JPS60143643A - Energy analytical device - Google Patents

Energy analytical device

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Publication number
JPS60143643A
JPS60143643A JP58248440A JP24844083A JPS60143643A JP S60143643 A JPS60143643 A JP S60143643A JP 58248440 A JP58248440 A JP 58248440A JP 24844083 A JP24844083 A JP 24844083A JP S60143643 A JPS60143643 A JP S60143643A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
secondary electrons
sample
grid
emitted
Prior art date
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Pending
Application number
JP58248440A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akio Ito
昭夫 伊藤
Kazuo Okubo
大窪 和生
Yoshiaki Goto
後藤 善朗
Toshihiro Ishizuka
俊弘 石塚
Kazuyuki Ozaki
一幸 尾崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP58248440A priority Critical patent/JPS60143643A/en
Publication of JPS60143643A publication Critical patent/JPS60143643A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To realize an energy analytical device, by which secondary electrons emitted from a sample can be efficiently detected and the voltage of an internal wiring having been provided in the IC of the sample can be accurately measured, by a method wherein a voltage made to conform to a field-effect distribution is impressed on magnetic substance sleeves provided on the periphery of the electron beam path. CONSTITUTION:When an electron beam 6 is irradiated on the position of an internal wiring, which has been provided in the IC of a sample 5 and a measurement of the voltage of which is needed, secondary electrons 10 are emitted from the wiring position. At this time, the energy of the secondary electrons 10, which are emitted, has become a magnitude according to the value of voltage having been impressed on the internal wiring irradiated, and by detecting the secondary electron 10, which passed through a lead-out grid 7, a buffer grid 8 and an analytical grid 9, by a scintillator 11, the magnitude of voltage of the internal wiring in the IC of the sample 5 is found out. Here, a voltage is conformed to a field-effect distribution to change by a voltage, which is impressed on the scintillator 11, and when the optimum voltage is impressed on magnetic substance sleeves 1 by a movable voltage power source 4, the secondary electrons 10, which are emitted from the analytical grid 9, can be all detected by the scintillator 11.

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の技術分野 本発明は集積回路の配線電圧を測定するエネルギー分析
装置に係り、特に電子ビーム経路周囲に磁気遮蔽部材を
有するエネルギー分析装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Technical Field of the Invention The present invention relates to an energy analyzer for measuring wiring voltage of an integrated circuit, and more particularly to an energy analyzer having a magnetic shielding member around an electron beam path.

(2)発明の背景 近年、集積回路及び実装プリント板の回路密度が向上し
、集積回路内、実装プリント板内の配線も数ミクロンと
いう細かい幅となっている。このように細い配線を有す
る集積回路等に不良が発生し配線電圧を測定したい場合
、配線に直接金属プローブをあてて測定することは困難
である。そこで金属プローブのかわりに電子ビームを照
射し。
(2) Background of the Invention In recent years, the circuit density of integrated circuits and mounted printed boards has improved, and the wiring within integrated circuits and mounted printed boards has become as narrow as several microns. If a defect occurs in an integrated circuit or the like having such thin wiring and it is desired to measure the wiring voltage, it is difficult to directly apply a metal probe to the wiring. Therefore, instead of using a metal probe, we irradiated it with an electron beam.

その時放出する2次電子を検出することにより試料の配
線電圧を測定するエネルギー分析装置が注目されている
An energy analyzer that measures the wiring voltage of a sample by detecting secondary electrons emitted at that time is attracting attention.

(3)従来技術と問題点 従来のエネルギー分析装置を用いた電圧測定は電子銃か
ら電子ビームを試料の配線電圧を測定したい位置に照射
する。電子ビームが照射された試料の配線位置からは配
線電圧の大きさにより決るエネルギーを有する2次電子
を放出し、この2次電子はグリッド等により加速され2
次電子検出器で検出される。この検出された2次電子の
エネルギーの大きさは測定しようとする配線電圧の大き
さに応じた量だけ変化する。従ってこの2次電子検出器
で検出した2次電子のエネルギーの大きさの変化量から
試料の配線電圧を知ることができる。
(3) Prior art and problems In voltage measurement using a conventional energy analyzer, an electron beam is irradiated from an electron gun onto a position on a sample where the wiring voltage is to be measured. Secondary electrons with energy determined by the magnitude of the wiring voltage are emitted from the wiring position of the sample irradiated with the electron beam, and these secondary electrons are accelerated by a grid etc.
Detected by secondary electron detector. The magnitude of the energy of the detected secondary electrons changes by an amount corresponding to the magnitude of the wiring voltage to be measured. Therefore, the wiring voltage of the sample can be determined from the amount of change in the energy of the secondary electrons detected by the secondary electron detector.

