JPS60143349A - Photosensitive body - Google Patents

Photosensitive body

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Publication number
JPS60143349A
JPS60143349A JP24950383A JP24950383A JPS60143349A JP S60143349 A JPS60143349 A JP S60143349A JP 24950383 A JP24950383 A JP 24950383A JP 24950383 A JP24950383 A JP 24950383A JP S60143349 A JPS60143349 A JP S60143349A
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JP
Japan
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phase
carrier
ctl
group
substituted
Prior art date
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Pending
Application number
JP24950383A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Takei
武居 良明
Yoshihide Fujimaki
藤巻 義英
Hiroyuki Nomori
野守 弘之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP24950383A priority Critical patent/JPS60143349A/en
Publication of JPS60143349A publication Critical patent/JPS60143349A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0622Heterocyclic compounds
    • G03G5/0624Heterocyclic compounds containing one hetero ring
    • G03G5/0627Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered
    • G03G5/0629Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered containing one hetero atom

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To improve sensitivity of a photosensitive body and its stability against UV rays by incorporating a specified carbazole deriv. and an org. polymer semiconductor having condensed aromatic rings or hetero rings on the side chains in a carrier transfer phase. CONSTITUTION:A photosensitive layer 4 is composed of a carrier generating phase 2, and a carrier transfer phase (CTL)3 contg. an org. polymer semiconductor having condensed aromatic or hetero rings on the side chains, and a carbazole deriv. represented by the formula in which R<1> is aryl; R<2> is H, halogen, alkyl, alkoxy, amino, or the like; and R<3> is aryl or heterocyclic. optionally substd. aryl. Here, the phase means a so-called layer and also the phase in which each constituent material is in contact with each other. Since said org. polymer semiconductor is used together with said carbazole deriv. as a carrier transfer material, light sensitization is effectively executed, a discharge curve has a sharply cut toe, especially, sensitivity in a low electric field is enhanced, and a fog-free good image can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 1、 従来技術 本発明は、キャリア発生相とキャリア輸送層とからなる
感光層を有する感光体、例えば電子写真感光体に関する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 1. Prior Art The present invention relates to a photoreceptor, such as an electrophotographic photoreceptor, having a photosensitive layer comprising a carrier generation phase and a carrier transport layer.

λ 従来技術 従来から知られている電子写真感光体によれば、可視光
を吸収して荷電キャリア(以下、単に「キャリア」とい
う。)を発生するキャリア発生物質(以下−1”CGM
Jということがある。)を含有して成るキャリア発生層
(以下、「cGLJということがある。)と、このCG
Lにおいて発生した正又は負のキャリアの倒れか一方又
は両方を輸送するキャリア輸送物質(以下、[CTMJ
ということがある。)を含有して成るキャリア輸送層(
以下、「CTLJということがある。)とを組合せるこ
と忙より感光層を構成せしめている。 このように、キ
ャリアの発生と、その輸送という必要な2つの基礎的機
能を、感光層を構成する別個の層に夫々分担せしめるこ
とにより、感光層の構成に用い得る物質の選択範囲が広
範となる上、各機能を最適に果す物質又は物質系を独立
に選定することが可能となる。 又、これKより、電子
写真プロセスにおいて要求される緒特性、例えば帯電せ
しめたときの表面電位が高く、電荷保持能が大きく、光
感度が高く、しかも反復使用における安定性が大きい等
の優れた特性を有する電子写真感光体を得ることが可能
となる。
λ Prior Art According to a conventionally known electrophotographic photoreceptor, a carrier-generating substance (hereinafter referred to as -1"CGM) that absorbs visible light and generates charge carriers (hereinafter simply referred to as "carriers") is used.
There is a thing called J. ) (hereinafter sometimes referred to as "cGLJ") and this CG
Carrier transport material (hereinafter referred to as [CTMJ
That's what happens. ).
Hereinafter, it is sometimes referred to as "CTLJ".) The photosensitive layer is composed of the two basic functions of carrier generation and carrier transport. By assigning these functions to separate layers, the selection range of materials that can be used to construct the photosensitive layer is widened, and it is also possible to independently select materials or material systems that optimally perform each function. , this K has excellent characteristics required in the electrophotographic process, such as high surface potential when charged, high charge retention capacity, high photosensitivity, and high stability during repeated use. It becomes possible to obtain an electrophotographic photoreceptor having the following properties.

上記のような感光層を構成するCTMの種類としては、
例えばスチリルカルバゾール誘導体(特願昭56−35
069号)が提案されている。 このカルバゾール誘導
体は種々の長所を有しているが、なお改善されるべき問
題を含んでいることが分った。 即ち、カルバゾール誘
導体を単独でCTMとして使用する場合、放電曲線の裾
切れが不充分であり、低電界領域での感度が低くなり易
いことに加え、紫外光に対する安定性が不足し、紫外光
照射によって感度が低下し易いので、複写機のメンテナ
ンス時に螢光灯や日光の下ではそれらの紫外光成分によ
って感光体が劣化し易いことである。
The types of CTM constituting the above photosensitive layer are as follows:
For example, styrylcarbazole derivatives (patent application 1986-35)
No. 069) has been proposed. Although this carbazole derivative has various advantages, it has been found that it still contains problems that need to be improved. That is, when a carbazole derivative is used alone as a CTM, the tail of the discharge curve is insufficiently cut, and the sensitivity in the low electric field region tends to be low. Therefore, the photoreceptor is likely to deteriorate due to ultraviolet light components when the copying machine is maintained under fluorescent light or sunlight.

