JPS60121401A - 光学装置とその製造方法 - Google Patents
光学装置とその製造方法Info
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- JPS60121401A JPS60121401A JP59162785A JP16278584A JPS60121401A JP S60121401 A JPS60121401 A JP S60121401A JP 59162785 A JP59162785 A JP 59162785A JP 16278584 A JP16278584 A JP 16278584A JP S60121401 A JPS60121401 A JP S60121401A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 53
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 68
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 49
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 claims description 49
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 34
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 claims description 21
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 claims description 18
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 16
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 claims 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 10
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 10
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 4
- XGRPNCOKLIMKBN-UHFFFAOYSA-M trimethylstannanylium;iodide Chemical compound C[Sn](C)(C)I XGRPNCOKLIMKBN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl iodide Chemical compound C[Si](C)(C)I CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical group SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010504 bond cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- LPEPZBJOKDYZAD-UHFFFAOYSA-N flufenamic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1NC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 LPEPZBJOKDYZAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N mercury xenon Chemical compound [Xe].[Hg] VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001782 photodegradation Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000036647 reaction Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、多孔質のガラス体内に形成された光学パター
ンに基づく光学装置および該光学パターンの製造方法に
関する。本発明が対象とする特に好ましい光学パターン
は、ガラス、体内に延びる複数の円筒から成るアレイ(
配列)である。しかして、それらの円筒のそれぞれは半
径方向に沿って変化している所定の屈折率を有している
。このように、本発明の光学装置は、半径方向の距離に
