JPS60130535A - １，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタンの製法 - Google Patents
１，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタンの製法Info
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- JPS60130535A JPS60130535A JP23161483A JP23161483A JPS60130535A JP S60130535 A JPS60130535 A JP S60130535A JP 23161483 A JP23161483 A JP 23161483A JP 23161483 A JP23161483 A JP 23161483A JP S60130535 A JPS60130535 A JP S60130535A
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- difluoroethane
- difluoroethylene
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は１，１．２− ）ジクロロ−２，２−ジフルオ
ロエタンの新規製法に関する。
ロエタンの新規製法に関する。
化合物１，１．２−）ジクロロ−２，２−ジフルオロエ
タンは従来種々の方法で製造されている。これらの方法
にはＣＣｌＦ２ＣＨ３とＣＨＦ２ＣＨ３の熱塩素化法、
ＣＣｌＦ２ＣＣｌ ３ノイｙプロパツール（２−グロパ
ノール）による還元お工びＣＣｌ ３ＣＩＩｃｌ ２の
ぶつ化アンチモンによるふっ素化法がある。ＣＣ１３Ｃ
ＨＣｌ ２のふっ素ｆヒとＣＣｌＦ２ＣＣｌ ３の還元
を除いて１，１．２−トリクロロ−２，２，−ジフルオ
ロエタンは主生成物でなくその収率は一般にわるかった
。ＣＣ１３ＣＩｉＣ１２のふっ素化は腐蝕性ＨＦ？［−
含みまた危険なアンチモン含有廃水？生ずるのでこの反
応はｉ、 ｉ、 ２−トリクロロ−２，２−ジフルオロ
エタンの製法として問題がある。ｃｃｔｐ２ｃｃｔ３の
還元は、ＣＣ１Ｆ２ＣＣｔ３が単に、過塩素されている
１、１．２−）ジクロロ−２，２−ジフルオロエタンで
あるという事笑によって１．１．２−）リクロロー２，
２．〜ジフルオロエタンの満足な製法ではない。
タンは従来種々の方法で製造されている。これらの方法
にはＣＣｌＦ２ＣＨ３とＣＨＦ２ＣＨ３の熱塩素化法、
ＣＣｌＦ２ＣＣｌ ３ノイｙプロパツール（２−グロパ
ノール）による還元お工びＣＣｌ ３ＣＩＩｃｌ ２の
ぶつ化アンチモンによるふっ素化法がある。ＣＣ１３Ｃ
ＨＣｌ ２のふっ素ｆヒとＣＣｌＦ２ＣＣｌ ３の還元
を除いて１，１．２−トリクロロ−２，２，−ジフルオ
ロエタンは主生成物でなくその収率は一般にわるかった
。ＣＣ１３ＣＩｉＣ１２のふっ素化は腐蝕性ＨＦ？［−
含みまた危険なアンチモン含有廃水？生ずるのでこの反
応はｉ、 ｉ、 ２−トリクロロ−２，２−ジフルオロ
エタンの製法として問題がある。ｃｃｔｐ２ｃｃｔ３の
還元は、ＣＣ１Ｆ２ＣＣｔ３が単に、過塩素されている
１、１．２−）ジクロロ−２，２−ジフルオロエタンで
あるという事笑によって１．１．２−）リクロロー２，
２．〜ジフルオロエタンの満足な製法ではない。
上記の既知方法の欠点に鑑み、従来法に伴なう問題のな
い１．１．２− ）リクロロー２．２−ジフルオロエタ
ンケ高選択的に製造できる方法が非常に望まれている。
い１．１．２− ）リクロロー２．２−ジフルオロエタ