1 発明の目的 本発明の目的は、感光体の感度と紫外光安定性を向上さ
せることにある。
1. Object of the Invention An object of the present invention is to improve the sensitivity and ultraviolet light stability of a photoreceptor.

↓ 発明の構成及びその作用効果 即ち、本発明は、キャリア発生相とキャリア輸送相とか
らなる感光層を有する感光体において、下記一般式〔ム
〕で表わされるカルバゾール誘導体と、側鎖に縮合芳香
環又は複素環を有する高分子有機半導体とが前記キャリ
ア輸送相に含有されていることな特徴とする感光体に係
るものである。
↓ The structure of the invention and its effects, that is, the present invention provides a photoreceptor having a photoreceptor layer consisting of a carrier generation phase and a carrier transport phase, in which a carbazole derivative represented by the following general formula [M] and a condensed aromatic compound in the side chain are used. The present invention relates to a photoreceptor characterized in that the carrier transport phase contains a polymeric organic semiconductor having a ring or a heterocycle.

一般式〔ム〕: 亀 1 (但、R1は置換若しくは非置換のアリール基を表わし
、 R2は水素原子、ハロゲン原子、置 換若しくは非置換のアルキル基、 アルコキシ基、アミン基、置換 アミノ基又は水酸基を表わし、 R3は置換若しくは非置換の了り一 ル基又は置換若しくは非置換の 複素環基を表わす。) ここで、上記の「相」とはいわゆる層をなしている場合
の他、各構成物質が互いに接し合うフェイズをなしてい
る場合も包含する。
General formula [M]: Tortoise 1 (However, R1 represents a substituted or unsubstituted aryl group, and R2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an alkoxy group, an amine group, a substituted amino group, or a hydroxyl group. (R3 represents a substituted or unsubstituted monocyclic group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group.) Here, the above "phase" refers to each structure in addition to the case where it forms a so-called layer. It also includes cases where substances are in a phase where they come into contact with each other.

本発明によれば、CTMとして、上記カルバゾール誘導
体と共に上記高分子有機半導体を使用しているので、こ
の高分子有機半導体が紫外光吸収によって光キャリアを
生成する性質を有していて、光増感に効果的に寄与する
。 このため、放電曲線の裾切れが良くなり、特に低電
界領域での感度が向上する。 この結果、導電性又は絶
縁性−成像を得ることができる。 −成分現像プロセス
においてバイアス電圧を印加すると、いわゆるフリンジ
現象によつ【画像端部の鮮明度が低下し、滲みを生じる
が、本発明によればそうした問題はなくなる。
According to the present invention, since the above-mentioned polymeric organic semiconductor is used together with the above-mentioned carbazole derivative as CTM, this polymeric organic semiconductor has the property of generating photocarriers by absorbing ultraviolet light, and is capable of photosensitizing. contribute effectively to Therefore, the tail of the discharge curve becomes more sharp, and the sensitivity improves, especially in the low electric field region. As a result, conductive or insulating imaging can be obtained. - When a bias voltage is applied during the component development process, the sharpness of the edge of the image decreases and blur occurs due to the so-called fringe phenomenon, but according to the present invention, such problems are eliminated.

また、上記高分子有機半導体は紫外光領域の吸光度が高
くて大部分の紫外光を吸収し、紫外光に対して一種のフ
ィルター効果を有するので、カルバゾール誘導体の劣化
を防止する作用があり、CTLの紫外光安定性を向上さ
せることができる。
In addition, the polymeric organic semiconductor has a high absorbance in the ultraviolet light region and absorbs most of the ultraviolet light, and has a kind of filter effect on ultraviolet light, so it has the effect of preventing the deterioration of carbazole derivatives, and CTL UV light stability can be improved.

なお、本発明忙おいて、後述の電子受容性物質又はルイ
ス酸をCTL及びCGLの少なくとも一方に添加すれば
、電荷移動錯体を形成するため、増感効果をより向上さ
せることができる。
In addition, during the present invention, if an electron-accepting substance or a Lewis acid, which will be described later, is added to at least one of CTL and CGL, a charge transfer complex is formed, so that the sensitizing effect can be further improved.

5、実施例 以下、本発明を実施例について更に詳細に説明する。5. Examples Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

まず、本発明におい’−(CTMとして使用する一般式
CA)のスチリルカルバゾール誘導体を例示すると、例
えば次の構造式を有するものを添げることかできるが、
これらに限定されるものではない。
First, to illustrate the styrylcarbazole derivatives of '-(general formula CA) used as CTM in the present invention, for example, those having the following structural formula may be added.
It is not limited to these.

(A−9) OCH3 ci− H,CCli。(A-9) OCH3 ci- H, CCli.

(A−20) CA−23) (A−24) (A−25) (A−26) CH3 (A−28) OCR。(A-20) CA-23) (A-24) (A-25) (A-26) CH3 (A-28) OCR.

(A−29) (A−30) (A−31) OCR。(A-29) (A-30) (A-31) OCR.

また、本発明においてCTMとして、上記のカルバゾー
ル誘導体と併用して使用する上記高分子有機半導体とし
ては、例えば次に例示するものを挙げることができるが
、これらに限定されるものではない。
In addition, examples of the polymeric organic semiconductor used in combination with the carbazole derivative as CTM in the present invention include, but are not limited to, those exemplified below.

(B−4) (−CH−CH,−)− (B−5) (−cH−cu、−)− (n−s) CH2 (JI。(B-4) (-CH-CH,-)- (B-5) (-cH-cu, -)- (ns) CH2 (JI.