応じて、すなわち、円筒の中心軸から外側に・向かって
放物状(parabo 1 ic )に屈折率が変化し
ていることによって、レンズと同様の性質を発揮する。
ンに基づく光学装置および該光学パターンの製造方法に
関する。本発明が対象とする特に好ましい光学パターン
は、ガラス、体内に延びる複数の円筒から成るアレイ(
配列)である。しかして、それらの円筒のそれぞれは半
径方向に沿って変化している所定の屈折率を有している
。このように、本発明の光学装置は、半径方向の距離に
応じて、すなわち、円筒の中心軸から外側に・向かって
放物状(parabo 1 ic )に屈折率が変化し
ていることによって、レンズと同様の性質を発揮する。
本発明の特に改良された実施態様による光学装置におい
ては、円筒レンズ素子のアレイによって写真複写(ph
otocopying )に必要とされるような一対一
の正立共役像(one −to −one erect
conjugate image) f得ることができ
る。
ては、円筒レンズ素子のアレイによって写真複写(ph
otocopying )に必要とされるような一対一
の正立共役像(one −to −one erect
conjugate image) f得ることができ
る。
4−
従来の技術
本発明と同一人の出願に係る特願昭57−107522
号(特開昭58−49639号)には、多孔質ガラスに
光分解性有機金属物質を含浸させ、含浸後のガラスを選
択的に光分解させることによって、多孔質ガラスに光学
パターン全形成させる方法が開示されている。形成され
る光学パターンとしては、屈折率分布パター7(例えば
、レンズ)および光学濃度パターンが挙げられる。
号(特開昭58−49639号)には、多孔質ガラスに
光分解性有機金属物質を含浸させ、含浸後のガラスを選
択的に光分解させることによって、多孔質ガラスに光学
パターン全形成させる方法が開示されている。形成され
る光学パターンとしては、屈折率分布パター7(例えば
、レンズ)および光学濃度パターンが挙げられる。
この特許出願において光分解性有機金属物質とは、光に
暴露されたときに結合の分解を受けて光分解による金属
−有機中間体を生成するものとして定義されている。そ
して、この中間体は、反応性を有すること、すなわち、
水酸基を介して多孔表面と反応して配位化合物ないしは
強い結合を生じる能力を有することが好ましいとされて
いる。
暴露されたときに結合の分解を受けて光分解による金属
−有機中間体を生成するものとして定義されている。そ
して、この中間体は、反応性を有すること、すなわち、
水酸基を介して多孔表面と反応して配位化合物ないしは
強い結合を生じる能力を有することが好ましいとされて
いる。
また、多孔質ガラスとは、ザブミクロンの直径を有する
孔が互いに連結されて多数存在し、この孔の中に有機金
属物質が液体または気体として導入され得るように、な
ったものであると記載されている。そのようなガラスは
、米国特許第2,106,744号、同第2.2 ]、
5,036号および同第2,221,709号に記載
されているような相分離法や浸出法によって製造される
のが好ましいとされている。
孔が互いに連結されて多数存在し、この孔の中に有機金
属物質が液体または気体として導入され得るように、な
ったものであると記載されている。そのようなガラスは
、米国特許第2,106,744号、同第2.2 ]、
5,036号および同第2,221,709号に記載
されているような相分離法や浸出法によって製造される
のが好ましいとされている。
上記の特許出願に開示されているように、ガラスの非光
分解領域に存する有機金属物質を洗浄や揮発によって除
去することによって該ガラスを多孔状態に戻すことがで
きる。これによって、該領域において反応が更に進行し
て光学パターンが不鮮明になったり歪むことが回避され
る。しかしながら、多孔質ガラスは、還元条件下におい
て水分や異物質に対する吸収性が高いという特性を有し
、この性質は光学装置において有害である。勿論、多孔
質ガラスを硬化して非多孔質状態にすることもできるが
、これは高温工程を必要とし、該工程そのものが光学的
諸性質を損うこともある。
分解領域に存する有機金属物質を洗浄や揮発によって除
去することによって該ガラスを多孔状態に戻すことがで
きる。これによって、該領域において反応が更に進行し
て光学パターンが不鮮明になったり歪むことが回避され
る。しかしながら、多孔質ガラスは、還元条件下におい
て水分や異物質に対する吸収性が高いという特性を有し
、この性質は光学装置において有害である。勿論、多孔
質ガラスを硬化して非多孔質状態にすることもできるが
、これは高温工程を必要とし、該工程そのものが光学的
諸性質を損うこともある。
また、有機金属化合物の光分解によって形成されたレン
ズ素子の光学的効力を高めることが望まれることが多く