ンケ高選択的に製造できる方法が非常に望まれている。
本発明Ｕ １．１．２− トリクロロ−２，２−ジフル
オロエタンの高選択的製法である。この方法はＣＦ２Ｃ
ｌＣＣｌＣ１２が選択的に見られる様な条件のもとて遊
１ｌｉｉｆ基反応開始剤の存在において１．１−ジフル
オロエチレン全塩素化剤と接触させることよシ成る。上
記選択性は１．１−ジフルオロエチレン？基準として６
３モルチ以上である。この選択性は従来法によって見ら
れる結果を考えると駕くべきものである。
オロエタンの高選択的製法である。この方法はＣＦ２Ｃ
ｌＣＣｌＣ１２が選択的に見られる様な条件のもとて遊
１ｌｉｉｆ基反応開始剤の存在において１．１−ジフル
オロエチレン全塩素化剤と接触させることよシ成る。上
記選択性は１．１−ジフルオロエチレン？基準として６
３モルチ以上である。この選択性は従来法によって見ら
れる結果を考えると駕くべきものである。
１、１．２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタンは
非常に望ましいｆヒ合物製造の価値ある中間体である。
非常に望ましいｆヒ合物製造の価値ある中間体である。
例えば１，１．２−トリロロー２．２．−ジフルオロエ
タンは英国特許第５２３．４４９号に発表の方法により
Ｋ ＯＨおよびアルコールと反応さロー２．２−ジフ
ルオロエチレンとしこれ全米国特許第３．２６４゜３５
６号に記載のとおジアルカリの存在でメタノールと接触
させて２．２−ジクロロ−１，１−ジフルオロエチルメ
チルエーテルが生成される。
タンは英国特許第５２３．４４９号に発表の方法により
Ｋ ＯＨおよびアルコールと反応さロー２．２−ジフ
ルオロエチレンとしこれ全米国特許第３．２６４゜３５
６号に記載のとおジアルカリの存在でメタノールと接触
させて２．２−ジクロロ−１，１−ジフルオロエチルメ
チルエーテルが生成される。
本発明の実施に当り１．１−ジフルオロエチレン、塩素
化剤および遊離基反応開始剤全使用することが重要であ
る。１，１−ジフルオロエチレン化合物はよく知られて
お広市販されてお択また釉々の方法で製造できる。
化剤および遊離基反応開始剤全使用することが重要であ
る。１，１−ジフルオロエチレン化合物はよく知られて
お広市販されてお択また釉々の方法で製造できる。
塩素化剤には適当な塩素含有固体又は液体の様な塩素原
子上発生する適当なハロゲンが使用できる。好ましい塩
素化剤は塩素である。１，１．２−トリクロロ−２，２
−ジフルオロエタンの最適量全生成する様な量の塩素化
剤を供給するとよい。
子上発生する適当なハロゲンが使用できる。好ましい塩
素化剤は塩素である。１，１．２−トリクロロ−２，２
−ジフルオロエタンの最適量全生成する様な量の塩素化
剤を供給するとよい。
一般にＣ１２の１．１−ジフルオロエチレンに対する供
給モル比は１．２乃至２．５、好ましくは１．７乃至２
．１である。より高いモル比もより低いモル比も使用で
きるが、ｃ１２対１．１−ジフルオロエチレンの低供給
モル比はＣＦ２Ｃｌ ＣＨ２Ｃｌの甚しい累積となジ、
一方高モル比はＣＦ２ＣｌＣＣｌ ３の累積およびこの
方法の選択性低下となる。
給モル比は１．２乃至２．５、好ましくは１．７乃至２
．１である。より高いモル比もより低いモル比も使用で
きるが、ｃ１２対１．１−ジフルオロエチレンの低供給
モル比はＣＦ２Ｃｌ ＣＨ２Ｃｌの甚しい累積となジ、
一方高モル比はＣＦ２ＣｌＣＣｌ ３の累積およびこの
方法の選択性低下となる。
適当な遊離基反応開始剤には過酸ｆヒ物の様な触媒と電
磁照射がある。電磁性照射は好ましい遊離基反応開始剤
