JPS60123716A - Ｘｙステ−ジのｘｙ交差角測定方法及びその測定装置 - Google Patents
Ｘｙステ−ジのｘｙ交差角測定方法及びその測定装置Info
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- JPS60123716A JPS60123716A JP23189683A JP23189683A JPS60123716A JP S60123716 A JPS60123716 A JP S60123716A JP 23189683 A JP23189683 A JP 23189683A JP 23189683 A JP23189683 A JP 23189683A JP S60123716 A JPS60123716 A JP S60123716A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/002—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はＸＹステージのＸＹ交差角測定方法及びその測
定装置に関する。
定装置に関する。
例えばＬＳＩ用のマスク製作装置（電子ビームマスク描
画装置、フォトリピータ）、ウェハステラＡ等において
は、第１図に示すＸＹステージが用いられている１、即
ち、図中１は基台であシ、この基台１上には駆動軸２に
よシＹ方向に移動するＹ方向スライド板３が設置されて
いる・このスライド板３上には駆動軸４によシＸ方向に
移動するＸ方向スライド板５が設置されている。また、
とのＸ方向スライド板５のＹ方向及びＸ方向に沿う側面
には夫々平面ミラー６．７が取付けられている。そして
、これら平面ミラー６．７に対応してＸ方向スライド板
５のＸ方向移動距離及びＹ方向移動距離を夫々測定する
だめの干渉計（図示せず）が配置されている。こうした
ＸＹステージにおいては、スライド板。
画装置、フォトリピータ）、ウェハステラＡ等において
は、第１図に示すＸＹステージが用いられている１、即
ち、図中１は基台であシ、この基台１上には駆動軸２に
よシＹ方向に移動するＹ方向スライド板３が設置されて
いる・このスライド板３上には駆動軸４によシＸ方向に
移動するＸ方向スライド板５が設置されている。また、
とのＸ方向スライド板５のＹ方向及びＸ方向に沿う側面
には夫々平面ミラー６．７が取付けられている。そして
、これら平面ミラー６．７に対応してＸ方向スライド板
５のＸ方向移動距離及びＹ方向移動距離を夫々測定する
だめの干渉計（図示せず）が配置されている。こうした
ＸＹステージにおいては、スライド板。
特に最上層のＸ方向スライド板５のＸ、Ｙ方向の移動距
離を正確に測定する上で、該Ｘ方向スライド板５の直交
度（平面ミラー６．７の取付は角度）を検出することが
重要である。
離を正確に測定する上で、該Ｘ方向スライド板５の直交
度（平面ミラー６．７の取付は角度）を検出することが
重要である。
ところで、ＸＹステージの直交度の測定は、従来、Ｘ方
向スライド板に固定したガラスマスク等の試料のパター
ン位置を検出し得る装置（例えば光波型座標測定装置）
のＸＹステージの場合、直交度が既知のガラスマスク試
料の直交度を測定し、該試料の直交度とめた直交度との
ずれ量からＸ方向スライド板の直交度を測定する方向が
採用されている。なお、ガラスマスク試料の直交度は前
記座標測定装置にょシ１１回目２回目の試料の固定方向
を互に９０°ずらして測定し、これらの平均値からめる
。
向スライド板に固定したガラスマスク等の試料のパター
ン位置を検出し得る装置（例えば光波型座標測定装置）
のＸＹステージの場合、直交度が既知のガラスマスク試
料の直交度を測定し、該試料の直交度とめた直交度との
ずれ量からＸ方向スライド板の直交度を測定する方向が
採用されている。なお、ガラスマスク試料の直交度は前
記座標測定装置にょシ１１回目２回目の試料の固定方向
を互に９０°ずらして測定し、これらの平均値からめる