(B−13) (B−14) 02H。(B-13) (B-14) 02H.

(B−16) (B−17) (n−is) (B−19) (B−20) 本発明のCTL K用いられる高分子有機半導体のうち
ポリーN−ビニルカルノ(ゾール又はその誘導体が効果
が大であり、好ましく用いられる。
(B-16) (B-17) (n-is) (B-19) (B-20) Among the polymeric organic semiconductors used in the CTL K of the present invention, poly-N-vinylcarno(sol or its derivatives) is effective. It is large and is preferably used.

かかるポリ−N−ビニルカルバゾール誘導体とは、その
繰り返し単位における全部又は一部のカル/(ゾール環
が種々の置換基、例えばアルキル基、ニトロ基、アミノ
基、ヒドロキシ基又は/10ゲン原子によって置換され
たものである。
Such poly-N-vinylcarbazole derivatives are those in which all or part of the cal/(sol ring in the repeating unit is substituted with various substituents, such as an alkyl group, a nitro group, an amino group, a hydroxy group, or a /10 gene atom). It is what was done.

また、本発明において一〇GMとしては可視光を吸収し
てフリーキャリアを発生するものであれば、無機顔料及
び有機色素の何れをも用いることができる。 無定形セ
レン、三方晶系セレン、セレン−砒素合金、セレン−テ
ルル合金、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セ
レン化カドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機
顔料の他、次の代表例で示されるような有機色素を用い
てもよい。
Further, in the present invention, any inorganic pigment or organic pigment can be used as 10GM as long as it absorbs visible light and generates free carriers. In addition to inorganic pigments such as amorphous selenium, trigonal selenium, selenium-arsenic alloy, selenium-tellurium alloy, cadmium sulfide, cadmium selenide, cadmium selenide sulfide, mercury sulfide, lead oxide, lead sulfide, the following representative examples Organic dyes such as those shown in may also be used.

T1) モノアゾ色素、ポリアゾ色素〜金属錯塩アゾ色
素、ピラゾロンアゾ色素〜スチルベン了ソ色素及びチ了
ゾール了ゾ色素等のアゾ系色素(2) ヘlJレン酸無
水物及びペリレン酸イミド等のペリレン系色素 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
−ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体−
ビオラントロン誘導体及びインビオラントロン誘導体等
のアントラキノン系乃至多項キノン系色素 (4) インジゴ誘導体及びチオインジゴ訪導体等のイ
ン・クゴイト+不角壷 (5) 金属の7タロシアニン及び無金属フタロンアニ
ン等の7タロシアニン系色素 (61ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素
、キサンチン色素及びアクリジン色素等のカルボニウム
系色素 (7)アジン色素、オキサジン色素及びチアジン色素等
のキノンイミン系色素 (8) シアニン色素及びアゾメチン色素等のメチン系
色素 (9) キノリン系色素 員 ニトロ系色素 I ニトロソ系色素 (6)ベンゾキノン及びナフトキノン系色素(2) ナ
フタルイミド系色素 ■ ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノン系色素 (2)キナクリドン系色素 次に、図面によって本発明を具体的に説明する。
T1) Azo dyes such as monoazo dyes, polyazo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, stilbene dyes, and tyrosol dyes. (2) Perylene dyes such as helical anhydride and perylenic acid imide. Pigment (3) Anthraquinone derivative, anthorone derivative - dibenzpyrenequinone derivative, pyrantrone derivative -
Anthraquinone to polyquinone dyes such as violanthrone derivatives and inviolanthrone derivatives (4) In-kugoite + non-containing dyes such as indigo derivatives and thioindigo visiting conductors (5) Heptalocyanine-based pigments such as metallic heptalocyanine and metal-free phthalocyanine Dyes (61) Carbonium dyes such as diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthine dyes and acridine dyes (7) Quinoneimine dyes such as azine dyes, oxazine dyes and thiazine dyes (8) Methine dyes such as cyanine dyes and azomethine dyes (9) Quinoline dye member Nitro dye I Nitroso dye (6) Benzoquinone and naphthoquinone dye (2) Naphthalimide dye■ Perinone dye such as bisbenzimidazole derivatives (2) Quinacridone dye Next, according to the drawing The present invention will be specifically explained.

本発明の感光体は例えば第1図に示すように構成される
。 即ち、導電性支持体1上に既述したCGMを主成分
として含有するCGL2を形成せしめ、このキャリア発
生層2上に前述のビシゾリン化合物及び高分子有機半導
体を主成分として含有するCTL3を積層し、CGL2
とCTL3とで感光層4を構成する。
The photoreceptor of the present invention is constructed as shown in FIG. 1, for example. That is, CGL 2 containing the above-mentioned CGM as a main component is formed on the conductive support 1, and CTL 3 containing the above-mentioned bicizoline compound and polymeric organic semiconductor as main components is laminated on this carrier generation layer 2. , CGL2
and CTL3 constitute a photosensitive layer 4.

ここで、導電性支持体1の材質としては、例えばアルミ
ニウム、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウム、銀、インジ
ウム、錫、白金、金、ステンレス鋼、真鍮等の金属のシ
ートを用いることができるが、これらに限定されるもの
ではなく、例えば第2図に示すように絶縁性基体IA上
に導電層IBを設けて導電性支持体1を構成せしめるこ
ともできる。 この場合におい【、基体IAとしては紙
、プラスチックシート等の可撓性を有し、しかも曲げ、
引張り等の応力に対しても十分な強度を有するものが適
当である。 又、導電層IBは、金属シートをラミネー
トし或いは金属を真空蒸着せしめることにより、又はそ
の他の方法によって設けることができる。
Here, as the material of the conductive support 1, for example, a sheet of metal such as aluminum, nickel, copper, zinc, palladium, silver, indium, tin, platinum, gold, stainless steel, brass, etc. can be used. The present invention is not limited to these, and for example, as shown in FIG. 2, a conductive layer IB may be provided on an insulating substrate IA to constitute the conductive support 1. In this case, the base IA is flexible such as paper or plastic sheet, and
It is appropriate that the material has sufficient strength against stress such as tension. The conductive layer IB can also be provided by laminating metal sheets, vacuum depositing metals, or by other methods.

