JPS60150286A - Memory circuit - Google Patents

Memory circuit

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JPS60150286A
JPS60150286A JP59004313A JP431384A JPS60150286A JP S60150286 A JPS60150286 A JP S60150286A JP 59004313 A JP59004313 A JP 59004313A JP 431384 A JP431384 A JP 431384A JP S60150286 A JPS60150286 A JP S60150286A
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electric potential
channel transistor
potential
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Abstract

PURPOSE:To sufficiently make the average value and the peak value of a supply current in operation small by decreasing the selection word line electric potential to the intermediate electric potential after the completion of operation. CONSTITUTION:At the time of almost completing a reading out, a word line control signal phix falls, a P channel TRQ301 for driving a word line turns off, and a word line signal Wi goes to the intermediate electric potential determined by P channels TRQ303 and Q304. Because the electric potential of Wi goes to the intermediate electric potential, the function of current of said Q111 decreases, the bit line (BL) electric potential at the selective ''0'' information side continues to fall toward the GND electric potential. On the other hand, concerning the bit line at the non-selectige ''0'' information side, a bit line retaining circuit 303 functions so that the bit line electric potential is maintained almost at a VCC electric potential, thereby a DC current flows via VCC Q305 bit line Q111 Q112 GND. As previously stated, the word line signal Wi which is a gate signal of the Q111, is being an intermediate electric potential, the function of current of the Q111 is considerably reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はメモリ回路に係り、特に非同期式スタティック
メモリに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to memory circuits, and more particularly to asynchronous static memories.

従来よシ、外部クロックを必要としない非同期式スタテ
ィックメモリの動作時電源電流の低減化を計り九回路が
種々考案されている。まず、以下に代表的な従来例を示
し、その構成、動作について説明する。
Conventionally, various circuits have been devised to reduce the power supply current during operation of asynchronous static memories that do not require an external clock. First, a typical conventional example will be shown below, and its configuration and operation will be explained.

まず、第1図(a)を参照して従来のスタティックメモ
リについて説明する。
First, a conventional static memory will be explained with reference to FIG. 1(a).

アドレス入力信号Ai (i−0,1,2,・・・。Address input signal Ai (i-0, 1, 2,...

n)は、入力バッファ101に入力される。又、チップ
セレクト入力信号C8sデータ入力信号DIN、 ライ
トイネーブル入力信号WEは、それぞれ人力バッファ1
02に入力される。入力バッファ101,102の構成
はそれぞれ第1図(b)および(C)に示す通シである
。第1図(b)の入力バッファ101に於て、アドレス
変化検知信号φiは、アドレス人力A iがロウレベル
からハイレベルへ、又はハイレベルからロウレベルへ変
化する時に、遅延回路11の遅延時間で決まる一定期間
だけロウレベルになる様な信号である。アドレス入力信
号Aih アドレスバッファ信号A/i 、 A/i、
及びアドレス変化検知信号φiのタイミング関係は、第
2図に示す通りである。
n) is input to the input buffer 101. In addition, the chip select input signal C8s data input signal DIN and the write enable input signal WE are input to the human buffer 1, respectively.
02 is input. The configurations of input buffers 101 and 102 are shown in FIGS. 1(b) and 1(c), respectively. In the input buffer 101 of FIG. 1(b), the address change detection signal φi is determined by the delay time of the delay circuit 11 when the address input signal Ai changes from low level to high level or from high level to low level. This is a signal that remains at a low level only for a certain period of time. Address input signal Aih Address buffer signal A/i, A/i,
The timing relationship between address change detection signal φi and address change detection signal φi is as shown in FIG.

クロック発生部103は、第1図(d)に示す様にアド
レス変化検知信号φi (i=0,1.L・・・。
The clock generator 103 generates an address change detection signal φi (i=0, 1.L...) as shown in FIG. 1(d).

n)及びチップセレクトバッファ信号C8/のAND論
理を採って、プリチャージクロック信号φpを発生する
。該プリチャージクロック信号φpは、チップセレクト
入力信号C8がロウレベルであってかつアドレス入力信
号4i が変化した時又はチップセレクト入力信号C8
がハイレベルの時にt メモリセルマトリックス部10
7内に配置されている各ビット線EFL、BLのプリチ
ャージ、即ちビット線上のデータのリセットを行なう。
The precharge clock signal φp is generated by ANDing the chip select buffer signal C8/n) and the chip select buffer signal C8/. The precharge clock signal φp is activated when the chip select input signal C8 is at a low level and the address input signal 4i changes, or when the chip select input signal C8
When t is at a high level, memory cell matrix section 10
The bit lines EFL and BL arranged in the bit lines EFL and BL are precharged, that is, the data on the bit lines is reset.

又、人力バッファ101でバッファされた信号A’i。Also, the signal A'i is buffered by the manual buffer 101.