但しこの装置の場合、試料に照射する電子ビーム、 が
外部の浮遊磁界に影響されることを防止するため電子ビ
ーム径路の周辺にシールド円筒を設げている。
However, in the case of this device, a shield cylinder is provided around the electron beam path to prevent the electron beam irradiated onto the sample from being influenced by external stray magnetic fields.

しかし、このシールド円筒には電圧が印加されていない
ため、エネルギー分析装置内の電界分布はシールド円筒
付近でOVとなる。この為高電圧が印加されている2次
電子検出器に向かう2次電子の中でその径路上にシール
ド円筒が位置しているものは2次電子検出器に到達でき
ない。従って試料から放出した2次電子の全てを2次電
子検出器が検出することができず、2次電子の検出効率
を低下させる。この為試料の配線電圧を正確に測定する
ことができず、エネルギー分析性能が低下する欠点を有
する。
However, since no voltage is applied to this shield cylinder, the electric field distribution within the energy analyzer becomes OV near the shield cylinder. For this reason, among the secondary electrons heading toward the secondary electron detector to which a high voltage is applied, those with a shield cylinder located on their path cannot reach the secondary electron detector. Therefore, the secondary electron detector cannot detect all the secondary electrons emitted from the sample, reducing the secondary electron detection efficiency. For this reason, it is impossible to accurately measure the wiring voltage of the sample, which has the drawback of lowering energy analysis performance.

(4)発明の目的 本発明は、上述の従来の欠点に鑑み、電界分布上にシー
ルド円筒が位置する電界と同一の電位をシールド円筒に
印加することにより、2次電子検出器が試料より放出し
た2次電子を効率よく検出し試料の配線電圧を正確に測
定することができるエネルギー分析装置を提供すること
を目的とする。
(4) Purpose of the Invention In view of the above-mentioned drawbacks of the conventional art, the present invention provides that by applying to the shield cylinder the same potential as the electric field in which the shield cylinder is located on the electric field distribution, the secondary electron detector can emit radiation from the sample. An object of the present invention is to provide an energy analyzer that can efficiently detect secondary electrons and accurately measure the wiring voltage of a sample.

(5)発明の構成 上記目的は本発明によれば、電子ビーム径路の周囲に磁
気遮蔽部材を設け、試料に電子ビームを照射して放出さ
れる2次電子を検出し、該試料上の配線電圧を測定する
エネルギー分析装置において、前記磁気遮蔽部材に電圧
を印加したことを特徴とするエネルギー分析装置を提供
することによって達成される。
(5) Structure of the Invention According to the present invention, the above object is to provide a magnetic shielding member around an electron beam path, detect secondary electrons emitted by irradiating a sample with an electron beam, This is achieved by providing an energy analysis device that measures voltage, characterized in that a voltage is applied to the magnetic shielding member.

(6)発明の実施例 以下1本発明の実施例を添付図面に従って詳述する。(6) Examples of the invention Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

第1図は本発明によるエネルギー分析装置の構成図であ
る。
FIG. 1 is a block diagram of an energy analyzer according to the present invention.

同図において円筒形状の磁性体スリーブ1は対物レンズ
2の下部にスペーサ3を介して取りイ」けられ、電圧可
変電源4からの印加電圧により一定値の直流電圧が与え
られている。磁性体スリーブ1は外部の浮遊磁界が試料
5を露光する電子ビーム6の方向に影響を与えることを
防止するためのものであり、対物レンズ2は電子ビーム
6を試料5の目的の回路に集束して照射するためのもの
である。
In the figure, a cylindrical magnetic sleeve 1 is placed below an objective lens 2 via a spacer 3, and is given a constant DC voltage by a voltage applied from a variable voltage power source 4. The magnetic sleeve 1 is used to prevent external stray magnetic fields from affecting the direction of the electron beam 6 that exposes the sample 5, and the objective lens 2 focuses the electron beam 6 onto the target circuit of the sample 5. It is used for irradiation.