CGL2は、上述の00M単独により、又はこれに適当
なバインダー樹脂を加えたものにより、或いは更に特定
乃至非特定の極性のキャリアに対する移動度の大きい物
質(即ちキャリア輸送物質)を添加したものKより形成
することができる。
CGL2 is made by the above-mentioned 00M alone, by adding an appropriate binder resin to it, or by adding a substance with high mobility for carriers of specific or non-specific polarity (i.e., a carrier transporting substance) from K. can be formed.

具体的な形成法としては、前記支持体上にCGMを真空
蒸着せしめる方法、CGMを適当な溶剤に単独で若しく
は適当なバインダー樹脂と共に溶解若しくは分散せしめ
たものを塗布して乾燥せしめる方法を挙げることができ
る。
Specific forming methods include a method in which CGM is vacuum-deposited on the support, and a method in which CGM is dissolved or dispersed in a suitable solvent alone or together with a suitable binder resin and then applied and dried. Can be done.

この後者の方法においては、バインダー樹脂若しくはキ
ャリア輸送物質を添加してもよく、その場合における、
キャリア発生物質:バインダー樹脂:キャリア輸送物質
の割合は、重量比で1:(O〜1oo):(o〜500
)、特に1:(0〜10):(0〜50)であることが
好ましい。
In this latter method, binder resins or carrier transport substances may be added, in which case
The ratio of carrier generating substance: binder resin: carrier transporting substance is 1:(O~1oo):(o~500) by weight.
), particularly preferably 1:(0-10):(0-50).

上記方法で使用する溶媒或いは分散媒としては、例えば
n−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン
ーベンズロバノールアミン、モノエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、トリエチレンジアミン、NlN−
ジ、′チルホルムアミド、アセトン−メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメ
タン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、
エタノール、イソプロパツール、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、ジメチルスルホキシド、その他を用いることができ
る。
Examples of the solvent or dispersion medium used in the above method include n-butylamine, diethylamine, ethylenediamine-benzlovanolamine, monoethanolamine, triethanolamine, triethylenediamine, NlN-
Di,'thylformamide, acetone-methyl ethyl ketone, cyclohexanone, benzene, toluene, xylene, chloroform, 1,2-dichloroethane, dichloromethane, tetrahydrofuran, dioxane, methanol,
Ethanol, isopropanol, ethyl acetate, butyl acetate, dimethyl sulfoxide, and others can be used.

また、バインダー樹脂としては、例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化
ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキ
ッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラ
ミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型
樹脂、並びKこれらの樹脂の繰り返し単位のうちの2つ
以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、ポリ−N−ビニ
ルカルバゾール等の高分子有機半導体を挙げることがで
きる。 そして、このバインダー樹脂のCGMに対する
割合は、0〜100重量%、特KO〜10重量−の範囲
である。
Further, as the binder resin, for example, polyethylene,
Addition polymer resins and polyaddition resins such as polypropylene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin, silicone resin, melamine resin, etc. , polycondensation type resins, and copolymer resins containing two or more of the repeating units of these resins, such as vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymers In addition to insulating resins such as resins, polymeric organic semiconductors such as poly-N-vinylcarbazole can be used. The ratio of this binder resin to CGM is in the range of 0 to 100% by weight, and 0 to 10% by weight.

前記CGL2には、必要に応じて適宜のCTMを添加し
てもよい。
An appropriate CTM may be added to the CGL2 as necessary.

更K、このCGLKは感度の向上、残留電位乃至反復使
用時の疲労低減等を目的として、一種又は二種以上の電
子受容性物質を含有せしめることができる。
Furthermore, this CGLK can contain one or more electron-accepting substances for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential, or reducing fatigue during repeated use.

ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水7タル酸。
Examples of electron-accepting substances that can be used here include succinic anhydride, maleic anhydride, dibromaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride,
Tetrabromo 7-talic anhydride.