である。
磁照射がある。電磁性照射は好ましい遊離基反応開始剤
である。
例えば可視および紫外線範囲の光照射等のこの化学反応
ケさせるどんな電磁性照射も使用できる、紫外光線は最
良の遊離基反応開始剤である。この反応系の生成量は光
強度、即ち遊離基生成速度および反応体添加速度の関数
である。
ケさせるどんな電磁性照射も使用できる、紫外光線は最
良の遊離基反応開始剤である。この反応系の生成量は光
強度、即ち遊離基生成速度および反応体添加速度の関数
である。
１．１−ジフルオロエチレンの塩素化反応は−２０乃至
１０’０’Ｃの温度において液体反応媒質中で便利に行
なわれる。塩素化は０乃至４０℃の温度で行なうとよい
。普通この反応は大気圧又はより高圧で容易に進行する
。必要ならば減圧も使用できる。
１０’０’Ｃの温度において液体反応媒質中で便利に行
なわれる。塩素化は０乃至４０℃の温度で行なうとよい
。普通この反応は大気圧又はより高圧で容易に進行する
。必要ならば減圧も使用できる。
塩素化は大気圧において行なうとよい。
反応は液体反応媒質の存在で行なうとよい。液体反応媒
質は反応効果ケ妨げない適当な液体でよい。液体反応媒
質はｃＦ２ｃｌＣＨ２Ｃｌ対ＣＦ２Ｃｌ ＣｌＩＣｌ
２のモル比が一般に１．５又はそれ以上である様に後者
に対し前者のモル過剰金倉む。液体反応媒質中ＣＦ２Ｃ
ｌＣ１Ｉ２Ｃｌ対ＣＦ２Ｃｌ ＣＨＣｌ ２ ％ ル比
が２乃至１ｏであるとよく、３．５乃至工０が最もよい
。モル比１．５は１．１．２−トリクロロ−２，２−ジ
フルオロエタンの選択性約６３％となる。１０以上の比
率ではＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃｌの循環量過剰となシ選択性
の増加は小さくなる。７０％又はそれ以上の選択性がえ
られ、最もよい場合８０％又はそれ以上の選択性かえら
れる。本発明の方法において使う選択性とは反応容器に
供給した１、１−ジフルオロエタン／に基づいて式：
選択性＝＝１００（Ｙ）／（Ｙ十ｋ）ｃ式中Ｙは生成流
中のＣＦ２ＣｌＣｌＩＣ１２のモル数金表わし、Ｚは生
成流中のＣＦ２ＣｌＣＣｌ３のモル数を表わす）金剛い
て計算した１、１．２−トリクロロ−２，２−ジフルオ
ロエタンの選択性全意味する。
質は反応効果ケ妨げない適当な液体でよい。液体反応媒
質はｃＦ２ｃｌＣＨ２Ｃｌ対ＣＦ２Ｃｌ ＣｌＩＣｌ
２のモル比が一般に１．５又はそれ以上である様に後者
に対し前者のモル過剰金倉む。液体反応媒質中ＣＦ２Ｃ
ｌＣ１Ｉ２Ｃｌ対ＣＦ２Ｃｌ ＣＨＣｌ ２ ％ ル比
が２乃至１ｏであるとよく、３．５乃至工０が最もよい
。モル比１．５は１．１．２−トリクロロ−２，２−ジ
フルオロエタンの選択性約６３％となる。１０以上の比
率ではＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃｌの循環量過剰となシ選択性
の増加は小さくなる。７０％又はそれ以上の選択性がえ
られ、最もよい場合８０％又はそれ以上の選択性かえら
れる。本発明の方法において使う選択性とは反応容器に
供給した１、１−ジフルオロエタン／に基づいて式：
選択性＝＝１００（Ｙ）／（Ｙ十ｋ）ｃ式中Ｙは生成流
中のＣＦ２ＣｌＣｌＩＣ１２のモル数金表わし、Ｚは生
成流中のＣＦ２ＣｌＣＣｌ３のモル数を表わす）金剛い
て計算した１、１．２−トリクロロ−２，２−ジフルオ
ロエタンの選択性全意味する。
本発明の代表的実施態様において反応容器にＣＦ２Ｃｌ
ＣＨ２Ｃｌ又は前回生産からのＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃｌ
、 ＣＦ２ＣｌＣＨＣｌ ２およびＣＦ２ＣｌＣＣｌ３
の混合物のいずれかを入れる。反応容器内容物？遊離基
反応開始用電磁照射した後塩素ガスと１，１−ジフルオ
ロエチレンケ別個の流速調節供給流としてガス分散管會
とおして反応容器に同時に供給する。反応が進行するに
つれて反応器中の液面が上昇し液体反応媒質からＨＣＬ
ガスが発生する。次いで発熱反応と遊離基反応開始用電
磁照射発生に使ったランプによって与えられた熱エネル
ギーとの熱によって促進される反応器中の比較的低沸点
内容物（ＣＦ２Ｃ１（Ｊ１２Ｃ１は約４７℃で沸とうす
る）の蒸発ケ最少とするため反応器全冷却する。
ＣＨ２Ｃｌ又は前回生産からのＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃｌ
、 ＣＦ２ＣｌＣＨＣｌ ２およびＣＦ２ＣｌＣＣｌ３
の混合物のいずれかを入れる。反応容器内容物？遊離基
反応開始用電磁照射した後塩素ガスと１，１−ジフルオ
ロエチレンケ別個の流速調節供給流としてガス分散管會
とおして反応容器に同時に供給する。反応が進行するに
つれて反応器中の液面が上昇し液体反応媒質からＨＣＬ
ガスが発生する。次いで発熱反応と遊離基反応開始用電
磁照射発生に使ったランプによって与えられた熱エネル
ギーとの熱によって促進される反応器中の比較的低沸点
内容物（ＣＦ２Ｃ１（Ｊ１２Ｃ１は約４７℃で沸とうす
る）の蒸発ケ最少とするため反応器全冷却する。
蒸留管のりボイラーに連結されている反応器の潅流口に
反応液があふれる時点の前に上記リボイラーはＣＦ２Ｃ
ｌＣＨ２Ｃｌ−を装入され加熱されて定常還流状態とな
る。反応液がリボイラーに溢流する場合蒸留管はりボイ
ラー中の混合物分離全促進する。
反応液があふれる時点の前に上記リボイラーはＣＦ２Ｃ
ｌＣＨ２Ｃｌ−を装入され加熱されて定常還流状態とな
る。反応液がリボイラーに溢流する場合蒸留管はりボイ
ラー中の混合物分離全促進する。
蒸留管頂上の温度は留出物が本質的に純ＣＦ２ＣｌＣＨ
２Ｃｌ″′Ｃある杼選ばれる。管類上の凝縮器はハロゲ
ン化有機化合物の蒸気會凝縮する。凝縮器からの凝縮物
は蒸留管への還流と反応器への再循環流の２流に分けら
れる。
２Ｃｌ″′Ｃある杼選ばれる。管類上の凝縮器はハロゲ
ン化有機化合物の蒸気會凝縮する。凝縮器からの凝縮物
は蒸留管への還流と反応器への再循環流の２流に分けら
れる。
蒸留が進むにつれてリボイラー内の液体には１，１．２
− ） １Ｊりロロー２，２−ジフルオロエタンとＣＦ
２ＣｌＣＣｌ３が豊富となる。
− ） １Ｊりロロー２，２−ジフルオロエタンとＣＦ
２ＣｌＣＣｌ３が豊富となる。
この液は精製のため引出されＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃｌはリ
ボイラーに戻される。ｔ＊クリボイラー中１．１．２−
１リクロロ−２，２−ジフルオロエタン号が十分に高く
なれば、塩素化全中止して蒸留系は混合物精製に使用で
きる。かくて精製完了後ＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃｌの豊富な
部分はりボイラーに戻し塩素化全中止して望む様にサイ
クルを反後できる。
ボイラーに戻される。ｔ＊クリボイラー中１．１．２−
１リクロロ−２，２−ジフルオロエタン号が十分に高く
なれば、塩素化全中止して蒸留系は混合物精製に使用で
きる。かくて精製完了後ＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃｌの豊富な
部分はりボイラーに戻し塩素化全中止して望む様にサイ