A′iから、Xアドレスデコーダ104及びYアドレス
デコーダ105で所望のメモリセル109が選択される
。DIN制御部106. Do+rr 制御部108は
、それぞれデータの書き込み、読み出しの制御を行なう
。第1図(e)に、メモリセルマトリックス部107の
要部を示す。複数のワード線WLと、複数のビット線対
BL、BLの各交点にメそリセル109が配置されてい
る。こζで、メモリセル109は、第1図(f)に示す
様i 0MO8構成の6トランジスタセルである 次に、メモリセルマトリックス部107の動作について
説明する。尚、各部の信号波形は第2図に示す通pであ
る。前記メモリ回路が選択時、即ちチップセレクト入力
信号C8がロウレベルの時。
A desired memory cell 109 is selected from A'i by an X address decoder 104 and a Y address decoder 105. DIN control unit 106. The Do+rr control unit 108 controls data writing and reading, respectively. FIG. 1(e) shows the main part of the memory cell matrix section 107. A mesori cell 109 is arranged at each intersection of a plurality of word lines WL and a plurality of bit line pairs BL, BL. Here, the memory cell 109 is a 6-transistor cell having an i0MO8 configuration as shown in FIG. 1(f).Next, the operation of the memory cell matrix section 107 will be explained. Incidentally, the signal waveforms of each part are as shown in FIG. When the memory circuit is selected, that is, when the chip select input signal C8 is at low level.

アドレス入力信号Atが切り換わることによって。By switching the address input signal At.

Xアドレスデコード信号Xi及びYアドレスデコード信
号Yj もまた切り換わる。一方、前記アドレス入力信
号Atの変化に伴なって、アドレス変化検知信号φlが
発生し、よってプリチャージクロック信号φpが発生す
る。前記Xi 、 Yi 、φpのタイミング関係は、
第2図に示す通シである。
The X address decode signal Xi and the Y address decode signal Yj also switch. On the other hand, as the address input signal At changes, an address change detection signal φl is generated, and thus a precharge clock signal φp is generated. The timing relationship between Xi, Yi, and φp is as follows:
This is the passage shown in FIG.

第2図に於て、φpがロウレベルにある期間中に。In FIG. 2, during the period when φp is at low level.

Xi、Yjが切如換わ)、アドレス入力信号Aiで決定
された。ただ一つのメモリセル番地だけが選択される。
(Xi, Yj are switched) and determined by the address input signal Ai. Only one memory cell address is selected.

 ・ プリチャージクロック信号φpは、新しいメモリセルが
選択される時刻を含む一定期間だけ、ビット線BL、B
Lをプリチャージし、ビット線の状態をリセットする。
- The precharge clock signal φp connects the bit lines BL and B for a certain period including the time when a new memory cell is selected.
Precharge L and reset the state of the bit line.

この様なプリチャージクロック信号φpを用いることに
よジ、ビット線のプリチャージ期間が動作サイクル時間
の5チ乃至1゜チ程度となる為、メモリセルマトリック
ス部107で消費される電源電流の平均値は、ビット線
終端に抵抗性負荷を設けた他の従来方式よυ、かなシ低
い値となる。なぜなら、ビット線終端に抵抗性負荷を設
けた従来の方式は、常にビット線よシメ6一 モリセルへDC的に電流を流すからである。
By using such a precharge clock signal φp, the bit line precharge period is approximately 5 to 1 inch of the operating cycle time, so the average power supply current consumed in the memory cell matrix section 107 is reduced. The value is much lower than that of other conventional methods in which a resistive load is provided at the end of the bit line. This is because in the conventional system in which a resistive load is provided at the end of the bit line, a DC current always flows from the bit line to the memory cell.

しかしながら、不従来例にも、電源電流のピーク値と言
う点から見ると、jす下の様な欠点がある。
However, the non-conventional example also has the following drawbacks from the point of view of the peak value of the power supply current.

即ち第2図かられかる様に、Xi、Yj が選択され、
読み出し又は書き込み動作が完了した後も。
That is, as shown in Fig. 2, Xi and Yj are selected,
Even after the read or write operation is complete.

ビット線BL、I’−ILの1′O″Wg報側線の電圧
しベルは、トランスファーゲートQ11.の開いている
メモリセルのドライバ・トランジスタQ、1!に引かれ
て、ゆっくりと低下し、GNI)電位付近まで下げられ
る。やがて、次のアドレスサイクルに切シ換わシ、プリ
チャージクロック信号φpが発生し。
The voltage level of the 1'O''Wg signal side line of the bit lines BL, I'-IL is pulled by the driver transistor Q, 1! of the open memory cell of the transfer gate Q11., and slowly decreases. GNI) potential is lowered to near the potential.Soon, a switch is made to the next address cycle, and a precharge clock signal φp is generated.

全てのビット線がVcc 電位まで充電される。この時
、電源電流のピーク値は、ビット線BL、 BLの一方
がGND電位電位付近炉下ているためかなシ大きな値に
達する。例えば、2KX8ビットRAMの場合、Vcc
=5Vで電源電流のピーク値I ccpeakは、およ
そ100 m′に以上にもなる。電源ピーク電流が大き
いRAMをボード上に実装する場合、パターン設計、電
源設計に特に注意を払う必要が生じるので、電源ピーク
電流はできるだけ小さい方が望ましい。
All bit lines are charged to Vcc potential. At this time, the peak value of the power supply current reaches a large value probably because one of the bit lines BL and BL is below the GND potential. For example, for 2KX8 bit RAM, Vcc
=5V, the peak value of the power supply current Iccpeak is approximately 100 m' or more. When a RAM with a large power supply peak current is mounted on a board, it is necessary to pay particular attention to pattern design and power supply design, so it is desirable that the power supply peak current is as small as possible.