3−ニトロ無水フタル酸、4−ニトロ無水フタル酸、無
水ピロメリット酸−無水メリット酸、テトラシアノエチ
レン、テトラシアノキノジメタン、o −ジニトロベン
ゼン、m−ジニトロベンゼン、1.3.5−トリニトロ
ンベンゼン、パラニトロベンゾニトリル、ピクリルクロ
ライド、キノンクロルイミド、クロラニル、フルマニル
、ジクロロジシアノバラベンゾキノン、アントラキノン
、ジニトロアントラキノン、2.7−ジニトc2フルオ
レノン、2,4.7−)リニトロフルオレノン、2.4
,5.7−テトラニトロフルオレノン、9−フルオレニ
リデン〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、ポリニ
トロ−9−フルオレニリデンー〔ジシアノメチレンマロ
ノジニトリル〕、ピクリン酸、0−ニトロ安息香酸、p
−ニトロ安息香酸、3.5−ジニトロ安息香酸、ペンタ
フルオロ安息香酸、5−ニトロサリチル酸、3.5−ジ
ニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸へその他の電
子親和力の大きい化合物を挙げることができる。 また
、電子受容性物質の添加割合は、重量比でCGM:電子
受容性物質=too:o、ot〜200好ましくは10
0:・0.1〜100である。
3-nitro-phthalic anhydride, 4-nitro-phthalic anhydride, pyromellitic anhydride-mellitic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, 1.3.5-trinitrone Benzene, paranitrobenzonitrile, picryl chloride, quinone chlorimide, chloranil, flumanil, dichlorodicyanobarabenzoquinone, anthraquinone, dinitroanthraquinone, 2,7-dinito c2 fluorenone, 2,4.7-)linitrofluorenone, 2. 4
, 5.7-tetranitrofluorenone, 9-fluorenylidene [dicyanomethylene malonodinitrile], polynitro-9-fluorenylidene [dicyanomethylene malonodinitrile], picric acid, 0-nitrobenzoic acid, p
-Nitrobenzoic acid, 3.5-dinitrobenzoic acid, pentafluorobenzoic acid, 5-nitrosalicylic acid, 3.5-dinitrosalicylic acid, phthalic acid, and other compounds with high electron affinity to mellitic acid can be mentioned. Further, the addition ratio of the electron-accepting substance is CGM:electron-accepting substance=too:o, ot to 200, preferably 10
0:・0.1-100.

以上のよう和して形成される前記CGL2の厚さは、好
ましくはo、o o s〜20μm、特に好ましくは0
.05〜5μmである。 0.005μm未満では充分
な光感度が得られず、また20μmを越えると充分な電
荷保持性が得られない。
The thickness of the CGL 2 formed by adding the above is preferably o, o o s to 20 μm, particularly preferably 0
.. 05-5 μm. If it is less than 0.005 μm, sufficient photosensitivity cannot be obtained, and if it exceeds 20 μm, sufficient charge retention cannot be obtained.

また、前記CTL3は、既述の化合物を、上述のCGL
2と同様にし−C(即ち、単独で或は上述のバインダー
樹脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾燥して形
成することができる。 そして、他のCTM を含有せ
しめてもよい。
In addition, the above-mentioned CTL3 can be used to convert the above-mentioned compound into the above-mentioned CGL.
Similarly to 2, it can be formed by applying and drying CTM (that is, dissolved and dispersed alone or together with the above-mentioned binder resin).Other CTMs may also be contained.

この場合、バインダー樹脂と全CTMとの配合割合は、
バインダー樹脂100重量部当り全CTMを10〜50
0重量部とするのが好ましく、バインダー樹脂としてポ
リカーボネートを用いる場合はその100重量部当り2
0〜200重量部の全CTMを用いると、優れた電子写
真特性が得られるので好ましい。
In this case, the blending ratio of binder resin and total CTM is
10-50 total CTM per 100 parts by weight of binder resin
It is preferably 0 parts by weight, and when using polycarbonate as the binder resin, 2 parts by weight per 100 parts by weight of polycarbonate.
It is preferred to use 0 to 200 parts by weight of total CTM as this provides excellent electrophotographic properties.

更に、とのC’TLKは感度の向上、残留電位乃至反復
使用時の疲労を更に低減する目的で前述した電子受容性
物質を添加することもできる。 この電子受容性物質を
CGL及びCTMの両層に加える場合、各層に加える電
子受容性物質は全く同一あるいは一部同一であってもよ
く、場合によっては全く別であってもかまわない。 な
お、電子受容性物質は、CGL、CTLのいずれか一方
に添加してもよい。
Furthermore, the above-mentioned electron-accepting substance can be added to C'TLK for the purpose of improving sensitivity and further reducing residual potential or fatigue during repeated use. When this electron-accepting substance is added to both the CGL and CTM layers, the electron-accepting substances added to each layer may be completely or partially the same, or may be completely different depending on the case. Note that the electron-accepting substance may be added to either CGL or CTL.

CTLへの電子受容性物質の添加割合は重量比で全CT
M :電子受容性物質= too : 0.01〜10
0好ましくは100:0.1〜50である。
The addition ratio of electron-accepting substances to CTL is the total CT in terms of weight ratio.
M: electron-accepting substance = too: 0.01-10
0 preferably 100:0.1-50.

このようにして形成されるCTL3の厚さは2〜100
μm好ましくは5〜30μmである。
The thickness of CTL3 formed in this way is 2 to 100
μm Preferably 5 to 30 μm.

以上、本発明を第1図又は第2図に示した具体的構成例
に従って説明したが、本発明においては、CGLと組み
合わせられるCTLとして既述の構成成分を含有せしめ
ればそれで充分であり、電子写真感光体として機械的構
成は任意に選定できる。
The present invention has been described above according to the specific configuration example shown in FIG. 1 or FIG. 2, but in the present invention, it is sufficient to contain the above-mentioned components as a CTL to be combined with a CGL. The mechanical structure of the electrophotographic photoreceptor can be arbitrarily selected.

例えば、第3図に示すように、導電性支持体1上に適当
な中間層5を設け、これを介してCGL2を形成し、そ
の上KCTL3を形成してもよい。
For example, as shown in FIG. 3, a suitable intermediate layer 5 may be provided on the conductive support 1, the CGL 2 may be formed thereon, and the KCTL 3 may be formed thereon.