、特に、像形成の目的でレンズアレイが形成されたとき
にこのことが当てはまる。そのような装置において可変
パラメーターは、屈折率の差すなわち形成された屈折率
変化(孔max −71<)によって定まるレンズの度
(1ens power )、およびレンズ系の厚さく
ガラスの厚さ)である。
ズ素子の光学的効力を高めることが望まれることが多く
、特に、像形成の目的でレンズアレイが形成されたとき
にこのことが当てはまる。そのような装置において可変
パラメーターは、屈折率の差すなわち形成された屈折率
変化(孔max −71<)によって定まるレンズの度
(1ens power )、およびレンズ系の厚さく
ガラスの厚さ)である。
屈折率分布レンズ(gradient 1ndex 1
ens) の光学的性質に関する詳説は、F 、 Ka
pronによるJournal of the 0pt
ical 5ociety of America、6
0 。
ens) の光学的性質に関する詳説は、F 、 Ka
pronによるJournal of the 0pt
ical 5ociety of America、6
0 。
1433〜36(1970)の論文に見出される。また
、J 、 D 、 ReesによるApplied 0
ptics 、 2 ] 、 1009(1962)に
おける論文は、−均一共役像形成用のレンズアレイにつ
いて記載している。
、J 、 D 、 ReesによるApplied 0
ptics 、 2 ] 、 1009(1962)に
おける論文は、−均一共役像形成用のレンズアレイにつ
いて記載している。
−均一の正立共役像を形成することのできる像形成装置
を得る条件は、(1)レンズ中に形成される屈折率の差
を増大させることによって個々のレンズ素子に好適な光
学的効力(Qptical strength ) f
付与することができるか、または(212mmよりも大
きい厚さのガラスを使用できるかであると考えられた。
を得る条件は、(1)レンズ中に形成される屈折率の差
を増大させることによって個々のレンズ素子に好適な光
学的効力(Qptical strength ) f
付与することができるか、または(212mmよりも大
きい厚さのガラスを使用できるかであると考えられた。
このために、露光時間を長くすることによって、多孔質
ガラス体内の光分解効果および(または)処理深さを太
きくしようとする試みがなされてきた。
ガラス体内の光分解効果および(または)処理深さを太
きくしようとする試みがなされてきた。
その基本的な目的は、半径方向の屈折率の変化、すなわ
ち、レンズの度を高めることであった。また、ガラス体
の厚さ方向の全体に亘って該効果をできるだけ均一にす
ることも所望された。しかしながら、露光を長くすると
、露光用光線の光軸に沿って軸状に急勾配の屈折率分布
を形成しがちであることが見出された。この結果、像が
歪み、非対称に々つた。更に、このような悪影響は露光
時間に応じて著しく増大した。
ち、レンズの度を高めることであった。また、ガラス体
の厚さ方向の全体に亘って該効果をできるだけ均一にす
ることも所望された。しかしながら、露光を長くすると
、露光用光線の光軸に沿って軸状に急勾配の屈折率分布
を形成しがちであることが見出された。この結果、像が
歪み、非対称に々つた。更に、このような悪影響は露光
時間に応じて著しく増大した。
かくして、露光時間を制限することが重要であると考え
られた。尤も、こうすると、所望の像形成効果を得るた
めに半径方向に屈折率を充分に変化させることはできな
かった。
られた。尤も、こうすると、所望の像形成効果を得るた
めに半径方向に屈折率を充分に変化させることはできな
かった。
また、概して言えば、ガラスの厚さ全豹2mmよりも大
きくすることは行なわれなかった。
きくすることは行なわれなかった。
この理由は、背面に好適なレンズの度を与えるのに必要
な露光量が大きくなりすぎたからである。
な露光量が大きくなりすぎたからである。
同時に行なっている。該出願に記載した方法においては
、2朋を超えない厚さのサンプルを複数調製する。しか
る後、各サンプルについて露光を調整することによって
軸方向の屈折率変化を制御し、次いで、それらの複数の
サンプルを整合し、然るべき位置に互いに結合して所望
の厚さを得る。しかしながら、この方法は余分の工程全
必要とするため、多くの場合においてそのような工程を
回避する方が好ましい。
、2朋を超えない厚さのサンプルを複数調製する。しか
る後、各サンプルについて露光を調整することによって
軸方向の屈折率変化を制御し、次いで、それらの複数の
サンプルを整合し、然るべき位置に互いに結合して所望
の厚さを得る。しかしながら、この方法は余分の工程全
必要とするため、多くの場合においてそのような工程を
回避する方が好ましい。
更に、レンズ素子の間に介在するマトリックス材料は不