以上の様に、本従来例の如く構成されたメモリ回路に於
ては、ビット線のプリチャージ時に、電源電流のピーク
値が非常に大きくなると言う欠点があった。
As described above, the memory circuit configured as in this conventional example has the drawback that the peak value of the power supply current becomes extremely large when precharging the bit line.

本発明の目的は、動作時電源電流の平均値を前記従来例
と同程度以下に抑え、かつ動作時電源電流のピーク値を
前記従来例より十分小さくした、メモリ回路を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to provide a memory circuit in which the average value of the power supply current during operation is suppressed to the same level or less as in the conventional example, and the peak value of the power supply current during operation is sufficiently smaller than that in the conventional example.

本発明によるメモリ回路は、データの伝達を行なう複数
のビット線と、トランスファーゲートの開閉制御を行な
う複数のワード線の交点にメモリセルを配置したメモリ
回路に於て、読み出し動作の完了後に避択のワード線の
電位を該読み出し動作時に於ける値よシ低い第一の値に
設定する機能を有するワード線制御回路と、非選択のビ
ット線の雷9位を該ビット線のリセット時の値に十分近
い第二の値に保持するビット線電位保持回路、とを備え
たことを特徴とする。
The memory circuit according to the present invention has memory cells arranged at the intersections of a plurality of bit lines for transmitting data and a plurality of word lines for controlling opening/closing of transfer gates. A word line control circuit that has a function of setting the potential of the word line to a first value lower than the value at the time of the read operation, and a word line control circuit that sets the potential of the unselected bit line to a value at the time of resetting the bit line. and a bit line potential holding circuit that holds the bit line potential at a second value sufficiently close to .

本発明によるメモリ回路では、上記ワード線制御回路が
、ワード線選択用アドレスデコード信号を入力とするイ
ンバータ回路の出力をNチャネルトランジスタのゲート
に接続し、アドレス入力信号の変化によって発生する、
一定期間だけハイレベルとなるクロック信号と、前記ワ
ード線選択用アドレスデコード信号を入力とする二人力
NAND回路の出力を第一のPチャネルトランジスタの
ゲートに接続し、上記インバータ回路の出力を第二のP
チャネルトランジスタのゲートに接続し、GNDを第三
のPチャネルトランジスタのゲートに接続し、上記Nチ
ャネルトランジスタ及び上記第一、第二のPチャネルト
ランジスタのそれぞれのドレインと、上記第三のPチャ
ネルトランジスタのソースを共通接続し、該共通接続点
をワード線に接続し、上記Nチャネルトランジスタのソ
ースと上記第三のPチャネルトランジスタのドレイイン
をGNDに接続し、上記第一、第二のPチャネルトラン
ジスタのそれぞれのソースをVccに接続して、構成す
ることができる。
In the memory circuit according to the present invention, the word line control circuit connects the output of the inverter circuit which inputs the address decode signal for word line selection to the gate of the N-channel transistor, and generates a signal generated by a change in the address input signal.
The output of a two-man NAND circuit that receives a clock signal that is at a high level for a certain period of time and the address decode signal for word line selection is connected to the gate of the first P-channel transistor, and the output of the inverter circuit is connected to the gate of the first P-channel transistor. P of
connected to the gate of the channel transistor, GND connected to the gate of the third P-channel transistor, and connected to the drains of the N-channel transistor and the first and second P-channel transistors, and the third P-channel transistor. the sources of the N-channel transistors are connected in common, the common connection point is connected to a word line, the source of the N-channel transistor and the drain-in of the third P-channel transistor are connected to GND, and the first and second P-channel transistors can be configured by connecting their respective sources to Vcc.

本発明によるメモリ回路は、ビット線電位保持9− 回路が、ビット線選択用アドレスデコード信号線をゲー
トに接続した第四のPチャネルトランジスタのソースを
vCCに、ドレインをビット線に接続して、構成するこ
とができる。
In the memory circuit according to the present invention, the bit line potential holding circuit connects the source of the fourth P-channel transistor to vCC and the drain to the bit line, the gate of which is connected to the address decode signal line for bit line selection. Can be configured.

本発明では、上記ワード線とVcc (又、はGND)
の間に、書、き込み時にON(又は0FF)となシ、読
み出し時に0FF(又はON)となるトランジスタを設
けることができる。、 本発明の第一の実施例を第3図(a)、 (b)、 (
C)及び第4図を錠前して説明する。
In the present invention, the word line and Vcc (or GND)
In between, a transistor can be provided which is turned ON (or 0FF) during writing and turned 0FF (or ON) during reading. , The first embodiment of the present invention is shown in FIGS. 3(a), (b), (
C) and FIG. 4 will be explained with a lock.

