to a predetermined level and then supplied to the exposure position 1 along arrows 8 and 9, respectively, by corresponding contactless air conveying means. Here, the master plate 6 and the working plate 7 are aligned and brought into close contact at the exposure position. The non-contact pneumatic conveyance means itself has a total length corresponding to the conveyance process and a width corresponding to the plate, so when aligning/adhering each plate and exposing, the arrow 1 is used.
As shown by 0a and 11a, it is translated to the position corresponding to the return stroke and is on standby so as not to interfere with these operations, and after exposure, it is moved back to the position corresponding to the original transport stroke along arrows EO10b and 11b. At the beginning and end, each plate released from vacuum contact is received and transferred again to the position corresponding to the return stroke, and then air flow for non-contact conveyance is generated in directions 12 and 13 opposite to the initial direction. Then, the master plate 6 and the working plate 7 are returned to empty berths that can accept the collection cassettes 4 and 5, respectively, and are available at a designated bell. FIG. 2 is an exploded perspective view showing the overall structure of the contact printer of the present invention having the plate supply and recovery processes as described above.

ここに、露光軸laの両側におけるケーシング14およ
び15はそれぞれマスタープレート用およびワーキング
プレート用の供給カセットと回収カセットを隣接させて
昇降自在に収容している。マスターおよびワーキングプ
レート供給カセット2および3がそれぞれケーシング1
4および15から突出して最上位にある最初の段階にお
いては対応する各回収カセット4および5はそれぞれケ
ーシング中に没入した最下位にあり、ここでは図示しな
いが供総合カセットのすべての桟にマスタ−プレートお
よびワーキングプレートが敷薄されているものとする。
これらのプレートはケーシング14および15の上縁を
越えてカセット内外に受授されるので、ケーシング14
および15の上縁レベルはそれぞれ、マスタープレート
およびワーキングプレートに固有の搬送レベルに対応し
、したがってケーシング14および15から互いに相手
方向に延びる一対のエアーロード装置16および17は
これらの上緑レベルに対応するレベルにおいて、それぞ
れスライド軸18,18および19,19に摺動自在に
保持されている各スライド軸の両端支持部材20,21
および22,23はそれそれエアーロード装置16およ
び17のストッパーとなっており、エアーロード装置1
6および17の全長はそれらがストッパー20および2
2に当接した供給位置においてプレートの露光位置を設
定するフィールド制限用フレーム24の開□25を塞ぐ
程度まで延びている。フレーム241こは後に第6図に
関して延べるマスタープレ−ト真空吸着用チャンネルが
設けられているとともに、周辺下方において両プレート
間の密着を解除するための移動ヱアーノズル26が配置
されている。ワーキングプレート用エアーロード17の
さらに下方には軸○を露光軸laに整合したプレートチ
ャックロッド27,およびこのロッド27を昇降自在に
貫通させたそれ自身も昇降自在であるプレートホルダー
28が配置されている。マスタ−プレート用エアーロー
ド16の先端上面にはこの場合、前記のプレートチャッ
クロッド27と連動して、たとえば空気駆動されるプレ
ート支持4点ピン29が配置され、ワーキングプレート
用エアーロード装置17の先端には前述したプレートチ
ャックロッド27が通過するための切欠30が形成され
ている。フレーム24の上方には光源からこのフレーム
に到るまでの露光用光学系が配置されている。
Here, the casings 14 and 15 on both sides of the exposure axis la accommodate supply cassettes and recovery cassettes for master plates and working plates, respectively, adjacent to each other and movable up and down. Master and working plate supply cassettes 2 and 3 respectively in casing 1
At the initial stage, the corresponding recovery cassettes 4 and 5 are at the lowest level recessed into the casing, and although not shown here, the master cassettes are attached to all the crosspieces of the general cassettes. It is assumed that the plate and working plate are thin.
These plates pass over the upper edges of casings 14 and 15 into and out of the cassette, so that casing 14
and 15 respectively correspond to the specific transport levels of the master plate and the working plate, and thus the pair of air loading devices 16 and 17 extending in opposite directions from the casings 14 and 15 correspond to these upper green levels. Support members 20 and 21 at both ends of each slide shaft are slidably held on the slide shafts 18 and 19 and 19, respectively, at the level where
and 22 and 23 are stoppers for the air load devices 16 and 17, respectively, and the air load devices 1
The total length of 6 and 17 is the same as that of stoppers 20 and 2.
It extends to the extent that it closes the opening 25 of the field limiting frame 24 that sets the exposure position of the plate at the supply position in contact with the field limiting frame 24. The frame 241 is provided with a channel for vacuum suction of the master plate, which will be described later with reference to FIG. 6, and a movable air nozzle 26 is arranged below the periphery for releasing the close contact between the two plates. Further below the working plate air road 17, there are arranged a plate chuck rod 27 whose axis ○ is aligned with the exposure axis la, and a plate holder 28 which extends through this rod 27 and is also movable up and down. There is. In this case, a four-point plate support pin 29 that is driven by air, for example, is disposed on the top surface of the tip of the master plate air load device 16 in conjunction with the plate chuck rod 27. A notch 30 through which the plate chuck rod 27 described above passes is formed. An exposure optical system is arranged above the frame 24 from the light source to the frame.