この中間層5には、感光層4の帯電時において導電性支
持体1から感光層4にフリーキャリアが注入されること
を阻止する機能、並びに感光層4を導電性支持体に対し
て一体的に接着せしめる接着層としての機能を有せしめ
ることができる。 かかる中間層5の材質とし【は、酸
化アルミニウム、酸化インジウム等の金属酸化物、アク
リル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂−エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ヅエノール
樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂−塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体樹脂等の高分子物質を用いるこ
とができる。
This intermediate layer 5 has a function of preventing free carriers from being injected from the conductive support 1 into the photosensitive layer 4 when the photosensitive layer 4 is charged, and also has the function of preventing the photosensitive layer 4 from being injected into the photosensitive layer 4 integrally with the conductive support. It can have a function as an adhesive layer for adhering to. The materials of the intermediate layer 5 include metal oxides such as aluminum oxide and indium oxide, acrylic resins, methacrylic resins, vinyl chloride resins, vinyl acetate resins-epoxy resins, polyurethane resins, duenol resins, polyester resins, alkyd resins, Polycarbonate resin, silicone resin, melamine resin-vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate-
A polymeric material such as a maleic anhydride copolymer resin can be used.

又、第4図に示すように、導電性支持体1上K。Further, as shown in FIG. 4, the conductive support 1 is covered with K.

前記中間層5を介して又は介さずに、CTL3を形成し
てその上にCGL2を形成して感光層4を構成せしめて
もよい。
The photosensitive layer 4 may be constructed by forming the CTL 3 with or without the intermediate layer 5 and forming the CGL 2 thereon.

また、第5図は、上記のCGMを上記CTMが含有され
たキャリア輸送相中に分散せ、しめてなる(即ち、キャ
リア発生物質相とキャリア輸送物質相との混合層からな
る)単層の感光層4を形成した例を示す。
Further, FIG. 5 shows a photosensitive single layer formed by dispersing the above CGM in a carrier transporting phase containing the above CTM (that is, consisting of a mixed layer of a carrier generating material phase and a carrier transporting material phase). An example in which layer 4 is formed is shown.

以下、本発明を具体的な実施例について更に詳細に説明
する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples.

実施例1 アルミニウムを蒸着した厚さ100μmのポリエチレン
テレフタレートより成る導電性支持体上K、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体[エスレツクM
F−10J(積水化学工業株製)より成る厚さ約0,1
μmの中間層を設け、2〜3X10= Torrの真空
雰囲気中にて蒸発源温度350℃Nn59300) を
前記中間層上に蒸着して厚さ約0.5μmのCGLを形
成した。
Example 1 On a conductive support made of polyethylene terephthalate with a thickness of 100 μm on which aluminum was vapor-deposited, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer [Eslec M
Made of F-10J (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) with a thickness of approximately 0.1
A CGL with a thickness of about 0.5 μm was formed by depositing an evaporation source temperature of 350° C. (Nn59300) on the intermediate layer in a vacuum atmosphere of 2 to 3×10 Torr.

一方、次の手順によりCTL形成用塗布液を調製した。On the other hand, a coating solution for CTL formation was prepared according to the following procedure.

 高分子有機半導体として上述の(B−6)で示される
ポリ−N−ビニルカルバゾール「ルビカンM170J(
BASF社製)59をモノクロルベンゼン50属に溶解
した。 次に、カルバソール誌導体(A−14)6.9
とポリカーボネート樹脂「パンライトL−1250J(
余人化成社製)3.5gとを1,2−ジクロルエタン4
0m1に溶解し、得られた溶液を前記モノクロルベンゼ
ン溶液に加えて充分混合し、調製を完了した。
Poly-N-vinylcarbazole "Rubican M170J" shown in (B-6) above as a polymeric organic semiconductor
(manufactured by BASF) was dissolved in monochlorobenzene 50. Next, Carbasol magazine conductor (A-14) 6.9
and polycarbonate resin “Panlite L-1250J (
(Manufactured by Yojin Kasei Co., Ltd.) 3.5 g and 1,2-dichloroethane 4
The resulting solution was added to the monochlorobenzene solution and thoroughly mixed to complete the preparation.

得られた溶液を前記CGL上にドクターブレードを用い
て塗布し、80 ’Cで1時間乾燥させて、厚さ13μ
mのCTLを形成し、以って本発明の電子写真感光体(
試料Nn1)を作成した。
The resulting solution was applied onto the CGL using a doctor blade and dried at 80'C for 1 hour to a thickness of 13μ.
m CTL is formed, and thus the electrophotographic photoreceptor of the present invention (
Sample Nn1) was created.

実施例2 実施例IKおけるCTL形成用塗布液の調!!に際し、
カルバゾール誘導体として例示化合物(A−14)の代
わりに例示化合物(A−24)を用い、更に電子受容性
物質として2,4.7−1Jニトロ−9−フルオレノン
0.05.ji+を加えた他は実施例1と同様にして、
厚さ約0.5μm 17) CG L及び厚さ13μm
のCTLを形成して本発明の電子写真感光体(試料hn
2)を作成した。
Example 2 Preparation of coating liquid for CTL formation in Example IK! ! On this occasion,
Exemplified compound (A-24) was used instead of exemplary compound (A-14) as a carbazole derivative, and 2,4.7-1J nitro-9-fluorenone 0.05. Same as Example 1 except that ji+ was added,
Thickness approximately 0.5μm 17) CG L and thickness 13μm
The electrophotographic photoreceptor of the present invention (sample hn
2) was created.