まず、第3図(a)を診照して本実施例のメモリの全体
構成について第3図(a)は、第1図(a)のメモリセ
ルマトリックス部107をメモリセルマトリックス部3
01に置き換え、さらにワード線制御部302を追加し
た構成である。第3図(b)に示したワード線制御部3
02は、プリチャージ信号φpとその遅延回路31を介
した遅延信号を入力とするNAND ゲート32と、こ
のNAND ゲート蕊の出力φXとXデコーダ出力Xt
 を入力とするNANDゲート34と、NANDゲ−)
 34の出力と10− Xデコーダ出力Xiのインバータ33を介した反転信号
とによって制御されるPチャンネルトランジスタQ、。
First, referring to FIG. 3(a), the overall structure of the memory of this embodiment is explained. FIG. 3(a) shows the memory cell matrix section 107 of FIG.
01 and further includes a word line control unit 302. Word line control section 3 shown in FIG. 3(b)
02 is a NAND gate 32 which receives the precharge signal φp and its delayed signal via the delay circuit 31, and the output φX of this NAND gate and the X decoder output Xt.
NAND gate 34 whose input is
P-channel transistor Q, controlled by the output of 34 and the inverted signal via inverter 33 of the 10-X decoder output Xi.

1.Q、。3、NチャンネルトランジスタQ、。1.Q
3゜、によって形成される電圧出力回路とによって構成
される。この回路302は選択ワード線信号Wlの電位
を、読み出し動作の完了後に、Vec電位から晟る所要
の中間電位に引き下げる役割を果す。この動作を実現す
る為に、プリチャージクロック信号φpの波相遅延信号
であるワード線制御信号φXを作る。該φXによって、
ワード線ドライブ用PチャネルトランジスタQ3゜、は
1. Q. 3. N-channel transistor Q. 1. Q
3°, and a voltage output circuit formed by. This circuit 302 serves to lower the potential of the selected word line signal Wl from the Vec potential to a required intermediate potential after the read operation is completed. In order to realize this operation, a word line control signal φX, which is a wave phase delay signal of the precharge clock signal φp, is generated. By the φX,
P-channel transistor Q3゜ for word line drive.

読み出し動作完了後、ONからOFFに切り換えられる
After the read operation is completed, it is switched from ON to OFF.

本実施例に於ては、予め見積もられた読み出し動作の光
子時刻に基づいて、前記ワード線制御信号φXが立ち下
る様に、遅延回路31の遅延時間が設定されるものとす
る。従って、読み出し動作完了後、ワード線信号Wiは
PチャネルトランジスタQ、。1.Q、。4 の電流能
力比で決まる電位に向かう。尚、非選択のワード線につ
いては、Xデコーダ出力XtがGND電位である為、前
記φXのタイミングと無関係にPチャネルトランジスタ
Qsor y QsosがOFF、Nチャネルトランジ
スタQ、。、がONとなシ、ワード線信号Wi もGN
D電位となる。即ち、非選択ワード線の状態は前記従来
例と同じである。
In this embodiment, it is assumed that the delay time of the delay circuit 31 is set so that the word line control signal φX falls based on the photon time of the read operation estimated in advance. Therefore, after the read operation is completed, the word line signal Wi is transferred to the P-channel transistor Q,. 1. Q. towards the potential determined by the current capacity ratio of 4. Note that for unselected word lines, since the X decoder output Xt is at the GND potential, the P channel transistor Qsor y Qsos is OFF and the N channel transistor Q is turned off, regardless of the timing of φX. , is ON, word line signal Wi is also GN
It becomes D potential. That is, the states of unselected word lines are the same as in the conventional example.

次に、第3図(C)を参照してメモリセルマトリックス
部301の動作について説明する。尚、動作波形は第4
図に示す通シである。第3図(C)は、第1図(C)に
示した上記従来例のメモリセルマトリックス部101に
ビット線電位保持回路303を付加した回路である。ま
ず、ビット線電位保持回路303について説明する。各
ビットにおいて、該回路303は、Yデ−タ出力YJ 
により開閉制御されるPチャネルトランジスタQ3゜6
.Q、。、/から構成される。従って、選択ビット線に
ついては、Yデコーダ出力YjがvCC電位である為1
上記PチヤネルトランジスタQ、。、、Q3゜、/ が
OFFとなる。即ち、選択ビット線の状態は上記第一の
実施例と同じである。一方、非選択ビット線については
、Yデコーダ出力YjがGND電位である為、上記Pチ
ャネルトランジスタQ、。3.Q、。、′はONとなる
。ここで、前述の選択ワード線の動作との関係を考える
。寸ず、選択ワード線信号WiがVcc電位まで立ち上
り、選択のワード線に接続するメモリセルの情報がビッ
ト線に現われ始め、ビット線ペアBL、BLの一方がV
cc電位からゆっくシと下がシ始める。やがて、 BL
、 BL間°の電位差は、センスアンプ110で増幅さ
れ。
Next, the operation of the memory cell matrix section 301 will be explained with reference to FIG. 3(C). In addition, the operating waveform is the 4th waveform.
This is the passage shown in the figure. FIG. 3(C) shows a circuit in which a bit line potential holding circuit 303 is added to the memory cell matrix section 101 of the conventional example shown in FIG. 1(C). First, the bit line potential holding circuit 303 will be explained. For each bit, the circuit 303 outputs Y data output YJ
P-channel transistor Q3゜6 whose opening and closing are controlled by
.. Q. , /. Therefore, for the selected bit line, since the Y decoder output Yj is at vCC potential, 1
The above P-channel transistor Q. ,,Q3゜,/ turns OFF. That is, the state of the selected bit line is the same as in the first embodiment. On the other hand, for the unselected bit line, since the Y decoder output Yj is at the GND potential, the P channel transistor Q. 3. Q. , ' are turned ON. Here, the relationship with the operation of the selected word line described above will be considered. Immediately, the selected word line signal Wi rises to the Vcc potential, information of the memory cell connected to the selected word line begins to appear on the bit line, and one of the bit line pair BL, BL becomes Vcc.
The voltage starts to decrease slowly from the cc potential. Eventually, BL
, BL is amplified by the sense amplifier 110.