ここに、31は超高圧水銀灯からなる光源、32はプロ
テクタ、33はコソデンサレンズ、34はシヤツター、
35はフイルタ、36はフイールドレンズ、そして37
はフレーム24に光を向かわせるためのコールドミラー
である。上言己のような構成を有する実施例における各
部の詳細および動作順次は次の通りである。
Here, 31 is a light source consisting of an ultra-high pressure mercury lamp, 32 is a protector, 33 is a cosodenser lens, 34 is a shutter,
35 is a filter, 36 is a field lens, and 37
is a cold mirror for directing light toward the frame 24. The details and operation order of each part in the embodiment having the above-mentioned configuration are as follows.

第3図はそれぞれマスタープレート6用の供給カセット
2および供給位置にあるエアーロード装置16の搬送軸
に沿った断面を示すものであり、前述のとおりカセット
2は最初、最上位にセットされ、最下段のマスタープレ
ート6がケ−シング14の上緑のわずか上に位置してい
る。
FIG. 3 shows cross sections along the conveyance axis of the supply cassette 2 for the master plate 6 and the air loading device 16 in the supply position, respectively. As mentioned above, the cassette 2 is initially set at the top, and the air load device 16 is placed at the top. The lower master plate 6 is located slightly above the upper green of the casing 14.

カセット2中には外側のエアーロード装置16の上面と
同様、ケーシング14上緑とほぼ同}レベル、すなわち
カセット2に収納された最下位のマスタープレート6a
のやや下位に設定された上面を有する補助。−ド装置3
8が、カセット2の降下を妨げないように固定されてい
る。エアーロード装置16の上面にはこの上をマスター
プレート6が接触しないで露光軸laに整合する位置ま
で搬送するために、その搬送方向に、この場合約300
傾いた斜上方に空気を噴出するためのオリフィス39の
列と、これと反対方向に(カセットに向かって)約30
0傾いた斜上方に空気を噴出するための第2のオリフイ
ス40の列が形成されている。また補助ロード装置38
にも同様なオリフィス41および42の列が形成される
が、図において石上向きのオリフィス42は必ずしも必
要ではない。エアーロード装置16のオリフィス39お
よび40は第4図に示した水平断面からわかるとおり、
それぞれ同一線上において列に配置され、これによりプ
レートが水平に浮上できるようになっている。このオリ
フィス配列は補助ロード装置においても同様である。さ
て、カセット2およびエアーロード装置16を第3図の
とおりにセットし、次にフレーム24の真空吸着機構を
消勢しておいて、エアーロード装置16および補助ロー
ド装置38を前記露光位置の方に傾いたオIJフィス列
39および41から空気流を噴出させるように付勢する
The inside of the cassette 2 is at the same level as the upper surface of the outer air load device 16 and the upper surface of the casing 14}, that is, the lowest master plate 6a stored in the cassette 2.
An auxiliary whose top surface is set slightly below. - code device 3
8 is fixed so as not to impede the descent of the cassette 2. In order to transport the upper surface of the air load device 16 to a position where the master plate 6 does not come into contact with it and aligns with the exposure axis la, there is a
A row of orifices 39 for ejecting air in an inclined upward direction and about 30 orifices in the opposite direction (toward the cassette).
A second row of orifices 40 is formed for blowing out air obliquely upward. Also, the auxiliary load device 38
A similar row of orifices 41 and 42 is formed in the stone, although the orifice 42 facing upward in the figure is not necessarily required. As can be seen from the horizontal cross section shown in FIG. 4, the orifices 39 and 40 of the air loading device 16 are
They are arranged in collinear rows, allowing the plates to float horizontally. This orifice arrangement is similar in the auxiliary loading device. Now, set the cassette 2 and air load device 16 as shown in FIG. The airflow is energized to blow out from the IJ office rows 39 and 41 which are inclined to the side.

したがって、最下段のマスタープレート6は。ード装置
38,16の上面に触れないでカセット2から放出され
、かつ露光軸laまで搬送され、第3図においてストッ
パー43に当たり44で示すフオトセンサーによりこの
位置への到着が検出されると、これらの空気流は停止さ
れる。エアーロード装置16又は17のように詳しい外
形の図解は第5図に示されており、オリフィス列39お
よび40を有するこれらロード装置の上面にはプレート
6又は7の搬送路逸脱を阻止するための両側縁45およ
び46が設けられているとともに、先端中央には前述の
ストッパー43が、先端隅部には前述のフオトセンサー
44が配置されている。
Therefore, the lowest master plate 6 is. It is ejected from the cassette 2 without touching the top surface of the card devices 38, 16, and is conveyed to the exposure axis la, and when it hits the stopper 43 in FIG. 3 and the arrival at this position is detected by the photo sensor 44, These air flows are stopped. A detailed external diagram of the air loading device 16 or 17 is shown in FIG. Both side edges 45 and 46 are provided, and the aforementioned stopper 43 is placed at the center of the tip, and the aforementioned photo sensor 44 is placed at the corner of the tip.

露光軸まで搬送されたマスタープレート6は次に適宜の
空気系統によって付勢される4点ピン29に持ち上げら
れ、フレーム24の下面に接触させられる。
The master plate 6 conveyed to the exposure axis is then lifted by a four-point pin 29 energized by a suitable air system and brought into contact with the lower surface of the frame 24 .