透明にすることができるものであることが非常に望まれ
る。像形成装置において、このようにすると、例えば、
[クロストーク(cross −talk ) J お
よびそれに伴なう像のほけが極めて少なくなる。この目
的のために使用されるレンズ素子は、多孔質ガラス体中
に延在する円筒状領域を構成し、その端部がガラス体の
両端面において平面を成してレンズ様素子として機能し
、ガラス体の孔中の有機金属化合物の光分解によって、
付与された所定の半径方向屈折率分布を有している。
透明にすることができるものであることが非常に望まれ
る。像形成装置において、このようにすると、例えば、
[クロストーク(cross −talk ) J お
よびそれに伴なう像のほけが極めて少なくなる。この目
的のために使用されるレンズ素子は、多孔質ガラス体中
に延在する円筒状領域を構成し、その端部がガラス体の
両端面において平面を成してレンズ様素子として機能し
、ガラス体の孔中の有機金属化合物の光分解によって、
付与された所定の半径方向屈折率分布を有している。
発明の目的
本発明の基本的な目的は、特願昭57−107522号
(特開昭58−49639号)に記載されている製品お
よび方法を改良することにある。
(特開昭58−49639号)に記載されている製品お
よび方法を改良することにある。
本発明の他の目的は、そのような改良を簡単且つ低摩に
行なう手法を提供することにある。
行なう手法を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、複数のレンズ素子のアレイか
ら成り、各レンズ素子が半径方向に1分布した屈折率を
有する改良された像形成装置を提供することにある。
ら成り、各レンズ素子が半径方向に1分布した屈折率を
有する改良された像形成装置を提供することにある。
本発明の別の目的は、特願昭57−1.07522号(
特開昭58.−49639号)に開示されている光学パ
ターンを適用することによってそのような像形成製Rを
得ることにある。
特開昭58.−49639号)に開示されている光学パ
ターンを適用することによってそのような像形成製Rを
得ることにある。
本発明の更に別の目的は、像透過素子(imagetr
ansmitting elements ) が不透
明マトリックスによって囲まれ巨つ該マトリックスによ
って分離されているような光学像形成装置全提供するこ
とにある。
ansmitting elements ) が不透
明マトリックスによって囲まれ巨つ該マトリックスによ
って分離されているような光学像形成装置全提供するこ
とにある。
本発明の特殊な目的は、光学パターンを含有する多孔質
ガラスを処理して、環境の影響に対する抵抗性を付与す
ることにある。
ガラスを処理して、環境の影響に対する抵抗性を付与す
ることにある。
本発明の別の特殊な目的は、光学パターンを囲むマトリ
ックスガラスを通る光の透過を減少させることにある〇 本発明の更に別の特殊な目的は、特願昭57−1075
22号(特開昭58−49639号)に 11− 従って形成される光学パターン、詳細には、レンズアレ
イの元学的効力度全向上させることにある。
ックスガラスを通る光の透過を減少させることにある〇 本発明の更に別の特殊な目的は、特願昭57−1075
22号(特開昭58−49639号)に 11− 従って形成される光学パターン、詳細には、レンズアレ
イの元学的効力度全向上させることにある。
発明の概要
本発明は、多孔質ガラス体から構成され、該ガラス体の
一つまたはそれ以上の特定の領域の孔に存する有機金属
化合物が光分解されることによってそれらの領域に形成
された光学パターンを有する光学装置であって、前記多
孔質ガラス体に含有されている重合性の有機官能シリコ
ーン液が含有され、該シリコーン液が実質的に前記特定
領域においてのみ重合して光学パターンを形成している
ことを特徴とする光学装置を提供するものである。
一つまたはそれ以上の特定の領域の孔に存する有機金属
化合物が光分解されることによってそれらの領域に形成
された光学パターンを有する光学装置であって、前記多
孔質ガラス体に含有されている重合性の有機官能シリコ
ーン液が含有され、該シリコーン液が実質的に前記特定
領域においてのみ重合して光学パターンを形成している
ことを特徴とする光学装置を提供するものである。
本発明の1実施態様においては、光学パターンは屈折率
分布を有する。像形成を行なうためには、光学パターン
は、多孔質ガラス体中に延在する複数の円筒状レンズ素
子(cyl 1nd−rical 1ens syst
ems)のアレイを成し、それらのレンズ素子は所定の
半径方向屈折率分布全方= 12− し、各レンズ素子の端部がガラス体の両端において平面
全形成してレンズ様素子(1ens −1ike el