クルを反後できる。
次の実施例は本発明ヶ例証するためのもので本発明の範
囲ケ限定するものと解釈すべきではない。実施例中のノ
く一セントは特に断らない限りすべてＭ量基準である。
囲ケ限定するものと解釈すべきではない。実施例中のノ
く一セントは特に断らない限りすべてＭ量基準である。
実施ｆ＋１ １゜
この方法の装置は
（ａ）下端にガス分散管、底の排出口および冷却装置付
２．５ｔガラス反応各器； （ｂ）底排出口、熱電対および加熱装置付き１ｔ３ツ首
ガラス容器（リボイラー）； （Ｃ）１／４インチガラスらせんケつめた上部熱電対と
真空ジャケット付き１″×１８“ガラス蒸留管： （ぬ 分別部分分離手段ｒもつ凝縮器： および（ｅ）
４５０ワットハノヴイア中圧石英水銀蒸気灯ニジ成る。
２．５ｔガラス反応各器； （ｂ）底排出口、熱電対および加熱装置付き１ｔ３ツ首
ガラス容器（リボイラー）； （Ｃ）１／４インチガラスらせんケつめた上部熱電対と
真空ジャケット付き１″×１８“ガラス蒸留管： （ぬ 分別部分分離手段ｒもつ凝縮器： および（ｅ）
４５０ワットハノヴイア中圧石英水銀蒸気灯ニジ成る。
この方法装置は蒸留管が１を容器の上に組立てられてお
りまた分別部分分離器をもつ凝縮器は蒸留管上につけら
れた。反応容器はそれからあふれる液が重力によって１
を容器に流れおちる様な位置におかれた。電磁照射源は
反応容器の内容物全照射する位置におかれた。
りまた分別部分分離器をもつ凝縮器は蒸留管上につけら
れた。反応容器はそれからあふれる液が重力によって１
を容器に流れおちる様な位置におかれた。電磁照射源は
反応容器の内容物全照射する位置におかれた。
この方法は１を容器にＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃｌ ３．８３
モルとＣＦ２ＣｌＣ１１Ｃ１２０，１３モル會装入して
開始した。反応容器にＣＦ２ＣｌＣ１１２Ｃ１２０，５
モル、ＣＦ２ＣｌＣｌ１Ｃ１２ａ、 ４１モルおよびＣ
Ｆ２ＣｌＣＣｌ ３０．３５モル會装入した。蒸留管會
とおして定常還流状態となる様１を容器全加熱した。ラ
ンプケ反応容器から約６インチ（１５２ｍ）の位置にお
きランプｉつけた。
モルとＣＦ２ＣｌＣ１１Ｃ１２０，１３モル會装入して
開始した。反応容器にＣＦ２ＣｌＣ１１２Ｃ１２０，５
モル、ＣＦ２ＣｌＣｌ１Ｃ１２ａ、 ４１モルおよびＣ
Ｆ２ＣｌＣＣｌ ３０．３５モル會装入した。蒸留管會
とおして定常還流状態となる様１を容器全加熱した。ラ
ンプケ反応容器から約６インチ（１５２ｍ）の位置にお
きランプｉつけた。
この時点でカス反応体、塩素と１．１−ジフルオロエチ
レン全ガス分散管ケとおして反応容器の下部から入れた
。Ｃ１２対１，１−ジフルオロエチレンの供給モル比は
１．９０であった。２９．３５時間中１．１− ジフル
オロエチレン２２．９モルトｃ１２４３．５モル七反応
容器にとおした。同じ時間中１を容器からの留出物は約
２．６−／分の割合で反応容器中に送った。反応容器内
容物は透明である、反対にいやな黄緑色であればそれは
塩素添加速度の過剰を示すのである。
レン全ガス分散管ケとおして反応容器の下部から入れた
。Ｃ１２対１，１−ジフルオロエチレンの供給モル比は
１．９０であった。２９．３５時間中１．１− ジフル
オロエチレン２２．９モルトｃ１２４３．５モル七反応
容器にとおした。同じ時間中１を容器からの留出物は約
２．６−／分の割合で反応容器中に送った。反応容器内
容物は透明である、反対にいやな黄緑色であればそれは
塩素添加速度の過剰を示すのである。
反応が進むにつれて反応容器の液量は増加した。液は蒸