。
また、試料のノＪ？ターン位置測定機能のない装置（例
えばフォトリピータ）のＸＹステージでは、該ステージ
を用いてガラスマスクを製作シ、該ガラスマスク上のノ
９ターン配列の直交度を前記座標測定装置により測定す
る方法が採用されている。
えばフォトリピータ）のＸＹステージでは、該ステージ
を用いてガラスマスクを製作シ、該ガラスマスク上のノ
９ターン配列の直交度を前記座標測定装置により測定す
る方法が採用されている。
〔背景技術の問題点〕 、
しかしながら、上述した従来方法ではＸＹステージ単体
（例えばＸ方向スライド板のみ）或いは組立て段階での
直交度を正確に測定することができず、フォ） ＩＪビ
ータ等の装置全体が機能するようになってから始めて直
交度の測定がａｌ能となるため、ＸＹステージの製作、
調整効率が低くなるという次点があった。
（例えばＸ方向スライド板のみ）或いは組立て段階での
直交度を正確に測定することができず、フォ） ＩＪビ
ータ等の装置全体が機能するようになってから始めて直
交度の測定がａｌ能となるため、ＸＹステージの製作、
調整効率が低くなるという次点があった。
また、ｘｙステージの直交度の測定、調整後において、
何んらかの原因で直交度が狂う可能性があるが、これを
監視するために標準サンプルの測定、或いは製作サング
１し”’＠”ＪＬ３）定を常に行なう必要がある。この
測定に要する時間は１５〜３０分間であり、測定の自動
化も困難となり、人手もかがる。とシわけ、フォトリピ
ータではサンプル製作（、曵数時間要し、直交度の確認
操作に長時間を要する。
何んらかの原因で直交度が狂う可能性があるが、これを
監視するために標準サンプルの測定、或いは製作サング
１し”’＠”ＪＬ３）定を常に行なう必要がある。この
測定に要する時間は１５〜３０分間であり、測定の自動
化も困難となり、人手もかがる。とシわけ、フォトリピ
ータではサンプル製作（、曵数時間要し、直交度の確認
操作に長時間を要する。
本発明はＸＹステージ単体でのＸＹ直交度を測定できる
と共に、フォトリピータ等の装置に組込んだ場合、簡単
な禎５作で常に直交度を監視することが可能なＸＹステ
ージのＸＹ直交度測定方法、並びに極めて簡単な構造の
測定装置を提供しようとするものである。
と共に、フォトリピータ等の装置に組込んだ場合、簡単
な禎５作で常に直交度を監視することが可能なＸＹステ
ージのＸＹ直交度測定方法、並びに極めて簡単な構造の
測定装置を提供しようとするものである。
本発明はＸＹステージのＸ、Ｙ方向の移動距離だけでな
く、ＸＹ方向と例えば４５°の角度をなすステージ移動
方向を測定し、これら３方向の移動距離よシＸＹ直交度
をめることを骨子とするものである。
く、ＸＹ方向と例えば４５°の角度をなすステージ移動
方向を測定し、これら３方向の移動距離よシＸＹ直交度
をめることを骨子とするものである。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例を第２図及び第３図を参照して説
明する。
明する。
４第２図は本発明の測定装置を示す概略斜視図、第３図
は同装置の要部平面図である。図中の１１はＸＹステー
ジである。このＸＹステージ１１は基台１２と、この基
台１２上に設置され、駆動軸１３によｐｙＸ方向移動す
るＹ方向スライド板１４と、このスライド板１４上に設
置され、駆動軸１５によりＸ方向に移動するＸ方向スラ
イド板１６とから構成さ−れている。なお、前記ＸＹス
テージ届において被移動部材はＸ方向スライド板１６に
固定され、Ｙ方向スライド板１４及びＸ方向スライド板
１６を移動させることにより、ＸＹ方向の任意の距離を
移動できるようになっている。
は同装置の要部平面図である。図中の１１はＸＹステー
ジである。このＸＹステージ１１は基台１２と、この基
台１２上に設置され、駆動軸１３によｐｙＸ方向移動す
るＹ方向スライド板１４と、このスライド板１４上に設
置され、駆動軸１５によりＸ方向に移動するＸ方向スラ