試料5から一定間隔を離して3重のグリッドが同心円状
に設けられている。内側のグリッドは引出しグリッド7
であり、真中のグリッドはバッファグリッド8であり、
外側のグリッドは分析グリ・7ド9である。引出しグリ
ッド7は試料5に電子ビーム6が照射された時放出する
2次電子10のエネルギーが小さい(数eV〜10数e
V)為。
Three grids are provided concentrically at a constant distance from the sample 5. The inner grid is drawer grid 7
and the middle grid is buffer grid 8,
The outer grid is analysis grid 7 grid 9. The extraction grid 7 has a small energy of secondary electrons 10 emitted when the sample 5 is irradiated with the electron beam 6 (several eV to several tens of eV).
V) For.

2次電子10を引出しグリッド7の外側に引出す為のグ
リッドであり、1kV程度の電圧が印加されている。バ
ッファグリッド8は引出しグリッド7に高電圧が印加さ
れている為、この高電圧が電子ビーム装置内の他の装置
に影響を与えることがあり、この影響を防止するため7
0V程度の電圧が印加されている。分析グリッド9は2
次電子10の持つエネルギーの大きさにより分析グリッ
ド9の外側に放出する2次電子を制御するグリッドで1
通常OV〜5■の電圧が印加されている。
This is a grid for extracting the secondary electrons 10 to the outside of the extraction grid 7, and a voltage of about 1 kV is applied thereto. Since a high voltage is applied to the buffer grid 8 and the extraction grid 7, this high voltage may affect other devices in the electron beam device.
A voltage of about 0V is applied. Analysis grid 9 is 2
A grid that controls secondary electrons emitted to the outside of the analysis grid 9 depending on the energy of the secondary electrons 10.
Usually a voltage of OV to 5cm is applied.

放出された2次電子10を検出するシンチレー5− タ11の一端にばライトバイブ12が設けられ。A scintillator 5- detecting the emitted secondary electrons 10 A light vibrator 12 is provided at one end of the motor 11.

シンチレータ11.ライトパイプ う様にカバー13が設けられている。シンチレータ11
は2次電子10を検出すると,検出した2次電子10の
大きさによってライトパイプ12側に光を出射するもの
であり,2次電子10のエネルギーが小さい為電源14
により印加される10KVの高電圧によりエネルギー分
析装置内に電界分布を作り2次電子10を吸引している
。またライトパイプ12に入射した光は光電子増倍管(
図示せず)により電気信号に変換される。 以上の様な
構成のエネルギー分析装置において,試料5が集積回路
(以下ICで示す)でそのICの内部配線電圧を測定す
る場合の例を以下で説明する。
Scintillator 11. A cover 13 is provided over the light pipe. scintillator 11
When detecting secondary electrons 10, it emits light to the light pipe 12 side depending on the size of the detected secondary electrons 10, and since the energy of the secondary electrons 10 is small, the power source 14
A high voltage of 10 KV is applied to create an electric field distribution within the energy analyzer to attract secondary electrons 10. In addition, the light incident on the light pipe 12 is transmitted through a photomultiplier tube (
(not shown) into an electrical signal. In the energy analyzer configured as above, an example will be described below in which the sample 5 is an integrated circuit (hereinafter referred to as IC) and the internal wiring voltage of the IC is measured.

電圧測定を必要とするIC内の内部配線位置に電子ビー
ム6を照射すると,その配線位置から2次電子10を放
出する。この時放出される2次電子のエネルギーは照射
された内部配線に印加されている電圧値に応じた大きさ
になっていて,印加電圧が大きい程2次電子10のエネ
ルギーは小さ6− くなる。放出された2次電子が引出しグリフ1゛7゜バ
ッファグリッド8を通過して分析グリッド9でエネルギ
ーの大きさにより外部に放出されるかどうかがきまる。
When an electron beam 6 is irradiated onto an internal wiring position within an IC that requires voltage measurement, secondary electrons 10 are emitted from the wiring position. The energy of the secondary electrons emitted at this time depends on the voltage value applied to the irradiated internal wiring, and the higher the applied voltage, the lower the energy of the secondary electrons 10 becomes. . The emitted secondary electrons pass through the extraction glyph 1, 7, buffer grid 8, and are sent to the analysis grid 9. Whether or not the emitted secondary electrons are emitted to the outside is determined by the amount of energy.