同時にフレーム24の真空吸着手段が付勢され、接触し
たマスタープレート6を吸着保持させる。ここで、4点
ピン29をもとのレベルまで下げ、マスタープレート用
ェア−ロード装置16を回収位置、すなわち、第2図の
ストッパー21に当援する位置ヘリセットする。
At the same time, the vacuum suction means of the frame 24 is energized to suction and hold the master plate 6 in contact with it. At this point, the four-point pin 29 is lowered to its original level, and the master plate air-loading device 16 is set to the recovery position, that is, the position supporting the stopper 21 in FIG.

ワーキングプレート7は上記マスタープレート6の露光
位置への供給が終ってから供給される。
The working plate 7 is supplied after the master plate 6 has been supplied to the exposure position.

このための供給カセット3と、その内部の補助ロード装
置、およびエアーロード装置17は第3図を参照して前
述したマスタープレート6用のものと実質上、左右対称
と考えてさしつかえがないので、詳細な図解を省略する
。また回収カセット4,5中の補助ロード装置もオリフ
ィス列が少くともプレートをカセット中に受容できる向
きに形成されていることに留意し、かつ回収検知用フオ
トセンサーが設けてある以外は、供給カセット2,3中
のものと同様である。まず、第2図においてワーキング
用エアーロード装置17が供給位置、すなわち、ストツ
パ−22に当援する位置にセットされ、次にカセット3
中の補助ロード装置(図示せず)およびエアーロード装
置17を付勢して最下段のワーキングプレートを放出し
、かつ露光軸に対応するまで無接触空気搬送し、前記と
同様にこの搬送空気流を停止し、次にプレートチャック
ロッド27をエアーロード装置17の先端切欠部30を
通して上昇させ、ロッド27の先端チャック盤(このと
き、チャックの吸引動作は特に必要ではない)によりワ
ーキングプレートを特上げ、すでにフレーム24に吸着
されたマスタープレート6の下面に接触させる。好まし
くは、ロッド27はこの接触圧を感知して停止する。こ
こで、ワーキング用エアーロード装置17は回収位置、
すなわち、第2図においてストッパー23に当接する位
置へ、リセツトされる。次に、第6図に示すようにプレ
ートホルダー28を仮想線で示した下位の休止位置から
、実線で示す動作位置まで上昇させ、その外側環状ある
いは矩形枠状ゴムブレード47の上端全体をフレ−ム2
4の裏側の周綾部48に、フレ−ムの開□25よりやや
大きい内側枠状受けゴム49の上端全体をワーキングプ
レート7の下面に圧接させる。
The supply cassette 3 for this purpose, the auxiliary loading device therein, and the air loading device 17 can be considered to be substantially symmetrical to the one for the master plate 6 described above with reference to FIG. Detailed illustrations are omitted. It should also be noted that the auxiliary loading devices in the recovery cassettes 4 and 5 are also oriented so that the orifice rows can receive at least the plates in the cassettes, and the supply cassettes are equipped with a photo sensor for detection of recovery. It is similar to those in 2 and 3. First, in FIG. 2, the working air loading device 17 is set to the supply position, that is, the position supporting the stopper 22, and then
The auxiliary loading device (not shown) and the air loading device 17 inside are energized to eject the lowermost working plate, and it is conveyed by contactless air until it corresponds to the exposure axis, and this conveying air flow is applied in the same manner as above. Then, the plate chuck rod 27 is raised through the notch 30 at the tip of the air loading device 17, and the working plate is specially raised by the chuck plate at the tip of the rod 27 (at this time, suction operation of the chuck is not particularly necessary). , is brought into contact with the lower surface of the master plate 6, which has already been attracted to the frame 24. Preferably, rod 27 senses this contact pressure and stops. Here, the working air load device 17 is at the recovery position,
That is, it is reset to the position where it abuts against the stopper 23 in FIG. Next, as shown in FIG. 6, the plate holder 28 is raised from the lower rest position shown by the imaginary line to the operating position shown by the solid line, and the entire upper end of the outer annular or rectangular frame-shaped rubber blade 47 is lifted up. M2
The entire upper end of an inner frame-shaped receiving rubber 49 that is slightly larger than the opening □ 25 of the frame is brought into pressure contact with the lower surface of the working plate 7.

ここでチャックロッド27の役目が終わり、仮想図示し
た上端支持位置より、実線図示した下端休止位置に戻さ
れる。やはり、第6図において明らかなとおり、プレー
ト6,7より大きい外径を有するフレーム24の裏側は
マスタープレート6の外縁に対応する周緑48がその内
側において閉口25に連なる下端面50よりもわずか、
好ましくは1〜2仏程度の深さだけ段落してあって、こ
の周緑48と、下端面50との間には環状の真空チャン
ネル51が刻設されている。
At this point, the role of the chuck rod 27 is completed, and the chuck rod 27 is returned from the upper end support position shown in the virtual diagram to the lower end resting position shown in the solid line diagram. Again, as is clear from FIG. 6, on the back side of the frame 24, which has an outer diameter larger than that of the plates 6 and 7, the circumferential green 48 corresponding to the outer edge of the master plate 6 is slightly smaller than the lower end surface 50 that connects to the closing opening 25 on the inside thereof. ,
Preferably, it is stepped by a depth of about 1 to 2 degrees, and an annular vacuum channel 51 is carved between the circumferential green 48 and the lower end surface 50.