イド板１６とから構成さ−れている。なお、前記ＸＹス
テージ届において被移動部材はＸ方向スライド板１６に
固定され、Ｙ方向スライド板１４及びＸ方向スライド板
１６を移動させることにより、ＸＹ方向の任意の距離を
移動できるようになっている。
また、前記Ｘ方向スライド板１６のＹ方向に沿う側面に
は第１の平面ミラー１７．が取付ケラれ、かつ同スライ
ド板１６のＸ方向に沿う側面には第２の平面ミラー１７
２が夫々取付けられている。更に、前記Ｘ方向スライド
板１６上にはｘ、Ｘ方向と共に例えは直角二等辺三角形
を形成するように第３の平面ミラー１７３が直立して着
脱自在に設けられている。そして、前記第１の平１１ミ
ラー１７１に対して４５°の傾きをもつ第１のハーフミ
ラ−１８，が配置され、かつ該ノ・−フミラー１８１の
反射方向に第１の反射ミラー１９０、該反射ミラー１９
．と反対側の位置に第１の検出器２０．が配置されてい
る。また、％ｉＪ記第２の平面ミラー１７２に対しても
同様に第２の−・−フミラー１８２、反射ミラー１９２
及び検出器２０２が配置され、かつ前記第３の平面ミラ
ー１７３に対しても同様に第３の−・−フミラー１８３
、反射ミラー１９３及び検出器２θ３が配置されている
。こうした第１の平面ミラー１７１．ハーフミラ−１８
１，反射ミラー１９１及び検出器２０１によシＸ方向の
移動距離を測定する第１のマイケルソン型干渉割（第１
測定手段）２１１が構成される。また、第２の平面ミラ
ー１７２．ハーフミラ−１８□９反射ミラー１９２及び
検出器２θ２によりＹ方向の移動距離を測定する第２の
マイケルンン型干渉計（第２測足手段）２１２が構成さ
れる。
は第１の平面ミラー１７．が取付ケラれ、かつ同スライ
ド板１６のＸ方向に沿う側面には第２の平面ミラー１７
２が夫々取付けられている。更に、前記Ｘ方向スライド
板１６上にはｘ、Ｘ方向と共に例えは直角二等辺三角形
を形成するように第３の平面ミラー１７３が直立して着
脱自在に設けられている。そして、前記第１の平１１ミ
ラー１７１に対して４５°の傾きをもつ第１のハーフミ
ラ−１８，が配置され、かつ該ノ・−フミラー１８１の
反射方向に第１の反射ミラー１９０、該反射ミラー１９
．と反対側の位置に第１の検出器２０．が配置されてい
る。また、％ｉＪ記第２の平面ミラー１７２に対しても
同様に第２の−・−フミラー１８２、反射ミラー１９２
及び検出器２０２が配置され、かつ前記第３の平面ミラ
ー１７３に対しても同様に第３の−・−フミラー１８３
、反射ミラー１９３及び検出器２θ３が配置されている
。こうした第１の平面ミラー１７１．ハーフミラ−１８
１，反射ミラー１９１及び検出器２０１によシＸ方向の
移動距離を測定する第１のマイケルソン型干渉割（第１
測定手段）２１１が構成される。また、第２の平面ミラ
ー１７２．ハーフミラ−１８□９反射ミラー１９２及び
検出器２θ２によりＹ方向の移動距離を測定する第２の
マイケルンン型干渉計（第２測足手段）２１２が構成さ
れる。
更に、第３の平面ミラー１７３．ハーフミラ−１８３、
反射ミラー１９３及び検出器２０３によりｘｙ両方向に
対して４５°の角度をなす方向での移動距離を測定する
第３のマイケルンン型干渉計（第３測定手段）２１３が
構成されている。
反射ミラー１９３及び検出器２０３によりｘｙ両方向に
対して４５°の角度をなす方向での移動距離を測定する
第３のマイケルンン型干渉計（第３測定手段）２１３が
構成されている。
次に、Ｘ方向スライド板のＸＹ交差角の測定方法を説明
する。
する。
各平面ミラー１７．〜１７３の配置角度は誤差を持って
おり、第１．第２の平面ミラー１７１゜１７２の交差角
、第２．第３の平面ミラー１７２゜１７３の交差角及び
第３．第１の平面ミラー１７３゜１７１の交差角を夫々
第４図に示す如く９０°＋α・４５°＋β、４５°十γ
とすると、α＋β十γ二０の関係が成立し、βとγのず
れ角を測定することによりα（ＸＹ方向の平面ミラー１
７．．７７２の直角か♂Ｙれ角）がめられる。
おり、第１．第２の平面ミラー１７１゜１７２の交差角