ements ) として機能し、更に、それらのレン
ズ素子は、本質的に重合していない有機官能シリコーン
液(organo functional 5ilic
onefluid ) 2含有する多孔質ガラスから成
るマトリックスによって全体が囲まれている。
分布を有する。像形成を行なうためには、光学パターン
は、多孔質ガラス体中に延在する複数の円筒状レンズ素
子(cyl 1nd−rical 1ens syst
ems)のアレイを成し、それらのレンズ素子は所定の
半径方向屈折率分布全方= 12− し、各レンズ素子の端部がガラス体の両端において平面
全形成してレンズ様素子(1ens −1ike el
ements ) として機能し、更に、それらのレン
ズ素子は、本質的に重合していない有機官能シリコーン
液(organo functional 5ilic
onefluid ) 2含有する多孔質ガラスから成
るマトリックスによって全体が囲まれている。
多孔質ガラスは、例えば、ホウケイ酸ガラスの相分離お
よび浸出によって調製されたものであり、光分解生成物
はガラスまたは該ガラス上に吸収されている水酸基と反
応させることができる。
よび浸出によって調製されたものであり、光分解生成物
はガラスまたは該ガラス上に吸収されている水酸基と反
応させることができる。
本発明は、更に、ガラス中に光学パターンを形成させる
方法を提供し、該方法は、a、多孔質ガラス体に光分解
性有機金属、化合物を含浸させ、 b、パターン化した光分解光源に前記含浸後のガラス体
を露光して、該ガラス体の特定の部分を選択的に露光し
、それらの部分に存する有機金属化合物の少なくとも一
部分を光分解して、該ガラス中で安定な光分解中間体に
転化させ、 C0非露光領域にあジ光分解転化しなかった有機金属化
合物を除去して、パターン化された領域を囲む多孔質ガ
ラスマトリックスを形成し、 d、光学パターンが付力された前記多孔質ガラス体に、
重合性を有する有機官能シリコーン液を充分に含浸させ
、該パターン領域に存するシリコーン液を200℃以下
で焼成する(好ましくは、水蒸気下に)こと等によりほ
ぼ完全に重合させるとともに、マトリックスガラス中に
存するシリコーン液を本質的に非重合状態に維持するこ
とを特徴とするものである。
方法を提供し、該方法は、a、多孔質ガラス体に光分解
性有機金属、化合物を含浸させ、 b、パターン化した光分解光源に前記含浸後のガラス体
を露光して、該ガラス体の特定の部分を選択的に露光し
、それらの部分に存する有機金属化合物の少なくとも一
部分を光分解して、該ガラス中で安定な光分解中間体に
転化させ、 C0非露光領域にあジ光分解転化しなかった有機金属化
合物を除去して、パターン化された領域を囲む多孔質ガ
ラスマトリックスを形成し、 d、光学パターンが付力された前記多孔質ガラス体に、
重合性を有する有機官能シリコーン液を充分に含浸させ
、該パターン領域に存するシリコーン液を200℃以下
で焼成する(好ましくは、水蒸気下に)こと等によりほ
ぼ完全に重合させるとともに、マトリックスガラス中に
存するシリコーン液を本質的に非重合状態に維持するこ
とを特徴とするものである。
関連文献
既に述べたものの他に、次の各特許が本発明に関連する
従来技術として注目される。−米国特許第2.31.5
,328号(Hood等)には、多種の材料を多孔質ガ
ラスに含浸する方法が開示されている。それらの材料に
は、モノマーとして導入され、現場重合され得るプラス
チックや樹脂が包含される。
従来技術として注目される。−米国特許第2.31.5
,328号(Hood等)には、多種の材料を多孔質ガ
ラスに含浸する方法が開示されている。それらの材料に
は、モノマーとして導入され、現場重合され得るプラス
チックや樹脂が包含される。
米国特許第3,930,821号および第3,930,
822号(Elmer ) Kは、炭素含有ガラスレジ
スタの製造方法が開示されており、該方法においては、
多孔質ガラスにフルフリルアルコールが含浸され、該ア
ルコールが重合されて樹脂になり、そして、含浸後のガ
ラス体が非酸化雰囲気下に焼成されて該樹脂は炭素に転
化している。
822号(Elmer ) Kは、炭素含有ガラスレジ
スタの製造方法が開示されており、該方法においては、
多孔質ガラスにフルフリルアルコールが含浸され、該ア
ルコールが重合されて樹脂になり、そして、含浸後のガ
ラス体が非酸化雰囲気下に焼成されて該樹脂は炭素に転
化している。
米国特許第3,462,632号(Ru5si )には
、接着剤層に埋設された微細なガラスビードから成る単
一の層を有する白熱ランプが開示されている。該ガラス
ビードはランプ球の外面にあって、該球中にその球の形
状にほぼ等しい浮動像を形成するようになっている。
、接着剤層に埋設された微細なガラスビードから成る単
一の層を有する白熱ランプが開示されている。該ガラス