実施例3 ポリカーボネート樹脂2Iとテトラブロム無水フタル酸
0.2gとを1.2−ジクロルエタン100m1Jに溶
解させた溶液に、4.10−ジブロムアントアントロン
4I!を加えて超音波分散を行ない、この分散液を実施
例1と同じ中間層を有する導電性支持体上に塗布し、厚
さ1μm (F) CG Lを形成した。
Example 3 4.10-dibromoanthanthrone 4I! was added and subjected to ultrasonic dispersion, and this dispersion was applied onto a conductive support having the same intermediate layer as in Example 1 to form a (F) CG L having a thickness of 1 μm.

一方、次の方法によりCTL形成用塗布液な調製シた。On the other hand, a coating solution for CTL formation was prepared by the following method.

 ポリ−N−ビニルカルバゾール5I!i+ヲモノクロ
ルベンゼン50ゴに溶解した。 次に、カルバゾール誘
導体(A−3)6.9とピクリルクロライド0.02 
!!とポリカーボネート樹脂3.5gとを1.2−ジク
ロルエタン40mに溶解し、得られた溶液を前記モノク
ロルベンゼン溶液に加えて充分混合し、調製を完了した
Poly-N-vinylcarbazole 5I! i+wo was dissolved in 50 g of monochlorobenzene. Next, carbazole derivative (A-3) 6.9 and picryl chloride 0.02
! ! and 3.5 g of polycarbonate resin were dissolved in 40 m of 1,2-dichloroethane, and the resulting solution was added to the monochlorobenzene solution and thoroughly mixed to complete the preparation.

得られた溶液を前記CGL上にドクターブレードを用い
て塗布し、80℃で1時間乾燥させて、厚さ13μmの
CTLを形成し、以って本発明の電子写真感光体(試料
阻3)を作成した。
The obtained solution was applied onto the CGL using a doctor blade and dried at 80°C for 1 hour to form a CTL with a thickness of 13 μm, thereby forming an electrophotographic photoreceptor of the present invention (sample plate 3). It was created.

11亘工 実施例2における多環キノン系色素の代わりにペリレン
系色素であるN、N−ジメチルペリレン−3,4,9,
10−テトラカルボン酸ジ・fミド(バリオゲンマルー
ン3920 C,1,阻71130)を用いた他は実施
例2と同様圧して、厚さ約0.5μmのCGL及び厚さ
13μmのCTLを形成して本発明の電子写真感光体(
試料阻4)を作成した。
11 In place of the polycyclic quinone dye in Example 2, perylene dye N,N-dimethylperylene-3,4,9,
A CGL with a thickness of about 0.5 μm and a CTL with a thickness of 13 μm were formed by pressing in the same manner as in Example 2 except that 10-tetracarboxylic acid di-fmide (Variogen Maroon 3920 C, 1, 71130) was used. The electrophotographic photoreceptor of the present invention (
Sample sample 4) was prepared.

実施例5 アルミニウムを蒸着した厚さ100μmのポリエチレン
テレフタレートより成る導電性支持体上に、2〜3 X
 10””Torrの真空雰囲気中にて蒸発源温度30
0℃で1分間セレンを蒸着し、厚さ1μmの無定形セレ
ンより成るキャリア発生層を形成した。
Example 5 2 to 3
Evaporation source temperature 30 in a vacuum atmosphere of 10"" Torr
Selenium was vapor-deposited at 0° C. for 1 minute to form a carrier generation layer made of amorphous selenium with a thickness of 1 μm.

次に一高分子有機半導体としてPVK−(B−6)に代
えて(B−10)を用いた他は実施例2で用いたのと同
じCTL形成溶液を塗布し、40℃で24時間真空乾燥
させて厚さ13μmのCTLを形成し一本発明の電子写
真感光体(試料陽5)を作成した。
Next, the same CTL forming solution as used in Example 2 was applied, except that PVK-(B-10) was used instead of PVK-(B-6) as a monopolymer organic semiconductor, and vacuum was applied at 40°C for 24 hours. It was dried to form a CTL with a thickness of 13 μm, and an electrophotographic photoreceptor of the present invention (Sample No. 5) was prepared.

比較例1 カルバゾール誘導体(A−14)15.!i+とポリカ
ーボネート樹す旨15I9とを1.2−ジクロルエタン
1 o o ml K溶解し高分子有機半導体を含まな
いCTL形成溶液を作成した。 この溶液を実施例1と
同じCGL上に塗布し、厚さ12μmのCTLを形成し
、以って比較用の電子写真感光体(比較試料阻1)を作
成した。
Comparative Example 1 Carbazole derivative (A-14) 15. ! A CTL forming solution containing no polymeric organic semiconductor was prepared by dissolving i+ and polycarbonate resin 15I9 in 100 ml K of 1,2-dichloroethane. This solution was applied onto the same CGL as in Example 1 to form a CTL with a thickness of 12 μm, thereby producing a comparative electrophotographic photoreceptor (comparative sample 1).

迎」日1L ポリ−N−ビニルカルバゾール10.9をモノクロルベ
ンセン100mI!に溶解させた溶液と、ポリカーボネ
ート樹脂1.59を1.2−ジクロルエタン10rR1
1C溶解させた溶液を混合して前記一般式で示されるカ
ルバゾール誘導体を含まないCTL形成溶液を作成した
。 この溶液を実施例1と同じCGL上に塗布し、厚さ
13μmのCTLを形成し、比較用の電子写真感光体(
比較試料阻2)を作成した。
1L poly-N-vinylcarbazole 10.9 to monochlorobenzene 100mI! and a solution of polycarbonate resin 1.59 in 1.2-dichloroethane 10rR1.
A CTL-forming solution containing no carbazole derivative represented by the above general formula was prepared by mixing the solution containing 1C. This solution was applied onto the same CGL as in Example 1 to form a CTL with a thickness of 13 μm, and a comparative electrophotographic photoreceptor (
A comparative sample 2) was prepared.