、第２．第３の平面ミラー１７２゜１７３の交差角及び
第３．第１の平面ミラー１７３゜１７１の交差角を夫々
第４図に示す如く９０°＋α・４５°＋β、４５°十γ
とすると、α＋β十γ二０の関係が成立し、βとγのず
れ角を測定することによりα（ＸＹ方向の平面ミラー１
７．．７７２の直角か♂Ｙれ角）がめられる。
例えばまず、Ｘ方向の第２の平面ミラー１７□に平行に
（ミラー１７２とハーフミラ−１８□の距離〔ステージ
のＹ座標〕を一定に保って）Ｘ方向スライド板ノロをＸ
１移動させた場合、第３の平面ミラー１７３の垂直方向
の移動距離を第３の干渉計２１３で測長し、その距離を
ｄ、とすると、 ｄ１＝Ｘ１咲（−＋β） ・・・（１）にて表わされる
。
（ミラー１７２とハーフミラ−１８□の距離〔ステージ
のＹ座標〕を一定に保って）Ｘ方向スライド板ノロをＸ
１移動させた場合、第３の平面ミラー１７３の垂直方向
の移動距離を第３の干渉計２１３で測長し、その距離を
ｄ、とすると、 ｄ１＝Ｘ１咲（−＋β） ・・・（１）にて表わされる
。
次いで、第１の平面ミラー１７１に平行に（ステージの
Ｘ座標を一定に保ちながら）Ｙ方向スライド板１４をｙ
Ｉ移動させた時の第３のミラー１７３の垂直移動距離を
第３の干渉計２１３で測長し、その距離をｄ２とすると
、 ｄｚ＝ｙ＋咲（−＋γ） ・・・（２）４ ・ にて表わされる。
Ｘ座標を一定に保ちながら）Ｙ方向スライド板１４をｙ
Ｉ移動させた時の第３のミラー１７３の垂直移動距離を
第３の干渉計２１３で測長し、その距離をｄ２とすると
、 ｄｚ＝ｙ＋咲（−＋γ） ・・・（２）４ ・ にて表わされる。
しかして、前記（１） 、 （２）式でのｄ＋ ＋ｄ２
は第３の干渉計２１３で、ＸＩは第１の干渉計２１１で
、ｙｌは第２の干渉計２１２で夫々測長でき、β。
は第３の干渉計２１３で、ＸＩは第１の干渉計２１１で
、ｙｌは第２の干渉計２１２で夫々測長でき、β。
γをめることができるため、
αニー（β十γ） ・・・（３）
の式よりα（ＸＹ直交角のずれ角）をめることができ、
ひいてはＸ方向スライド板１６のＸＹ直交度を測定でき
る。
ひいてはＸ方向スライド板１６のＸＹ直交度を測定でき
る。
次に、測定精度の評価について説明する。
α、β、γが十分に小さいと考えると、（１）。
（２）式は夫々
・・・（４）
・・・（５）
にて表わされる。
ＸＩ ＋ ３’ｔ ＋ ｄｌ ’ ｄＺの測定精度とし
ては０、０１７Ｚｗ′１００ ｍｍ （＝ １０−’
）程度まで得られており、β、γ、従ってαの精度とし
てもｉｏ−’程度まで期待され、精度的な問題はない。
ては０、０１７Ｚｗ′１００ ｍｍ （＝ １０−’
）程度まで得られており、β、γ、従ってαの精度とし
てもｉｏ−’程度まで期待され、精度的な問題はない。
次に、第１の平面ミラー１７１がミラー角度調整、固定
後、何んらかの原因によシ微小角δ（例えば自δ＝ １
／１０００００ ）ずれ、該ミラー１７１に対するビ
ームの入射角が垂直からδずれた場合について説明する
。
後、何んらかの原因によシ微小角δ（例えば自δ＝ １
／１０００００ ）ずれ、該ミラー１７１に対するビ
ームの入射角が垂直からδずれた場合について説明する
。
第２の平面ミラー１７２に平行にＸ方向スライド板１６
を移動した時の第１の平面ミラー１７１の垂直方向の移
動距離を第１の干渉計２１．で測定した値をｘｌ とす
ると、 ＸＩＱＥδ＝ＸＩ（１−δ２／２） −（８）となる。
を移動した時の第１の平面ミラー１７１の垂直方向の移
動距離を第１の干渉計２１．で測定した値をｘｌ とす
ると、 ＸＩＱＥδ＝ＸＩ（１−δ２／２） −（８）となる。
しかし、δよ１０−６と十分に小さい場合、前記（８）
式中のδ２／／２は無視できる。従って、上述した（１
）〜（７）式をめる際・は平面ミラーに対するビームの
入射角が真に垂直であるという仮定のもので説明したが
、平面ミラーに対するビームの入射角が垂直方向に対し
て微小角（δ）ずれていても、上述した（１）〜（７）