ビードはランプ球の外面にあって、該球中にその球の形
状にほぼ等しい浮動像を形成するようになっている。
発明の構成とその作用効果
本発明は、基本的には、前述した特願昭57−1075
22号(特開昭58−49639号)に開示された発明
を改良し、あるいは、該発明に別の要素を加えたもので
ある。説明の重複を少なくするために、該出願を引用し
て本発明の出発点として供することにする。
22号(特開昭58−49639号)に開示された発明
を改良し、あるいは、該発明に別の要素を加えたもので
ある。説明の重複を少なくするために、該出願を引用し
て本発明の出発点として供することにする。
その出願に開示された先行方法においては、多孔質中ガ
ラスの特定領域に存する有機金属化合物を光分解するこ
とによって光学パターンが得られる。そして、光分解生
成物はガラスと反応または結合することによって該パタ
ーンの形状全安定にすることが望ましい。また、これと
同様の目的で、非露光領域に存する物質である未光分解
有機金属化合物は、洗浄、蒸発、その他の適当な手段に
より除去される。本発明のためには、このような工程が
先ず必要である。
ラスの特定領域に存する有機金属化合物を光分解するこ
とによって光学パターンが得られる。そして、光分解生
成物はガラスと反応または結合することによって該パタ
ーンの形状全安定にすることが望ましい。また、これと
同様の目的で、非露光領域に存する物質である未光分解
有機金属化合物は、洗浄、蒸発、その他の適当な手段に
より除去される。本発明のためには、このような工程が
先ず必要である。
ガラス中に所望の特定の光学パターンを形成させるには
、多孔質ガラス全体を有機金属化合物で含浸させ、次に
、含浸後のガラスを不透明マスクを介して露光させると
便利である。該マスクには、刻印その他の方法によって
所望のパターンを付与して、光分解用光線を透過できる
ようにしておく。
、多孔質ガラス全体を有機金属化合物で含浸させ、次に
、含浸後のガラスを不透明マスクを介して露光させると
便利である。該マスクには、刻印その他の方法によって
所望のパターンを付与して、光分解用光線を透過できる
ようにしておく。
特に興味のあるパターンは、写真複写機(photoc
opier )の像形成に用いられるようなレンズアレ
イである。第1図には、そのような目的に用いられるの
に好適なマスクを誇張して示している。マスク10は全
体的には不透明であるが、不均一な間隔で配置された開
口12から成るパターンが設けられて、ガラス中の円筒
状領域に対応して光を透過させ得るようになっている。
opier )の像形成に用いられるようなレンズアレ
イである。第1図には、そのような目的に用いられるの
に好適なマスクを誇張して示している。マスク10は全
体的には不透明であるが、不均一な間隔で配置された開
口12から成るパターンが設けられて、ガラス中の円筒
状領域に対応して光を透過させ得るようになっている。
光分解、および、それに続いて、光分解生成物を定着さ
せるために加熱を行なった後、ガラスの非光分解部分、
すなわち、マスク10の不透明部分14に対応する部分
から有機金属化合物を除去する。かくして、゛多孔質ガ
ラス品は、本発明に従う処理に供され得るようになる。
せるために加熱を行なった後、ガラスの非光分解部分、
すなわち、マスク10の不透明部分14に対応する部分
から有機金属化合物を除去する。かくして、゛多孔質ガ
ラス品は、本発明に従う処理に供され得るようになる。
本発明者は、先ず、ガラスの孔を充填することによって
、そのような孔に不要な物質が吸収されないようにする
ことを試みた。このため、シリコーン液を選択したが、
これは、シリコーン液は疎水性であり、化学的且つ物理
的に不活性な性質を有していることが知られているから
である。更に、シリコーン液は、含浸を容易にするよう
な流動性を有している。
、そのような孔に不要な物質が吸収されないようにする
ことを試みた。このため、シリコーン液を選択したが、
これは、シリコーン液は疎水性であり、化学的且つ物理
的に不活性な性質を有していることが知られているから
である。更に、シリコーン液は、含浸を容易にするよう
な流動性を有している。
多くのそのような重合性のシリコーン液は適当なシリコ
ーン製造業者(例えば、米国ミンガン州ミツドランドの
ダウコーニング社DOWCornjng (:’orp
oration )から入手でき、そのカタログを見れ
ば該液の特徴および反応性を知ることができる。
ーン製造業者(例えば、米国ミンガン州ミツドランドの
ダウコーニング社DOWCornjng (:’orp
oration )から入手でき、そのカタログを見れ
ば該液の特徴および反応性を知ることができる。
しかして、光分解させた多孔質ガラスサンプルに重合性
を有する有機官能シリコーン液を含浸させたものを熱処