比較例3 比較例1に於げるCTL形成溶液の調整に際し−TfL
K2,4.7− トIJニトロー9−フルオレノン0、
3 IIを加えた他は比較例1と同様にして、厚さ12
μm f) CT I、を形成し、比較用の電子写真感
光体(比較試料阻3)を作成した。
Comparative Example 3 In preparing the CTL forming solution in Comparative Example 1 -TfL
K2,4.7-ToIJ Nitro9-Fluorenone 0,
3 II was added, but in the same manner as in Comparative Example 1, the thickness was 12
μm f) CT I, and a comparative electrophotographic photoreceptor (comparative sample No. 3) was prepared.

比較例4 高分子有機半導体として次の構造式で表わされる化合物
を用いた他は実施例2と同様にして、厚さ13μm(D
CTLを形成し、比較用の電子写真感光体(比較試料阻
4)を作成した。
Comparative Example 4 A material with a thickness of 13 μm (D
A CTL was formed, and a comparative electrophotographic photoreceptor (comparative sample No. 4) was prepared.

以上の実施例及び比較例で得られた、試料1ml〜陽5
及び比較試料M1〜陽4をエレクトロメータ5P−42
8型(■川口電機製作所!lりに装着し、帯電器の放電
極に対する印加電圧を一6KVとして5秒間帯電像作を
行ない、この帯電操作直後に於ける感光層表面の表面電
位なVO1表面電位を−500(V)から−50(V)
まで減衰せしめるのに必要な露光量を”480(lz*
 sec )及び30(Jg−sec)露光後の残留電
位をVR(V)とし、これらを測定した。
Samples 1 ml to positive 5 obtained in the above Examples and Comparative Examples
and comparative samples M1 to 4 using an electrometer 5P-42.
8 type (Kawaguchi Electric Manufacturing Co., Ltd.), a charged image was created for 5 seconds with the voltage applied to the discharge electrode of the charger set to 16 KV, and the surface potential of the photosensitive layer surface immediately after this charging operation was determined by the VO1 surface. Change the potential from -500 (V) to -50 (V)
The amount of exposure necessary to attenuate up to 480 (lz*
sec ) and the residual potential after 30 (Jg-sec) exposure were defined as VR (V) and measured.

次に、紫外光に対する安定性を調べる為K、各試料に超
高圧水銀灯[8HL−100UvJ(東芝株製)を用い
、光源−試料間距離5cI11で60秒間紫外光を照射
し、その後再び上述と同様の測定を行たりた。
Next, in order to examine the stability against ultraviolet light, each sample was irradiated with ultraviolet light for 60 seconds using an ultra-high-pressure mercury lamp [8HL-100UvJ (manufactured by Toshiba Corporation) at a distance between the light source and the sample of 5cI11, and then the above-mentioned procedure was repeated. Similar measurements were made.

結果は、下記表に示す通りである。The results are shown in the table below.

上記表中、下段()内は紫外光照射後の特性を示す。In the table above, the numbers in parentheses at the bottom indicate the characteristics after irradiation with ultraviolet light.

この結果から明らかなように、本発明の感光体は、光感
度が良好で、しかも紫外光に対し著しく優れた安定性を
示すことが分る。
As is clear from the results, the photoreceptor of the present invention has good photosensitivity and exhibits extremely excellent stability against ultraviolet light.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面は本発明の実施例を示すものであって、第1図、第
2図、第3図、第4図、第5図は電子写真感光体の5例
の各断面図 である。 なお1図面に示された符号において、 1・・・・・・・・・・・・基板 2・・・・・・・・・・・・キャリア発生層(CGL)
3・・・・・・・・・・・・キャリア輸送層(CTL)
4・・・・・・・・・・・・感光層 である。 代理人 弁理士 逢 坂 宏(他1名)第2図 第31
The drawings show embodiments of the present invention, and FIGS. 1, 2, 3, 4, and 5 are sectional views of five examples of electrophotographic photoreceptors. In addition, in the reference numerals shown in 1 drawing, 1.........Substrate 2......Carrier generation layer (CGL)
3・・・・・・・・・Carrier transport layer (CTL)
4......It is a photosensitive layer. Agent: Patent attorney Hiroshi Aisaka (and 1 other person) Figure 2, Figure 31

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一1. キャリア発生相とキャリア輸送層とからなる感
光層を有する感光体において、下記一般式(A)で表わ
されるカルバゾール誘導体と、側鎖に縮合芳香環又は複
素環を有する高分子有機半導体とが前記キャリア輸送層
に含有されていることを特徴とする感光体。 一般式〔A〕: 1 (但、R1は置換若しくは非置換のアリール基を表わし
、 R2は水素原子、ハロゲン原子、置換 若しくは非置換のアルキル基、ア ルコキシ基−アミノ基、置換アミ ノ基又は水酸基を表わし、 R3は置換若しくは非置換のアリール 基又は置換若しくは非置換の複素 環基を表わす。)
[Claims] 11. In a photoreceptor having a photosensitive layer consisting of a carrier generation phase and a carrier transport layer, a carbazole derivative represented by the following general formula (A) and a polymeric organic semiconductor having a fused aromatic ring or a heterocycle in a side chain are used as the carrier. A photoreceptor characterized in that it is contained in a transport layer. General formula [A]: 1 (However, R1 represents a substituted or unsubstituted aryl group, and R2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an alkoxy group-amino group, a substituted amino group, or a hydroxyl group. (R3 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group.)
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