したがって、前述したフレーム24によるマスタープレ
ート6の吸着はこの真空チャンネル51によって行なわ
れる。すなわち、周緑48の段差が1〜2仏程度である
と、真空チャンネル51が減圧されればマスタープレー
ト6の外縁が実質上段差分だけたわんでこの周縁48の
接触、あるいは近接し、真空チャンネル51は外気と完
全に遮断されると考えてよく、これによりフレーム24
は単独でもマスタープレート6を吸着することができる
のである。そして、さらに第6図の実線で示したように
プレートホルダー28が、ワーキングプレート7をマス
タープレート6に押しあてるとともに、外側ゴムブレー
ド47の上端がフレーム24の周縁48に圧接すると、
前記フレーム24によるマスタープレート真空吸着が解
除されてマスタープレート6の目もこ見えないたわみも
復元し、プレートホルダー28の真空チャンバー52、
すなわち外周および内周ゴムの間を真空源(図示せず)
に接続する。これにより、マスタープレート6と、ワー
キングプレート7との接触面からは空気および付着した
塵嫁が抜きとられ、両プレートは密着する。真空は同時
にフレーム24の裏面とマスタープレート6の上面との
間にも及ぶので、これらの密着させられるのであるが、
本発明の実施例では、フレームの下端面50および段差
周縁48に超精密加工を施してある。このように第6図
のフレーム構造においては、フレーム24の真空チャン
ネル51および段差周縁48による間隙、両プレート6
,7の緑端と、外側ゴムブレード47との間隙、そして
フレームホルダー28の真空チャンバー52にはいずれ
も減圧時を通じて実質的に等しい強さの真空が及ぶもの
である。したがって、従来のこの種機構において普通に
採用されていた段差のない精密(超精密ではない)仕上
げの下面を有するフレ−ムにおいて生じたプレートのた
わみの問題を解決するものである。すなわち、フレーム
下面が、細いプレート吸着用真空チャンネルの両側を同
一面上に仕上げてある場合は、フレームとマスタープレ
ートとの接触間隙を通る漏入空気に対する実質的な空気
抵抗およびチャンネルによる空気バッファーが形成され
、これが真空チャンバー52によって外周端から減圧さ
れていく場合、最初に減圧されるのは吸着用チャンネル
よりも外側の部分であり、マスタープレートはこの部分
がまずフレームに密着し、チャンネル内側の部分はこれ
よりはるかに高圧の外気とほぼ運通した形となり、した
がってプレートはこの内側部分がフレームから離れたい
わば凹状に変形する。このたわみ、あるいはディツプの
深さはごくわずかに、たとえば中央におけるたわみが1
2仏程度であっても、転写精度は累積で1ムに達し、I
C製造におけるパターン不良となるのである。本発明の
フレームにおいては、2一の段差周緑48を介してチャ
ンネル51内が減圧されていき、これが下端面501こ
伝えられていく。その際、この真空領域に接するプレー
ト表面における圧力勾配は実質上存在しないのでプレ−
トの外側が最初に上方にたわむことはなく、しかもフレ
ーム下端面50‘ま超精密加工の故にプレート6との粗
接触(機械的接触)時において実質的な空気抵抗がない
のでこの接触間隙が減圧されると同時に両者は密着する
ことにより、たわみの問題を完全に克服することができ
る。このような真空密着が完全に行なわれると、次に露
光が行なわれることになり、そのため、露光用シャッタ
ーは設定された時間の後、自動的に開くようにすること
ができる。しかし、第7図に図解するようなプレートの
たわみ、および密着状態の監視は露光前および露光中を
通じて実施され、露光寸前において不完全な密着状態が
観察されれば、操作者は好ましい密着が得られるまで任
意にシャッターの開放時間を遅らせることができる。第
7図において、超高圧水銀灯31はワ−キングプレート
7の感光膜を硬化させるための波長を出すが、感光膜は
この光だけでなく、常時の漏光(暗室中で本発明装置が
用いられるときは感光膜に影響を与えない波長を出す室
内安全灯からの漏光)をもコールドミラー37に向かっ
て反射し、この反射光はコールドミラー37上に両プレ
ートの密着程度を表わす干渉縞を現ずる。コ−ルドミラ
ーは可視光を反射し、熱線を透過するものであり、操作
者は暗室中においてこのような干渉縞をコールドミラー
の背後より監視できるのである。そしてプレート間のご
みの存在等にもとずく明確な干渉縞や、ニュートン環は
容易に識別される。また、露光前に両プレートが好まし
く密着していても、シャツ夕−34を開いて数秒間露光
しているときに、たわみが発生する(これは感光膜から
のガス発生による)ことががあり、このような事態が観
察された場合のワーキングプレートをチェックしておく
ことにより、パターン誤差を有するワーキングプレート
が現象され、それが実際のICパターン焼付けに用いら
れるのを防ぐことができる。かくして、ワーキングプレ
ート7の露光(数秒間程度)が終ると、再びシャッター
34が閉じられるとともに、フレーム24自体のプレー
ト吸着機構を再び働かせ、次いでプレートチャックロッ
ド27を上昇させてワーキングプレート7に接触させる
Therefore, the vacuum channel 51 is used to attract the master plate 6 by the frame 24 described above. That is, if the step of the circumferential green 48 is about 1 to 2 degrees, when the vacuum channel 51 is depressurized, the outer edge of the master plate 6 will substantially sag by the step difference and come into contact with or come close to the circumferential edge 48 , causing the vacuum channel 51 It can be considered that the frame 24 is completely isolated from the outside air.
It is possible to adsorb the master plate 6 even by itself. Further, as shown by the solid line in FIG. 6, when the plate holder 28 presses the working plate 7 against the master plate 6 and the upper end of the outer rubber blade 47 comes into pressure contact with the peripheral edge 48 of the frame 24,
The vacuum suction of the master plate by the frame 24 is released, the invisible deflection of the master plate 6 is restored, and the vacuum chamber 52 of the plate holder 28,
In other words, a vacuum source (not shown) is connected between the outer and inner rubber.
Connect to. As a result, air and attached dust are removed from the contact surface between the master plate 6 and the working plate 7, and the two plates are brought into close contact with each other. Since the vacuum simultaneously extends between the back surface of the frame 24 and the top surface of the master plate 6, they are brought into close contact with each other.
In the embodiment of the present invention, the lower end surface 50 of the frame and the stepped peripheral edge 48 are subjected to ultra-precision processing. In this way, in the frame structure shown in FIG.