読み出しデータとして、データ出力系へ伝達される。デ
ータ出力系へ読み出しデータが伝達された時刻、即ち読
み出しのほぼ完了した時刻に、上記ワード線制御信号φ
Xが立ち下シ、上記ワード線ドライブ用Pチャネルトラ
ンジスタQaolがOFFになり、上記ワード線信号W
iはPチャネルトランジスタQsoa e Qs。4で
決まる中間電位に向かう。
The read data is transmitted to the data output system. At the time when the read data is transmitted to the data output system, that is, when the read is almost completed, the word line control signal φ
When X falls, the word line drive P-channel transistor Qaol turns OFF, and the word line signal W
i is a P-channel transistor Qsoa e Qs. towards the intermediate potential determined by 4.

この中間電位は、書き込み動作に於て1選択のメモリセ
ル10′9のトランスファーゲー)Qlllが確実にO
Nになる範囲〒、できるだけ低い値に設計すれば良い。
This intermediate potential ensures that the transfer gate (Qlll) of the memory cell 10'9 selected in the write operation is turned on.
The range for N should be designed to be as low as possible.

例えば、Vcc’= 5 Vで前記中間電位13− が約3■になる様に、上記PチャネルトランジスタQs
os ’v Q1104のトランジスタサイズが決定さ
れる。
For example, the P channel transistor Qs is set so that the intermediate potential 13- becomes approximately 3.
The transistor size of os'v Q1104 is determined.

との様に1選択ワード線に接続したメモリセル109の
トランスファーゲートQ。、のゲート電位、即ち上記W
iの電位が中間電位に向かう為、該Q111の電流能力
が低下し、選択の′So“情報側ビット線(BL又はB
L)のレベル落ちの速度は小さくなるものの、上記トラ
ンスファーゲートQ、1m がONである為、上記11
0〃情報側ビツト線の電位はGND電位に向かって低下
し続ける。
Transfer gate Q of memory cell 109 connected to one selected word line as shown in FIG. , that is, the above W
Since the potential of i moves toward the intermediate potential, the current capability of Q111 decreases, and the selected 'So' information side bit line (BL or B
Although the speed of the level drop of L) becomes smaller, since the above transfer gate Q, 1m is ON, the above 11.
0 The potential of the information side bit line continues to decrease toward the GND potential.

一方、非選択の■0”情報側ビット線については、ビッ
ト線保持回路303が働く為、ビット線電位はほぼVc
c電位に保持され、 Vcc 4Q3゜。→ピット線→
Q1ml+Q11f−+GNDの経路でDC電流が流れ
る。該DC電流は、主にトランスファーゲートQ11m
 の電流能力で決まる。前述の様に該Q111の゛ゲー
ト信号であるワード線信号Wiが中間電位である為、該
Q11.の電流能力ばかなシ小さく抑えられる。例えば
、Vυ=S■かつW!=Sv の14− 場合、上記DC電流は1本当シ約120μAであるのに
対し、 Vcc = 5 V 75hツWi = 3 
V (7) 場合、上記DC電流は1本当り約60μA
である。従って。
On the other hand, for the unselected 0" information side bit line, the bit line holding circuit 303 operates, so the bit line potential is approximately Vc
Vcc 4Q3°. →Pit line→
A DC current flows through the path Q1ml+Q11f-+GND. The DC current mainly flows through the transfer gate Q11m.
Determined by current capacity. As mentioned above, since the word line signal Wi, which is the gate signal of Q111, is at the intermediate potential, Q11. The current capacity can be kept small. For example, Vυ=S■andW! = 14- of Sv, the above DC current is about 120 μA per line, while Vcc = 5 V 75h Wi = 3
V (7), the above DC current is about 60μA per one
It is. Therefore.

本実施例を2に×8ピッ)RAMに適用した場合。When this embodiment is applied to a 2×8 bits RAM.