式が成立し、αの測定か十分可能であることがわかる。
式中のδ２／／２は無視できる。従って、上述した（１
）〜（７）式をめる際・は平面ミラーに対するビームの
入射角が真に垂直であるという仮定のもので説明したが
、平面ミラーに対するビームの入射角が垂直方向に対し
て微小角（δ）ずれていても、上述した（１）〜（７）
式が成立し、αの測定か十分可能であることがわかる。
しかして、本発明によればステージの移動距離の測定の
みで行なうため、従来技術では困難であったステージ単
体の直交度測定が可能となる。
みで行なうため、従来技術では困難であったステージ単
体の直交度測定が可能となる。
また、ステージをフォトリピータ等の組込んだ状態にお
いては、ステージを移動して３方向のステージ移動距離
を測定し、データ処理を行なうだけで、直交度を測定で
きるため、従来では数時間要していた直交度測定を数分
間で行なうことができる。したがって、常時、直又度を
監視することも可能となる。しかも、かかる測定は単純
であシ、ステージの移動距離の測定及びデータ処理はゾ
ログラミング可能であるため、装置自身で直交度の自己
診断も行なわすことができる。
いては、ステージを移動して３方向のステージ移動距離
を測定し、データ処理を行なうだけで、直交度を測定で
きるため、従来では数時間要していた直交度測定を数分
間で行なうことができる。したがって、常時、直又度を
監視することも可能となる。しかも、かかる測定は単純
であシ、ステージの移動距離の測定及びデータ処理はゾ
ログラミング可能であるため、装置自身で直交度の自己
診断も行なわすことができる。
更に、測定精度の面では、従来法と異なり直接的（例え
ば）９タ一ン位置検出の誤差等がない）であ石ため、高
精度の直交度測定か可能となる＠一方、本発明によれば
平□面ミラー、ノ・−フミラー、検出器等からなる第３
の干渉計を付設するだけで既述した直交度測定を行なう
ことができる極めて簡単な構造の測定装置を実現できる
〇なお、上記実施例の御１定装置では第３の平面ミラー
をＸＹ方向の平面ミラーに対して略４５゜の角度となる
ように配置したが、これに限定されず、ＸＹ方向の平面
ミラーに対して三角形を形成するように配置すればよい
。
ば）９タ一ン位置検出の誤差等がない）であ石ため、高
精度の直交度測定か可能となる＠一方、本発明によれば
平□面ミラー、ノ・−フミラー、検出器等からなる第３
の干渉計を付設するだけで既述した直交度測定を行なう
ことができる極めて簡単な構造の測定装置を実現できる
〇なお、上記実施例の御１定装置では第３の平面ミラー
をＸＹ方向の平面ミラーに対して略４５゜の角度となる
ように配置したが、これに限定されず、ＸＹ方向の平面
ミラーに対して三角形を形成するように配置すればよい
。
上記実施例の測定装置ではＸ方向スライド板上に第３の
平面ミラーを配置する構造−したが、これに限定されな
い。例えばＸ方向スライド板の裏面にその下のＹ方向ス
ライド板と接触しないように第３の平面ミラーを配置し
てもよい。
平面ミラーを配置する構造−したが、これに限定されな
い。例えばＸ方向スライド板の裏面にその下のＹ方向ス
ライド板と接触しないように第３の平面ミラーを配置し
てもよい。
この場合、被移動部材が固定されるＸ方向スライド板の
表面にミラーを配置するときのように着脱自在にする必
要はない。
表面にミラーを配置するときのように着脱自在にする必
要はない。
上記実施例では第１〜第３の測定手段として干渉計を用
いたが、これに限定されず、必要な精度に応じて他の方
法でも差し支えない。
いたが、これに限定されず、必要な精度に応じて他の方
法でも差し支えない。
上記実施例ではＸＹステージの直交度の測定について説
明したが、９０°よシ相当ずれた特定の角度をもったス
テージでも同様に測定できる。
明したが、９０°よシ相当ずれた特定の角度をもったス
テージでも同様に測定できる。
以上詳述した如く、本発明によればＸＹステージ単体で
のＸＹ直交度を測定できると共に、フォトリピ−タ等の