, 7, the gap between the outer rubber blade 47, and the vacuum chamber 52 of the frame holder 28 are all subjected to a vacuum of substantially equal strength throughout the depressurization process. This solves the problem of plate deflection that occurs in frames having a flat, precision (not ultra-precision) finished bottom surface commonly employed in conventional mechanisms of this type. That is, if the underside of the frame is flush-finished on both sides of the narrow plate suction vacuum channels, there is a substantial air resistance to leakage air through the frame-master plate contact gap and an air buffer provided by the channels. When the pressure is reduced from the outer edge by the vacuum chamber 52, the part outside the adsorption channel is first reduced in pressure, and this part of the master plate first comes into close contact with the frame, and then the part inside the channel is reduced. The part is shaped almost in communication with the outside air at a much higher pressure, so that the plate deforms in a concave manner, with this inner part away from the frame. The depth of this deflection or dip is very small, for example if the deflection in the center is 1
Even if it is about 2 Buddhas, the cumulative transcription accuracy reaches 1 mu, and I
This results in pattern defects during C manufacturing. In the frame of the present invention, the inside of the channel 51 is reduced in pressure via the step circumference 48 of 21, and this is transmitted to the lower end surface 501. At that time, there is virtually no pressure gradient on the plate surface in contact with this vacuum region, so the plate
The outer side of the plate 6 does not bend upward first, and since the lower end surface 50' of the frame is ultra-precision machined, there is no substantial air resistance during rough contact (mechanical contact) with the plate 6, so this contact gap is By bringing the two into close contact with each other at the same time as the pressure is reduced, the problem of deflection can be completely overcome. When such vacuum contact is completely achieved, exposure is then performed, and therefore the exposure shutter can be configured to open automatically after a set time. However, as illustrated in Fig. 7, the plate deflection and adhesion state are monitored before and during exposure, and if incomplete adhesion is observed just before exposure, the operator will be able to determine whether a desired adhesion has been achieved. You can arbitrarily delay the shutter opening time until the In FIG. 7, an ultra-high-pressure mercury lamp 31 emits a wavelength for curing the photoresist film on the working plate 7, but the photoresist film not only receives this light but also constantly leaks light (the device of the present invention is used in a dark room). Even light leakage from an indoor safety light that emits wavelengths that do not affect the photoresist film is reflected toward the cold mirror 37, and this reflected light produces interference fringes on the cold mirror 37 that indicate the degree of close contact between the two plates. Cheating. The cold mirror reflects visible light and transmits heat rays, allowing the operator to monitor such interference fringes from behind the cold mirror in a dark room. Clear interference fringes and Newton's rings based on the presence of dust between the plates can be easily identified. Furthermore, even if both plates are in good contact with each other before exposure, sagging may occur (this is due to gas generation from the photoresist film) when the plate 34 is opened and exposed for several seconds. By checking the working plate when such a situation is observed, it is possible to prevent a working plate having a pattern error from being used for actual IC pattern printing. In this way, when the exposure of the working plate 7 (for about several seconds) is completed, the shutter 34 is closed again, the plate adsorption mechanism of the frame 24 itself is activated again, and then the plate chuck rod 27 is raised and brought into contact with the working plate 7. .