第2図は分析グリッド9に印加されている分析グリッド
電圧に対する分析グリッド9から外部に放出される2次
電子放出量の関係を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the amount of secondary electrons emitted to the outside from the analysis grid 9 and the analysis grid voltage applied to the analysis grid 9.

曲線■ば試料5の配線電圧が5■の時を示し1曲線■は
試料5の配線電圧がOVの時を示す。同図に示されるよ
うに同じ分析グリッド電圧を与えても配線電圧の違いに
よって分析グリッド9外へ放出される2次電子量が異な
る。従ってこの分析グリッド9を通過した2次電子10
をシンチレータ11で検出することにより試料5のIC
内部配線電圧の大きさがわかる。
Curve 1 shows when the wiring voltage of sample 5 is 5■, and curve 1 shows when the wiring voltage of sample 5 is OV. As shown in the figure, even if the same analysis grid voltage is applied, the amount of secondary electrons emitted to the outside of the analysis grid 9 differs depending on the wiring voltage. Therefore, the secondary electrons 10 that passed through this analysis grid 9
The IC of sample 5 is detected by the scintillator 11.
The magnitude of the internal wiring voltage can be seen.

ここで分析グリッド9の外側の電界分布を等電位線で第
3図、第4図に示す。
Here, the electric field distribution outside the analysis grid 9 is shown by equipotential lines in FIGS. 3 and 4.

第3図はシンチレータ11にIOK’Vが印加され、磁
性体スリーブ1には電圧が印加されていない場合、即ち
従来の電界分布図である。
FIG. 3 shows a conventional electric field distribution diagram when IOK'V is applied to the scintillator 11 and no voltage is applied to the magnetic sleeve 1.

第4図はシンチレータ11にl0KVが印加され、磁性
体スリーブ1に5■が印加されている場合の電界分布図
である。15は試料5の電子ビーム照射位置であり、A
部、B部、0部は各々2次電子10が分析グリッド9外
へ放出する一部分を示す。
FIG. 4 is an electric field distribution diagram when 10 KV is applied to the scintillator 11 and 5 KV is applied to the magnetic sleeve 1. 15 is the electron beam irradiation position of sample 5, and A
Section, B section, and 0 section each indicate a portion where the secondary electrons 10 are emitted to the outside of the analysis grid 9.

電子は電界に対して直角に入射する性質を有する為1分
析グリッド9のA部〜C部の各々から放出した2次電子
10は磁性体スリーブ1に電圧が印加されていない場合
第3図に示す方向に進む。
Since electrons have the property of being incident at right angles to the electric field, the secondary electrons 10 emitted from each of sections A to C of the analysis grid 9 are as shown in FIG. 3 when no voltage is applied to the magnetic sleeve 1. Proceed in the direction shown.

従ってB部、0部から放出した2次電子1oはシンチレ
ータ11で正確に検出することができない。
Therefore, the secondary electrons 1o emitted from the B section and the 0 section cannot be accurately detected by the scintillator 11.

ところが本発明のように磁性体スリーブ1に5Vの電圧
を印加すると1分析グリッド9のA部〜C部の各々から
放出した殆どの2次電子1oは第4図に示すようにシン
チレータ11の方向へ進む。
However, when a voltage of 5V is applied to the magnetic sleeve 1 as in the present invention, most of the secondary electrons 1o emitted from each of sections A to C of the analysis grid 9 are directed toward the scintillator 11 as shown in FIG. Proceed to.

勿論分析グリッド9のA部〜C部以外の部分から放出し
た2次電子10も確実にシンチレータ11に入射する。
Of course, the secondary electrons 10 emitted from portions other than portions A to C of the analysis grid 9 also reliably enter the scintillator 11.

従って分析グリッド9がら放出する全ての2次電子10
をシンチレータ11は検出することができる。シンチレ
ータ11で正確に検出された2次電子の信号はライトパ
イプ12.光電子増幅倍管を介して試料5であるICの
内部配線電圧を正確に示すことができる。
Therefore, all the secondary electrons 10 emitted from the analysis grid 9
The scintillator 11 can detect. The secondary electron signal accurately detected by the scintillator 11 is sent to the light pipe 12. The internal wiring voltage of the IC, which is the sample 5, can be accurately indicated through the photoelectron amplification tube.