ビット線総数は128列であるから全ての非選択ビット
線を流れる上記DC電流の総和は、約7.2mA (0
,06mAX 120 )であシ、従来の(0,12m
AX120=14.4mA) に比較してかなシ小さな
値である 一方、前述の様に選択のゝゝO“情報側ビット線はほぼ
GND電位まで低下し、次のアドレスサイクルでVcc
電位までプリチャージされる。この時、電源電流にピー
クが現れる。このピークの値は。
Since the total number of bit lines is 128 columns, the sum of the DC currents flowing through all unselected bit lines is approximately 7.2 mA (0
,06mAX 120), conventional (0,12m
AX120=14.4mA) On the other hand, as mentioned above, the selected ゝゝO'' information side bit line drops almost to the GND potential, and in the next address cycle it drops to Vcc.
Precharged to potential. At this time, a peak appears in the power supply current. What is the value of this peak?

選択のビット線の本数に依存するが、上記従来例に比べ
てかなシ小さい事は明らかである。なぜなら、上記従来
例に於ては、選択が非選択の全ての110〃情報側ビツ
ト線がほぼGND電位まで低下し、その全てを次のアド
レスサイクルでVcc 電位までプリチャージしていた
からである。例えば、本実施例を2に×8ピッ)RAM
に適用した場合、上記ピーク値は2 Q mA以下であ
る。 ・。
Although it depends on the number of selected bit lines, it is clear that it is much smaller than the conventional example. This is because, in the above conventional example, all the selected and unselected 110 information side bit lines drop to approximately the GND potential, and all of them are precharged to the Vcc potential in the next address cycle. For example, if this embodiment is set to 2 x 8 pins) RAM
When applied to , the peak value is less than or equal to 2 Q mA.・.

又、本実施例に於て書き込み動作を行なった場合1、メ
モリセル109の111 “側部点の書き込み後電位は
(Wi)電位) −(VTN )、 S′0“側部点の
書き込み後電位はGND電位であシ、ワード線信号Wi
の電位が低過ぎない限シ、十分に書き込みは行なろれる
。但し、 VTNはNチャネルトランジスタの閾値電圧
である。特に、本実施例ではメモリセル109が0MO
8構成である為、1“側部点の電位はメモリセル109
のPチャネルトランジスタQ1□ によシ、書き込み後
数士1秒後にはVcc電位まで引き上げられる。尚、動
作波形は第4図に示す通シである。
In addition, when a write operation is performed in this embodiment, the potential after writing at the 111" side point of the memory cell 109 is (Wi) potential) - (VTN), S'0" after writing the side point. The potential is GND potential, and the word line signal Wi
Writing can be performed satisfactorily as long as the potential is not too low. However, VTN is the threshold voltage of an N-channel transistor. In particular, in this embodiment, the memory cell 109 has 0 MO
8 configuration, the potential of the 1" side point is the memory cell 109.
The P-channel transistor Q1□ is pulled up to the Vcc potential several seconds after writing. Note that the operating waveforms are as shown in FIG.

以上の様に5本実施例は上記従来例とほぼ同等の動作マ
ージン、平均電源電流を確保しながら、電源ピーク電流
を十分小さく抑えたメモリ回路を実現している。
As described above, the fifth embodiment realizes a memory circuit in which the power supply peak current is kept sufficiently small while ensuring the operating margin and average power supply current that are almost the same as those of the conventional example.

次に5本発明の他の実施例を説明する。Next, five other embodiments of the present invention will be described.

本実施例は、上記第一の実施例に於けるワード線制御部
302を第5図(a)に示すワード線制御部501に置
き換え、又、前記第一の実施例に於けるメモリセル10
9を第5図(b)に示すメモリセル502に置き換えた
メモリ回路である。本実施例のワード線制御部501は
、前記従来例のワード線制御部302にライトイネーブ
ルバッファ信号部′をゲートに接続したPチャネルトラ
ンジスタQ、。1 をワード線とVccの間に付加した
回路である。又、本実施例のメモリセル502は、抵抗
501とNチャネルトランジスタQlll + Qt’
ttから構成されるNMO8メモリセルテアル。
In this embodiment, the word line control unit 302 in the first embodiment is replaced with a word line control unit 501 shown in FIG. 5(a), and the memory cell 10 in the first embodiment is
This is a memory circuit in which 9 is replaced with a memory cell 502 shown in FIG. 5(b). The word line control section 501 of this embodiment is a P-channel transistor Q whose gate is connected to the write enable buffer signal section' in the word line control section 302 of the conventional example. 1 is added between the word line and Vcc. Furthermore, the memory cell 502 of this embodiment includes a resistor 501 and an N-channel transistor Qllll + Qt'
NMO8 memory cell terminal consisting of tt.

前述の様に、上記第一の実施例の書き込み動作に於てメ
モリセル109の1”側部点の電位は。
As mentioned above, in the write operation of the first embodiment, the potential at the 1'' side point of the memory cell 109 is as follows.