ここでプレートホルダ−28‘こよる真空密着を解除す
るとともに、このホルダー28を下げる。この吸引解除
と同時に、同ホルダー28の真空チャンバー中には適宜
の手段により不活性ガス、たとえば窒素を供給し、両プ
レート6,7の密着解除をたすける。次に、窒素ガス雰
囲気を解除すると同時に、ワーキングプレート用エアー
ロード16をもとの供給位置まで戻す。
At this point, the vacuum contact caused by the plate holder 28' is released and the holder 28 is lowered. At the same time as this suction is released, an inert gas such as nitrogen is supplied into the vacuum chamber of the holder 28 by an appropriate means to help release the close contact between the plates 6 and 7. Next, at the same time as releasing the nitrogen gas atmosphere, the working plate air load 16 is returned to the original supply position.

このとき、プレートチャックロッド27の先端はすでに
ェアーロ−ド17より上位にあるが、第2図に部分的に
示されたエアーロード17先端の切欠き30は、チャッ
クロッド27をこのエアーロード復帰行程において受容
できる向きに形成されており、この行程は支障なく遂行
される。ここで、プレートチャックロッド27を真空源
に接続し、ワーキングプレート7をその端面に吸着して
から、降下させる。同時に、第2図に示した移動エアー
ノズル26が、もとの位置(プレートホルダ−がフレー
ムに近接した動作位置にあるときはその外側に位置する
)から、両フ。レート6,7の接触端緑に向かって前進
し、不活性ガス、たとえば真空解除の場合と同様窒素ガ
スを噴出し、これをプレート6,7が分離した時点で停
止する。そしてチャックロッド27の降下によりワーキ
ングプレート7がェアーロ−ド装置17上に萩置される
と、適宜の手段によりこれを検知してロッド27の端面
によるプレート吸着を解除する。チャックロッド27が
完全に降下すると、エアーロード装置17を回収位置に
リセットし、同時にこのエアーロード装置17およびワ
ーキングプレート回収カセット5中の補助ロード装置の
回収用無接触搬送用空気流を発生し、同カセット5中に
露光済ワーキングプレート7を回収する。
At this time, the tip of the plate chuck rod 27 is already above the air load 17, but the notch 30 at the tip of the air load 17 partially shown in FIG. The process is carried out without any problem. Here, the plate chuck rod 27 is connected to a vacuum source, the working plate 7 is attracted to its end face, and then lowered. At the same time, the moving air nozzle 26 shown in FIG. It advances toward the contact end green at rates 6 and 7 and blows out an inert gas, for example nitrogen gas, as in the case of releasing the vacuum, and this is stopped when the plates 6 and 7 are separated. When the working plate 7 is placed on the air loading device 17 by lowering the chuck rod 27, this is detected by appropriate means and the plate adsorption by the end surface of the rod 27 is released. When the chuck rod 27 is completely lowered, the air loading device 17 is reset to the recovery position, and at the same time, a contactless conveyance air flow for recovery of the air loading device 17 and the auxiliary loading device in the working plate recovery cassette 5 is generated, The exposed working plate 7 is collected into the same cassette 5.

次にマスタープレート用エアーロード装置16を供給位
置にセットする。ここで、4点ピン29を上昇させてマ
スタープレート6に接触させ、フレーム24によるマス
タープレート6の真空吸着を解除し、4点ピン29を下
げることにより、このプレートをエアーロード装置16
に乗せ、これを再び回収位置に移動させる。そして、回
収位置に持来たされたエアーロード装置16および回収
カセット4中の補助ロード装置を付勢したマスタープレ
ート6を回収カセット4に移送し、回収する。なお、回
収カセット4および5はそれぞれ一枚目のマス夕−およ
びワーキングプレート6および7を受入れるときは、供
給カセットのときとは逆にそれぞれ最下位にあって、そ
れらの最上段の様にプレートを回収し、枚数が進むたび
に一段ずつ上昇して、下位の桟を順次所定の受入れレベ
ル(第1および第2レベル)に対応させるものであり、
最初の回収時の状態は第8図のようになる。この場合も
、マスタープレート用のエアーロード装置16および回
収カセット4と補助ロード装置53を示すが、ワーキン
グプレート用についてはこれらと左右対称と考えて差支
えない。補助ロード装置53において、エアーロード装
置16と反対側の端緑に示された54はプレートを検知
して回収用空気流(斜線を施したオリフィス40,42
による)を止めるためのフオトセンサーである。以上で
、露光を終った両プレート6,7がカセット4,6に回
収されると、次のプレートの露光工程に移る前に、フレ
ーム24の真空チャンネルを真空源に接続し、次のマス
タープレート吸着が円滑に行なわれるための準備をする
Next, the master plate air loading device 16 is set to the supply position. Here, the four-point pin 29 is raised to contact the master plate 6, the vacuum suction of the master plate 6 by the frame 24 is released, and the four-point pin 29 is lowered to transfer this plate to the air load device 16.
and move it to the collection position again. Then, the air load device 16 brought to the recovery position and the master plate 6 in which the auxiliary load device in the recovery cassette 4 is energized are transferred to the recovery cassette 4 and recovered. When receiving the first square and working plates 6 and 7, the recovery cassettes 4 and 5 are at the lowest position, contrary to the supply cassette, and the plates are placed at the top. is collected, and each time the number of sheets increases, it is raised one step at a time, and the lower bars are sequentially made to correspond to the predetermined acceptance level (first and second level),
The state at the time of initial recovery is as shown in FIG. In this case as well, the air loading device 16, collection cassette 4, and auxiliary loading device 53 for the master plate are shown, but the air loading device 16 for the master plate can be considered to be symmetrical with these. In the auxiliary loading device 53, the end 54 shown in green on the opposite side from the air loading device 16 detects the plate and directs the recovery air flow (orifices 40, 42 with diagonal lines).
This is a photo sensor to stop the After the exposed plates 6 and 7 are collected in the cassettes 4 and 6, the vacuum channel of the frame 24 is connected to a vacuum source and the next master plate is transferred to the cassette 4 and 6. Make preparations to ensure smooth adsorption.

