JPS60143773U - 薄膜製造装置 - Google Patents

薄膜製造装置

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JPS60143773U
JPS60143773U JP3214684U JP3214684U JPS60143773U JP S60143773 U JPS60143773 U JP S60143773U JP 3214684 U JP3214684 U JP 3214684U JP 3214684 U JP3214684 U JP 3214684U JP S60143773 U JPS60143773 U JP S60143773U
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JP
Japan
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thin film
laser beam
film manufacturing
manufacturing equipment
film
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Pending
Application number
JP3214684U
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English (en)
Inventor
真司 前川
Original Assignee
シャープ株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案による一実施例を示す模式図、第２図は
同実施例のレーザ光強度分布図、第３図同実施例の要部
構成図、第４図は同実施例あレーザ光強度と結晶成長の
関係を示す図、第５図は従来の薄膜製造に供する基板構
造図、第６図は従来　　−のレニザアニール動作を説明
するための図、第７図ａ、　ｂは従来の改良型レーザア
ニールによる結晶成長を説明するための図である。 １：単結晶基板、３：非単結晶薄膜、６：レーザ光線、
９：薄膜試料、１０：ミラ、１１：透明基板、１之：反
射膜、１３：ハニフミラ膜。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 非単結晶薄膜にレーザ光を照射して再結晶化するための
    装置において、レーザ光の光路主にレーザ光を非単結晶
    薄膜に方向付けるミラを配置し、該ミラは、透明基板の
    前面に半透光性膜を形成し、後面に全反射膜を形成して
    なり、半透光性膜、、６，３　　　　　をレーザ光入射
    面として非対称な強度今布に変えて非単結晶薄膜に照射
    することを特徴とする薄膜製造装置。
JP3214684U 1984-03-05 1984-03-05 薄膜製造装置 Pending JPS60143773U (ja)

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JP3214684U JPS60143773U (ja) 1984-03-05 1984-03-05 薄膜製造装置

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JPS60143773U true JPS60143773U (ja) 1985-09-24

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ID=30533388

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