以上のように本発明は従来行なわれていなかった。磁性
体スリーブ1に電圧を印加することにより、2次電子1
0が通過する分析グリッド9とシンチレータ11の間の
電界分布を変え、ri実にシンチレータ11に分析グリ
ッド9を通過した2次電子10の全てをシンチレータ1
1に入射させるものである。このことにより試料5の正
確な電圧値を得ることができる。
As described above, the present invention has not been practiced before. By applying a voltage to the magnetic sleeve 1, secondary electrons 1
By changing the electric field distribution between the analysis grid 9 and the scintillator 11 through which 0 passes, all of the secondary electrons 10 that have passed through the analysis grid 9 are transferred to the scintillator 11.
1. This makes it possible to obtain an accurate voltage value for the sample 5.

本発明は以上の実施例に限るわけではなく、磁性体スリ
ーブ1に印加する電圧は5vに限らずシンチレータ11
に印加される電圧によって変化する電界分布に合せて可
変電圧電源4によって最適の電圧を磁性体スリーブ1に
印加して実施するものとする。
The present invention is not limited to the above embodiments, and the voltage applied to the magnetic sleeve 1 is not limited to 5V, but the voltage applied to the scintillator 11 is
The optimum voltage is applied to the magnetic sleeve 1 by the variable voltage power supply 4 in accordance with the electric field distribution that changes depending on the voltage applied to the magnetic sleeve 1.

(7)発明の効果 以上詳細に説明したように本発明によれば、磁9− 性体スリーブに電界分布に合せた電圧を印加することに
より、試料から放出される全ての2次電子を2次電子検
出器が効率よく検出することができ試料の配線電圧を正
確に測定することができる。
(7) Effects of the Invention As explained in detail above, according to the present invention, by applying a voltage matching the electric field distribution to the magnetic sleeve, all secondary electrons emitted from the sample can be The secondary electron detector can detect efficiently and accurately measure the wiring voltage of the sample.

また効率よい2次電子の検出が行なえることにより、電
界分布を作るためのシンチレータに印加される電圧を従
来の装置より低い電圧でも2次電子を検出することがで
きる。
Furthermore, since secondary electrons can be detected efficiently, secondary electrons can be detected even when the voltage applied to the scintillator for creating an electric field distribution is lower than that of conventional devices.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のエネルギー分析装置の構成図。 第2図は分析グリッドの特性図、第3図は磁性体スリー
ブが零電位の時の電界分布図、第4図は磁性体スリーブ
に5Vを印加した時の電界分布図である。 1・・・磁性体スリーブ 2・・ ・対物レンズ 3・・・スペーサ 4・・・可変電圧電源 5・・ ・試料 6・・・電子ビーム 7・・・引出しグリッド 8・・・ バッファグリッド 9・・・分析グ ー 10− リッド 1o・・・2次電子 11・・・シンチレータ 12・ ・・ライトパイプ 13・・・カ バー 14・・・電源 15・・・電子ビーム照射位置 11− Ii−駅驕り番差2
FIG. 1 is a configuration diagram of an energy analyzer according to the present invention. FIG. 2 is a characteristic diagram of the analysis grid, FIG. 3 is an electric field distribution diagram when the magnetic sleeve has zero potential, and FIG. 4 is an electric field distribution diagram when 5V is applied to the magnetic sleeve. 1... Magnetic sleeve 2... Objective lens 3... Spacer 4... Variable voltage power supply 5... Sample 6... Electron beam 7... Extraction grid 8... Buffer grid 9. ...Analysis goo 10- Lid 1o...Secondary electron 11...Scintillator 12...Light pipe 13...Cover 14...Power source 15...Electron beam irradiation position 11-Ii-Station arrogance number Difference 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 電子ビーム経路の周囲に磁気遮蔽部材を設け。 試料に電子ビームを照射して放出される2次電子を検出
し、該試料上の配線電圧を測定するエネルギー分析装置
において、前記磁気遮蔽部材に電圧を印加したことを特
徴とするエネルギー分析装置。
[Claims] A magnetic shielding member is provided around the electron beam path. An energy analysis device for detecting secondary electrons emitted by irradiating a sample with an electron beam and measuring a wiring voltage on the sample, characterized in that a voltage is applied to the magnetic shielding member.
JP58248440A 1983-12-29 1983-12-29 Energy analytical device Pending JPS60143643A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58248440A JPS60143643A (en) 1983-12-29 1983-12-29 Energy analytical device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58248440A JPS60143643A (en) 1983-12-29 1983-12-29 Energy analytical device

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