気シールをもつ線會とおシ１を容器中に溢れた。副生Ｍ
ＣＩガスは反応容器上部から取出し凝縮器に導いた。加
熱装置から１を容器に供給されたエネルギーは溢流液を
蒸留した。留出物の一部は凝縮器から蒸留管に戻したが
、残りは反応容器に送った。９５モモル量上のＣＦ２Ｃ
ｌＣＨ２Ｃｌである留出物とするため蒸留管頂上の温度
會４５〜４６℃に調節した。こうすれば１を容器内の液
の１．１．２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタン
とＣＦ２ＣｌＣＣｌ３の濃度？高くできる。
気シールをもつ線會とおシ１を容器中に溢れた。副生Ｍ
ＣＩガスは反応容器上部から取出し凝縮器に導いた。加
熱装置から１を容器に供給されたエネルギーは溢流液を
蒸留した。留出物の一部は凝縮器から蒸留管に戻したが
、残りは反応容器に送った。９５モモル量上のＣＦ２Ｃ
ｌＣＨ２Ｃｌである留出物とするため蒸留管頂上の温度
會４５〜４６℃に調節した。こうすれば１を容器内の液
の１．１．２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタン
とＣＦ２ＣｌＣＣｌ３の濃度？高くできる。
Ｘｔ容器が殆んど一杯になればいつでも一部を空けて出
した混合物音その成分に分離する。ＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃ
ｌが豊富な部分は１を容器に戻ｆ。全工程中ＣＦ２Ｃｌ
ＣＨ２Ｃｌ ５．３０ モルとＣＦ２ＣｌＣＨＣｌ２
０．２５モルは１を容器に戻した。
した混合物音その成分に分離する。ＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃ
ｌが豊富な部分は１を容器に戻ｆ。全工程中ＣＦ２Ｃｌ
ＣＨ２Ｃｌ ５．３０ モルとＣＦ２ＣｌＣＨＣｌ２
０．２５モルは１を容器に戻した。
この系に添加した全物質の全重量は９．２６０Ｋｔで、
工程の終シにそのうち９．１４７〜が残った。ガスー液
クロマトグラフ法によって系に加えた物質のモル量と工
程中回収した物質のモル量を表１に示している。
工程の終シにそのうち９．１４７〜が残った。ガスー液
クロマトグラフ法によって系に加えた物質のモル量と工
程中回収した物質のモル量を表１に示している。
表■
ＣＦ、＝ ＣＦ２２２．９ −
Ｃ１２４３，４９−
ＣＦ２ＣｌＣＣｌ ３０．３５ ２．３５ＣＦ２ＣＩＣ
ＩＩＣＩ２３．８ １７．６ＣＦ２ＣＩＣＨ２Ｃ１２９
，６３５，５ＭＣｌ −２０，５ 全有機物質 ５６．６５ ５５．４５ 有機物回収率＝９Ｆｉ係 １．１．２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタンｐ
計算収率＝供給ＣＦ２＝’ＣＨ２會基準として８２．８
モル量選択性＝８７．３モルチ ＣＦ２＝ＣＨ２の転化率＝ｉｏｏｓ
ＩＩＣＩ２３．８ １７．６ＣＦ２ＣＩＣＨ２Ｃ１２９
，６３５，５ＭＣｌ −２０，５ 全有機物質 ５６．６５ ５５．４５ 有機物回収率＝９Ｆｉ係 １．１．２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタンｐ
計算収率＝供給ＣＦ２＝’ＣＨ２會基準として８２．８
モル量選択性＝８７．３モルチ ＣＦ２＝ＣＨ２の転化率＝ｉｏｏｓ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 １．１−ジフルオロエチレンと塩素化剤會遊離基
反応開始剤の存在において１，１．２− ）ジクロロ−
２，２−ジフルオロエタン生成条件のもとで接触させる