書き込み直後の(Wtの電位) −(VTN )から、
数十1秒後には、PチャネルトランジスタQ11.によ
p Vcc電位まで上昇する。ところが、メモリセルが
不実施例の様にNMOSメモリセル502の場合、抵抗
501は通常数ギガオームの高抵抗である為、1”側部
点電位が書き込み後Vcc電位まで上昇するには、数百
マイクロ秒と言う長い時間を要する。この様に、メモリ
セルのゝ′1〃側節点17− 電位が長い時間にわたって中間的電位にあると。
From (potential of Wt) - (VTN) immediately after writing,
After several tens of seconds, P channel transistor Q11. The voltage rises to pVcc potential. However, if the memory cell is an NMOS memory cell 502 as in the non-embodiment, the resistor 501 usually has a high resistance of several gigaohms, so it takes several hundreds of seconds for the 1" side point potential to rise to the Vcc potential after writing. It takes a long time of microseconds.In this way, if the potential of the node 17- on the ``'1'' side of the memory cell remains at an intermediate potential for a long time.

電気的雑音又はα線粒子によシ、メモリセル情報が破壊
される確率が高くなシ、実使用上の問題を起こし易くな
る。
There is a high probability that the memory cell information will be destroyed by electrical noise or α-ray particles, making it more likely to cause problems in actual use.

本実施例は、かかる欠点を除く為に、書き込み時の選択
ワード線の中間N1位を、読み出し時のそれよシも高く
したものである。ワード線制御部150】に示す、ライ
トイネーブルバッファ信号部′で開閉□制御されたPチ
ャネルトランジスタQ、。、によシ、書き込み時の選択
ワード線の中間電位は、読み出し時よシ高くなシ、書き
込み後のメモリセル502の情報破壊を防止している。
In this embodiment, in order to eliminate this drawback, the middle N1 position of the selected word line at the time of writing is made higher than that at the time of reading. A P-channel transistor Q whose opening/closing is controlled by a write enable buffer signal section' shown in word line control section 150]. In addition, the intermediate potential of the selected word line during writing is higher than that during reading, thereby preventing information destruction in the memory cell 502 after writing.

以上述べた様に、本発明は、選択ワード線電位を読み出
し動作光子後に中間電位に引き下げる事によって、動作
時電源電流、の平均値及びピーク値を十分小さくQ様な
メモリ回路を実現するものである。尚、前記各実施例は
、ビット線終端にプリチャージ・トランジスタQlll
y Q1□ を設けた場合の実施例であるが、ビット線
終端に抵抗性負荷を設けた場合も、本発明の主旨を満た
す、動作18− 時電源電流の平均値及びピーク値の十分小さなメモリ回
路を実現できる。
As described above, the present invention realizes a Q-like memory circuit in which the average and peak values of the operating power supply current are sufficiently reduced by lowering the selected word line potential to an intermediate potential after a read operation photon. be. In each of the above embodiments, a precharge transistor Qllll is provided at the end of the bit line.
Although this is an example in which Q1□ is provided, even if a resistive load is provided at the end of the bit line, it is possible to obtain a memory with sufficiently small average and peak values of power supply current during operation, which satisfies the spirit of the present invention. A circuit can be realized.

又、上記各実施例は、光合CMO8構成成るいは周辺回
路CMO8構成のメモリ回路に本発明を適用した例であ
るが、NMO8構成のメモリ回路、NM80− CMO
8混成のメモリ回路、成るいはバイポーラトランジスタ
構成のメモリ回路等に本発明を適用することも可能であ
る。その他、本発明の主旨を満たす種々の応用例が可能
であることは言うまでもない。
Further, each of the above embodiments is an example in which the present invention is applied to a memory circuit having an optical CMO8 configuration or a peripheral circuit CMO8 configuration.
It is also possible to apply the present invention to an 8-hybrid memory circuit or a memory circuit having a bipolar transistor configuration. It goes without saying that various other application examples that satisfy the gist of the present invention are possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)、 (b)、 (C)、 (d)、 (e
)、 (f)は、それぞれ従来例によるメモリを示すブ
ロック図、アドレス入力バッファ回路図、入力バッファ
回路図、クロック発生部回路図、メモリセルマトリック
ス部回路図、メモリセル部回路図である。第2図は同じ
〈従来例の読み出し自書き込み動作を示す信号波形図、
第3図(a)、 (b)、 (C)は、それぞれ本発明
の第一の実施例を示すプロ、り図、部分回路図、メモリ
セルマトリ、クス部回路図、第4図は本発明の第一の実
施例の読み出し@書き込み動作を示す信号波形図、第5
図(a)、 (b)は、それぞれ本発明の第二の実施例
を示す部分回路図、メモリセル部回路図である。 101.102・・・・・・入カハッファ、103・・
・・・・クロック発生部、104・・・・・・Xアドレ
スデコーダ、105・・・・・・Yアドレスデコーダ、
106・・・・・・DIN制御部、107・・・・・・
メモリセルマトリックス部。 108・・・・・・Dour 制御L 1.09・・・
・・・メモリセル、110・・・・・・センスアンプ。 301・・・・・・メモリセルマトリックス部、302
・・・・・・ワード線制御部、303・・・・・・ビッ
ト線電位保持回路。 501・・・・・・ワード線制御部、502・・・・・
・メモリセル。 斤゛−ダΔ力本へ <C) F、y 図 tf) 篤 / 画
Figure 1 (a), (b), (C), (d), (e
) and (f) are a block diagram, an address input buffer circuit diagram, an input buffer circuit diagram, a clock generation part circuit diagram, a memory cell matrix part circuit diagram, and a memory cell part circuit diagram, respectively, showing a memory according to a conventional example. Figure 2 is the same <signal waveform diagram showing the read/write operation of the conventional example,
3(a), 3(b), and 3(c) respectively show a program diagram, a partial circuit diagram, a memory cell matrix, and a box part circuit diagram, respectively, showing the first embodiment of the present invention. Signal waveform diagram showing the read @ write operation of the first embodiment of the invention, No. 5
Figures (a) and (b) are a partial circuit diagram and a memory cell circuit diagram, respectively, showing a second embodiment of the present invention. 101.102...Incoming Huffa, 103...
... Clock generation section, 104 ... X address decoder, 105 ... Y address decoder,
106...DIN control section, 107...
Memory cell matrix section. 108...Dour control L 1.09...
...Memory cell, 110...Sense amplifier. 301...Memory cell matrix section, 302
. . . Word line control section, 303 . . . Bit line potential holding circuit. 501... Word line control section, 502...
・Memory cell.斤゛-daΔ力本へ<C) F, y Figure tf) Atsushi / Drawing