次にプレートについては、まず供給カセット2,3を1
段下げることによりこのとき最下位にある次のプレート
6,7をそれぞれ第1および第2のレベルにセットし、
また回収カセット4,5を1段上げることによりこれら
のプレート6,7がそれぞれ第1および第2のレベルに
おいて受入れられるようにして、前述と同様の手順を操
返す。
Next, regarding the plate, first set the supply cassettes 2 and 3 to 1.
By lowering the step, the next lowest plates 6 and 7 are set to the first and second levels, respectively.
Further, by raising the recovery cassettes 4 and 5 by one level, these plates 6 and 7 are received at the first and second levels, respectively, and the same procedure as described above is repeated.

これにより、供給カセット2,3中に収納した全プレー
トについてきずをつけない自動的な無接触搬送を介する
露光工程が適用される。
As a result, an exposure process is applied to all the plates stored in the supply cassettes 2 and 3 through automatic, non-contact transport that does not cause any damage.

そしてすべてのプレートを回収カセット4,5に収納し
終ると、全力セットをケーシング14および15から取
り出すか、あるいは所望に応じてエアーロード装置16
,17と反対の側からカセットに接続した同様なエアー
ロード装置により、新たなプレートを供給カセットに収
納し、また回収カセットから露光工程を経たプレートを
取り出すことができる。
When all the plates have been stored in the collection cassettes 4 and 5, the full set can be removed from the casings 14 and 15, or if desired, the air loading device 16
, 17, a similar air loading device connected to the cassette from the opposite side allows new plates to be loaded into the supply cassette and exposed plates to be removed from the collection cassette.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明のプレート供給および回収と露光位置
との関係を示す略図、第2図は本発明の実施例の全体的
構成を示す分解斜視図、第3図はマスタープレートの供
給カセットと主および補助エアーロード装置を示す断面
図、第4図は主エアーロード装置の水平断面図、第5図
は主エアーロード装置の詳細な斜視図、第6図はマスタ
ープレートおよびワーキングプレートを露光位置におい
て真空密着・固定するための機構を示す断面図、第7図
は光源からプレートに到る露光光学系とへ密着状態監視
の機構を示す略図、第8図はマスタープレートの回収カ
セットと主および補助エアーロード装置を示す第3図と
同様な断面図である。 2,4……マスタープレート用カセット、3,5……ワ
ーキングプレート用カセット、6……マスタープレート
、7…・・・ワーキングフ。 レート、16,17・・・・・・エアーロード装置、2
4・・・・・・露光フィールド制限用フレーム、38,
53・・・・・・補助ロード装置、27・・・・・・プ
レートチャックロッド(第2リフト手段)、28・・・
・・・プレートホルダー、29……プレート支持4点ピ
ン(第1リフト手段)、31・・・・・・光源、34・
・・・・・シャッター、37……コールドミラー、39
,41……プレート供給用搬送空気オリフィス、40,
42・…・・プレート回収用搬送空気オリフィス。第1
図 第3図 第4図 第5図 第7図 第2図 第6図 第8図
FIG. 1 is a schematic diagram showing the relationship between plate supply and recovery and exposure position of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view showing the overall configuration of an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a master plate supply cassette and A cross-sectional view showing the main and auxiliary air loading devices, FIG. 4 is a horizontal sectional view of the main air loading device, FIG. 5 is a detailed perspective view of the main air loading device, and FIG. 6 shows the master plate and working plate in the exposure position. Fig. 7 is a schematic diagram showing the mechanism for monitoring the adhesion state from the light source to the exposure optical system to the plate, and Fig. 8 is a cross-sectional view showing the mechanism for vacuum adhesion and fixation between the master plate collection cassette and the main plate. FIG. 4 is a cross-sectional view similar to FIG. 3 showing the auxiliary air loading device. 2, 4...Cassette for master plate, 3, 5...Cassette for working plate, 6...Master plate, 7...Cassette for working plate. Rate, 16, 17... Air load device, 2
4...Exposure field restriction frame, 38,
53... Auxiliary loading device, 27... Plate chuck rod (second lifting means), 28...
... Plate holder, 29 ... Plate support 4-point pin (first lift means), 31 ... Light source, 34.
...shutter, 37...cold mirror, 39
, 41...conveying air orifice for plate supply, 40,
42... Conveying air orifice for plate recovery. 1st
Figure 3 Figure 4 Figure 5 Figure 7 Figure 2 Figure 6 Figure 8