装置に組込んだ場合、簡単表操作で常に直交度を監視す
ることが可能なＸＹステージのＸＹ直交度狽１；定方性
、並びに、かかる直交度測定を実現し得る極めて簡単な
構造のＸＹ直交度測定装置を提供できる。
のＸＹ直交度を測定できると共に、フォトリピ−タ等の
装置に組込んだ場合、簡単表操作で常に直交度を監視す
ることが可能なＸＹステージのＸＹ直交度狽１；定方性
、並びに、かかる直交度測定を実現し得る極めて簡単な
構造のＸＹ直交度測定装置を提供できる。
第１図は一般的々ＸＹステージを示す概略斜視図、第２
図は本発明の一実施例を示すＸＹステージのＸＹ直交度
測定装置の概略斜視図、第３図は第２図の袋部平面図、
第４図は本発明のＵｔｆ又度測足方法を説明するだめの
平面図である。 Ｌノ・・・ＸＹろテーツ、Ｊ２・・・基台、１４・・・
Ｙ方向スライド板、１６・・・Ｘ方向スライド板、１７
１〜ノア３・・・平面ミラー、−１８，〜１８３・・・
ハーフミラ−１２０１〜２０３・・・検出器、２１．〜
２１３・・・干渉計（測定手段）。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１１ 第 ４ １ｊｊ
図は本発明の一実施例を示すＸＹステージのＸＹ直交度
測定装置の概略斜視図、第３図は第２図の袋部平面図、
第４図は本発明のＵｔｆ又度測足方法を説明するだめの
平面図である。 Ｌノ・・・ＸＹろテーツ、Ｊ２・・・基台、１４・・・
Ｙ方向スライド板、１６・・・Ｘ方向スライド板、１７
１〜ノア３・・・平面ミラー、−１８，〜１８３・・・
ハーフミラ−１２０１〜２０３・・・検出器、２１．〜
２１３・・・干渉計（測定手段）。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１１ 第 ４ １ｊｊ
Claims (4)
- （１）二方向に独立して移動し得るＸＹステージのＸＹ
交差角を測定する方法において、ステージのＸ方向の移
動距離、Ｘ方向とある角度で交差しているＹ方向の移動
距離、更にＸ７両方向と異なった方向でのステージの移
動距離をめ、これらの移動距離に基づいてステージのＸ
Ｙ方向又差角を測定することを特徴とするＸＹステージ
のＸＹ父差角測定方法。 - （２）二方向に独立して移動し得るＸＹステージのｘｙ
交差角を測定する装置において、ステージのＸ方向の移
動距離を測定する第１測定手段と、Ｘ方向とある角度で
交差しているＹ方向のステージの移動距離を測定する第
２測定手段と、Ｘ７両方向と異なった方向でのステージ
の移動方向を６１１１定する第３ホ１１定手段とを具備
したことを特徴とするＸＹステー・ノのＸＹ父差角測定
装置。 - （３）第１測定手段がＸＹステージにそのＸ方向と平行
して配設された平面ミラーと該ミラーに対応して配置さ
れた干渉計とからなり、第２測定手段がステージにその
Ｙ方向と平行して配置された平面ミラーと該ミラーに対
応して配置された干渉計とからなり、かつ第３測定手段
がＸＹステージにそのＸ、Ｙ方向と共に三角形を描くよ
うに配置された平面ミラーと１．該ミラーに対応して配
置された干渉計とからなることを特徴とする特ｉｆ’ｆ
請求の範囲第２項記載のＸＹステージのｘｙ交差角測
定装置。 - （４）ＸＹステージが基台上をＹ方向に移動しえるＹ方
向移動板と、該移動板上に配設され、Ｘ方向に移動し得
るＸ方向移動板とから構成され、かつ第１測定手段の平
面ミラーが前記Ｘ方向移動板のＸ方向に沿う側面に設け
られ、第２測定手段の平面ミラーが前記Ｘ方向移動板の
Ｙ方向に沿う側面に設けられ、更に第３１１１１１１定
手段の平面ミラーが前記Ｘ方向移動板の裏面にそのＸ、
Ｙ方向と共に三角形を描くように設けられていることを
特徴とする特許藺求の範囲第３項記載のＸＹステージの