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)選択されたワード線の電位を読み出し動作の完了
後に選択電圧からこれよりも低い所定の値に設定する機
能を有するワード線制御回路と。 非選択のビット線の電位を該ビット線のリセッ鼾時の値
に十分近い第二の値に保持するビット線電位保持回路と
を備えたことを特徴とするメモリ回路。
(1) A word line control circuit having a function of setting the potential of the selected word line to a predetermined value lower than the selected voltage after completion of a read operation. 1. A memory circuit comprising: a bit line potential holding circuit that holds the potential of an unselected bit line at a second value sufficiently close to the value at the time of reset snoring of the bit line.
(2)前記ワード線制御回路は、ワード線選択用アドレ
スデコード信号を入力とするインバータ回路の出力をN
チャ ネルトランジスタのゲートに入力し、アドレス入
力信号の変化に、よって発生する一定期間だけハイレベ
ルとなるクロック信号と、前記ワード線選択用アドレス
デコード信号を入力とする二人力NAND 回路の出力
を第一のPチャ゛・体°、ルトランジスタのゲートに印
加し、前記インバータ回路の出力を第二のPチャ°ネ 
ルトランジスタのゲートに印加し、第三のPチャネをト
ランジスタのゲートを基準電圧に接続し、前記Nチャネ
ルトランジスタ及び前記第一、第二のPチャネルトラン
ジスタのそれぞれのドレインと、前記第三のPチャネル
トランジスタのソースを共通接続し、該共通接続点をワ
ード線に接続し、前記Nチャネルトランジとする特許請
求の範囲第(1)項に記載のメモリ回路。
(2) The word line control circuit outputs the output of the inverter circuit which receives the word line selection address decode signal as input.
The output of the two-man NAND circuit is inputted to the gate of the channel transistor, and receives the clock signal that is at a high level for a certain period of time caused by changes in the address input signal, and the address decode signal for word line selection. One P-channel transistor is applied to the gate of the inverter circuit, and the output of the inverter circuit is applied to the second P-channel transistor.
a third P-channel transistor, and connects the gate of the third P-channel transistor to the reference voltage; 2. The memory circuit according to claim 1, wherein the sources of the channel transistors are commonly connected, and the common connection point is connected to a word line to form the N-channel transistor.
(3)前記ビット線電位保持回路が、ビット線選択用ア
ドレスデコード信号線をゲートに接続した第四のPチャ
ネルトランジスタのソースを電源、電圧に、ドレインを
ビット線に接続して、構成されることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項又は第(2)項に記載のメモリ回
路。
(3) The bit line potential holding circuit is configured by connecting the source of the fourth P-channel transistor to the power supply and voltage, and connecting the drain to the bit line, the gate of which is connected to the address decode signal line for bit line selection. A memory circuit according to claim (1) or (2), characterized in that:
(4)前記ワード線と電源との間に、書き込み時にON
(又は0FF)となシ、読み出し時にOFF’(又はO
N)となるトランジスタを設けたことを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項又は第(2)項又は第(3)項に
記載のメモリ回路。
(4) Between the word line and the power supply, turn ON during writing.
(or 0FF) and OFF' (or O when reading).
The memory circuit according to claim (1), (2), or (3), characterized in that a transistor is provided.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03122897A (en) * 1989-04-21 1991-05-24 Motorola Inc Memory with load arranged on distribution data line and method of arranging the load

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57105887A (en) * 1980-12-24 1982-07-01 Fujitsu Ltd Static type semiconductor storage device

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