JPS60140641U - 荷電粒子照射装置 - Google Patents

荷電粒子照射装置

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JPS60140641U
JPS60140641U JP2879384U JP2879384U JPS60140641U JP S60140641 U JPS60140641 U JP S60140641U JP 2879384 U JP2879384 U JP 2879384U JP 2879384 U JP2879384 U JP 2879384U JP S60140641 U JPS60140641 U JP S60140641U
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JP
Japan
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oxygen concentration
charged particle
inert gas
irradiation device
particle irradiation
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JP2879384U
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寿男 木村
寺澤　隆裕
水澤　健一
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日新ハイボルテ−ジ株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はこの考案の一実施例の電子線照射装置の構成説
明図である。　− １・・・電子線照射装置、２・・・照射室、２ａ・・・
搬入口、２ｂ・・・搬出口、３・・・電子線照射器、５
・・・水冷管、６・・・窒素ガス源、７・・・流量制御
バルブ、８・・・流量計、９・・・混合器、１０山窒素
ガス吸入カバー、１１・・・吸入管、１２・・・ポンプ
、１３・・・熱交換　　。 器、１４・・・酸素濃度計、１５・・・コントローラー
。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 不活性ガスを充填した照射室内で荷電粒子照射を行う荷
    電粒子照射装置において、 照射室内のガスを回収し冷却して再び照射室内に供給す
    る冷却循環手段と、照射室内に不活性ガスを追加供給す
    る不活性ガス供給手段と、照射室内のガスの酸素濃度を
    検出する酸素濃度検出手段と、検出した酸素濃度が所定
    値以上なったときに前記不活性ガスの追加供給比率を上
    昇させる酸素濃度コントロール手段とを具備したことを
    特徴とする荷電粒子照射装置。
JP2879384U 1984-02-28 1984-02-28 荷電粒子照射装置 Granted JPS60140641U (ja)

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JPS60140641U true JPS60140641U (ja) 1985-09-18
JPS638424Y2 JPS638424Y2 (ja) 1988-03-14

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001026803A1 (fr) * 1999-10-12 2001-04-19 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Procede et appareil d'emission de rayonnements energetiques actifs
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JPS638424Y2 (ja) 1988-03-14

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