ＸＹ又差角測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23189683A JPS60123716A (ja) | 1983-12-08 | 1983-12-08 | Ｘｙステ−ジのｘｙ交差角測定方法及びその測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23189683A JPS60123716A (ja) | 1983-12-08 | 1983-12-08 | Ｘｙステ−ジのｘｙ交差角測定方法及びその測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60123716A true JPS60123716A (ja) | 1985-07-02 |
Family
ID=16930731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23189683A Pending JPS60123716A (ja) | 1983-12-08 | 1983-12-08 | Ｘｙステ−ジのｘｙ交差角測定方法及びその測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60123716A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1028456A1 (en) * | 1997-09-19 | 2000-08-16 | Nikon Corporation | Stage device, a scanning aligner and a scanning exposure method, and a device manufactured thereby |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4937079A (ja) * | 1972-08-12 | 1974-04-06 | ||
| JPS5021233A (ja) * | 1973-06-28 | 1975-03-06 | ||
| JPS5091346A (ja) * | 1973-12-12 | 1975-07-22 |
-
1983
- 1983-12-08 JP JP23189683A patent/JPS60123716A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4937079A (ja) * | 1972-08-12 | 1974-04-06 | ||
| JPS5021233A (ja) * | 1973-06-28 | 1975-03-06 | ||
| JPS5091346A (ja) * | 1973-12-12 | 1975-07-22 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1028456A1 (en) * | 1997-09-19 | 2000-08-16 | Nikon Corporation | Stage device, a scanning aligner and a scanning exposure method, and a device manufactured thereby |
| EP1028456A4 (en) * | 1997-09-19 | 2003-03-05 | Nikon Corp | PLATINUM, SCANNING ALIGNMENT DEVICE, AND SCANNING EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY |
| US6906782B2 (en) | 1997-09-19 | 2005-06-14 | Nikon Corporation | Stage apparatus, scanning type exposure apparatus, and device produced with the same |
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