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 a 露光位置から互いにほぼ等間隔に配置されてお
り、それぞれ側縁支持桟により多数のマスタープレート
およびワーキングプレートを順次間隙を置いて積上げ、
収納することができる一対のマガジン構造であって、収
納したマスタープレートおよびワーキングプレートを一
枚ずつそれぞれ所定の第1レベルおよびこれよりやや下
位の第2レベルにおいて前記露光位置に向けて放出する
ために順次垂直移動することができる一方をマスタープ
レート用、他方をワーキングプレート用とした一対のプ
レート供給カセツトと、b 前記一対のプレート供給カ
セツトにそれぞれ隣接配置された対応する供給カセツト
と実質上同一形状のカセツトからなりそれぞれ前記第1
および第2レベルにおいて実質上前記露光位置の方向か
ら返送されるマスタープレートおよびワーキングプレー
トを一枚ずつ回収するために各段の桟を順次プレート回
収位置に持来たすべく垂直移動することができる一方を
マスタープレート用、他方をワーキングプレート用とし
た一対のプレート回収カセツトと、c 前記供給用およ
び回収用の各一対のカセツト中において各カセツトの前
記垂直移動を妨げないように配置されており、それぞれ
プレートを前記所定のレベルで供給カセツトより放出し
、そして回収カセツトにおいて受入れるための無接触搬
送用空気流を発生する各一対の補助ロード手段、および
d 前記露光位置と各プレート供給カセツトとの間隔に
それぞれ対応した長さを有し、前記第1および第2レベ
ルにおいて対応する供給カセツトからそれぞれ放出され
たマスタープレートおよびワーキングプレートを前記露
光位置まで無接触空気搬送するための供給位置、および
前記第1および第2レベルにおいて対応する回収カセツ
トまでそれぞれマスタープレートおよびワーキングプレ
ートを無接触空気搬送するための回収位置を占め、前記
各位置において対応する搬送方向に傾斜した空気流を発
生することができる一方をマスタープレート用、他方を
ワーキングプレート用とした一対のエアーロード手段、
からなるカセツトから露光位置へのプレート供給およ
び回収装置を備えたことを特徴とするマスタープレート
のパターンをワーキングプレートに転写するための自動
コンタクトプリンタ。 2 特許請求の範囲第1項記載のコンタクトプリンタに
おいて、a 前記露光位置における前記第1レベルのや
や上位に配置されており、この位置に搬送されたマスタ
ープレートを吸着するための真空チヤンネルを有する露
光フイールド制限用フレームと、b 前記フレーム下位
に持来たされたマスタープレートを持上げて同フレーム
に接触させ、前記マスタープレート真空吸着の始動を助
けるための第1リフト手段と、c 前記フレーム下位に
持来たされたワーキングプレートを持上げて前記吸着さ
れたマスタープレート下面に接触させるための第2リフ
ト手段、およびd 前記一対のエアーロード手段がいず
れも回収位置にあって前記第2リフト手段の動作が終了
する前に前記フレームおよびワーキングプレートに接触
し、このフレームおよび両プレートの各接触面を真空密
着させるための真空チヤンバーを有するプレートホルダ
ー、 を備えたことを特徴とするマスタープレートのパ
ターンをワーキングプレートに転写するための自動コン
タクトプリンタ。
[Scope of Claims] 1 a. A large number of master plates and working plates are arranged at approximately equal intervals from the exposure position, and are stacked one by one with gaps between each by side edge support bars,
A pair of magazine structures that can be stored, and for releasing the stored master plate and working plate one by one toward the exposure position at a predetermined first level and a second level slightly lower than this, respectively. a pair of plate supply cassettes, one for a master plate and the other for a working plate, which can be vertically moved in sequence; b. a pair of plate supply cassettes having substantially the same shape as corresponding supply cassettes disposed adjacent to the pair of plate supply cassettes, respectively; Each of the first and second cassettes
and a second level that is capable of moving vertically to sequentially bring the crosspieces of each stage to the plate collection position in order to collect the master plate and working plate returned one by one substantially from the direction of the exposure position. a pair of plate recovery cassettes, one for the master plate and the other for the working plate; a respective pair of auxiliary loading means for generating a contactless conveying air stream for ejecting from the supply cassette at said predetermined level and receiving in a collection cassette; a supply position having corresponding lengths for contactless pneumatic transport of master plates and working plates discharged from respective supply cassettes at said first and second levels to said exposure position; One of the master plates occupies a recovery position for contactless pneumatic conveyance of the master plate and the working plate, respectively, to the corresponding recovery cassette at the second level, and in each said position an air stream can be generated inclined in the corresponding conveyance direction. a pair of air loading means, one for the plate and the other for the working plate;
An automatic contact printer for transferring a pattern on a master plate to a working plate, characterized in that it is equipped with a plate supply and recovery device from a cassette consisting of a cassette to an exposure position and a recovery device. 2. In the contact printer according to claim 1, a. an exposure device that is disposed slightly above the first level in the exposure position and has a vacuum channel for adsorbing the master plate conveyed to this position; a first lifting means for lifting the master plate brought under the frame and bringing it into contact with the frame to help start vacuum suction of the master plate; c. a first lift means brought under the frame; a second lift means for lifting the brought working plate and bringing it into contact with the lower surface of the adsorbed master plate; A plate holder having a vacuum chamber for contacting the frame and the working plate before finishing and vacuum-adhering the frame and each contact surface of both plates. Automatic contact printer for transferring to.
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