ことｔ特徴とする１、１．２−トリクロロ−２，２、−
ジフルオロエタンの製法。 ２、 １，１．２−）ジクロロ−２，２−ジフルオロエ
タンが６３モルチよシ大きい選択性會もって見られる特
許請求の範囲第１項に記載の方法。 ３、塩素化剤が塩素でありかつ遊離基反応開始剤が電磁
照射である特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ４、塩素と１．１−ジフルオロエチレン全液体反応媒質
中で接触させる特許請求の範囲第１項又は２項に記載の
方法。 ５、液体反応媒質がＣＦ２ＣｌＣＨ２Ｃｌ トＣＦ２Ｃ
ｌＣｌＩＣ１２，１：り成りかつそのモル比が後者の１
に対し前者が少なくも１．５でありまた塩素の１，１−
ジフルオロエチレンに対する供給モル比が１．２乃至２
．５である特許請求の範囲第４項に記載の方法。 ６、液体反応媒質の温度が−２０乃至１００℃である特
許請求の範囲第５項に記載の方法。 ７、ｍ素ｏ１，１−ジフルオロエチレンに対する供給モ
ル比が１．７乃至２．１であり、液体反応媒質の温度が
Ｏ乃至４０℃であり、液体反応媒質中のＣｒ３Ｃｌ Ｃ
Ｈ２ＣＬのＣｒ３Ｃｌ ＣＨＣＬ ２に対するモル比が
２乃至１０であり、かつ遊離基反応開始剤が紫外光線で
ある特許請求の範囲第６項に記載の方法。 ８、選択性が少なくも８Ｏ−Ｅ−ルチである特許請求の
範囲第１項、４項又は７項に記載の方決。 ９、ＣＦ２ＣｌＣＨ２ＣｌとＣＦ２ＣｌＣＨＣｌ ２よ
り成りかつＣＦ２ＣｌＣＨ２ＣｌのＣｒ３Ｃｌ ＣＨＣ
ｌ ２に対するモル比が少なくも約１．５である液体反
応媒質中において約−２０乃至約１ｏｏｃの温度におい
不紫外光線の存在において１，１−ジフルオロエチレン
全塩素と接触させて１，１．２−トリクロロ−２，２−
ジフルオロエタン會選択的に生成させることを特徴とす
る１、１．２−１リクロロ−２，２−ジフルオロエタン
の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23161483A JPS60130535A (ja) | 1983-12-09 | 1983-12-09 | １，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23161483A JPS60130535A (ja) | 1983-12-09 | 1983-12-09 | １，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタンの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60130535A true JPS60130535A (ja) | 1985-07-12 |
Family
ID=16926265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23161483A Pending JPS60130535A (ja) | 1983-12-09 | 1983-12-09 | １，１，２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタンの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60130535A (ja) |
-
1983
- 1983-12-09 JP JP23161483A patent/JPS60130535A/ja active Pending
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