理すると、2つの興味深い現象が認められた。第一の現
象として、非露光、すなわち非光分解領域には、メニス
カス効果が出現してマトリックス領域を覆う傾向全示し
、他方、レンズ領域(光分解された物質が伺着している
領域)は本質的に清澄であった。
を有する有機官能シリコーン液を含浸させたものを熱処
理すると、2つの興味深い現象が認められた。第一の現
象として、非露光、すなわち非光分解領域には、メニス
カス効果が出現してマトリックス領域を覆う傾向全示し
、他方、レンズ領域(光分解された物質が伺着している
領域)は本質的に清澄であった。
このような特定の効果について完全に旧学的な説明を行
なうことはできないが、一応、次のように考えられる。
なうことはできないが、一応、次のように考えられる。
非処理ブランクに存在するレンズは、半径方向の屈折率
分布全力えるように分布した金属酸化物から構成され、
これによって、そのようなレンズアレイが像形成に寄与
する。他方、レンズを囲むマ) IJラックス中金属の
濃度は、レンズ中の金属の濃度よりもかなり低い。金属
はシリコーン液の重合のための触媒として機能すると考
えられるので、マトリックスよりもレンズにおいて樹脂
の形成が迅速に進行する。80°Cで加熱すると、非反
応シリコーン液の幾らかが表面に浸出する。そして、該
シリコーン液の幾分かは気化することもある。しかして
、冷却時には、膨張した非反応シリコーン液が収縮して
、多孔質ガラススケルトン内で無数のメニスカス金形成
し、これがマトリックスを不透明にする。
分布全力えるように分布した金属酸化物から構成され、
これによって、そのようなレンズアレイが像形成に寄与
する。他方、レンズを囲むマ) IJラックス中金属の
濃度は、レンズ中の金属の濃度よりもかなり低い。金属
はシリコーン液の重合のための触媒として機能すると考
えられるので、マトリックスよりもレンズにおいて樹脂
の形成が迅速に進行する。80°Cで加熱すると、非反
応シリコーン液の幾らかが表面に浸出する。そして、該
シリコーン液の幾分かは気化することもある。しかして
、冷却時には、膨張した非反応シリコーン液が収縮して
、多孔質ガラススケルトン内で無数のメニスカス金形成
し、これがマトリックスを不透明にする。
第二の現象、そして、より重要であると考えられる現象
は、シリコーン処理によってレンズの度(1ens p
ower )すなわち光学的効力(optical、
strength)が増大するという効果が認められる
ということである。すなわち、レンズの度の大きさは2
倍になることもある。この結果、厚さが約2 mmのレ
ンズ(ガラス体)を用いても、−均一の正立共役像全形
成する可能性が高まる。前述したように、この厚さは、
望ましくない軸方向の屈折率分布を起こすことなく、露
光光線が浸透することができるほぼ上限値である。
は、シリコーン処理によってレンズの度(1ens p
ower )すなわち光学的効力(optical、
strength)が増大するという効果が認められる
ということである。すなわち、レンズの度の大きさは2
倍になることもある。この結果、厚さが約2 mmのレ
ンズ(ガラス体)を用いても、−均一の正立共役像全形
成する可能性が高まる。前述したように、この厚さは、
望ましくない軸方向の屈折率分布を起こすことなく、露
光光線が浸透することができるほぼ上限値である。
かくして、本発明に従えば、多孔質ガラス体に有機金属
化合物を含浸させ、選択的な光分解を行なって特定領域
における有機金属化合物を分解させ、洗浄または加熱を
行なうことによって非分解有機金属化合物を除去し、重
合性を有する有機官能シリコーン液を含浸し、次いで、
熱処理を行なうことによってレンズ領域内で前記シリコ
ーン液を重合させる。
化合物を含浸させ、選択的な光分解を行なって特定領域
における有機金属化合物を分解させ、洗浄または加熱を
行なうことによって非分解有機金属化合物を除去し、重
合性を有する有機官能シリコーン液を含浸し、次いで、
熱処理を行なうことによってレンズ領域内で前記シリコ
ーン液を重合させる。
前述した特願昭57−107522号(%開昭58、−
49639号)には、多孔質ガラスに含浸させた有機金
属化合物を選択的に光分解することによって該ガラスに
光学パターンを形成するための材料と方法が詳述されて
いる。本明細書においては該特許出願全引用することに
よって再び説明することを省略する。一般的に言えば、
本発明における有機金属化合物の有機成分として、該特
許出願に開示されている各種の成分が使用可能である。
49639号)には、多孔質ガラスに含浸させた有機金
属化合物を選択的に光分解することによって該ガラスに
光学パターンを形成するための材料と方法が詳述されて
いる。本明細書においては該特許出願全引用することに
よって再び説明することを省略する。一般的に言えば、
本発明における有機金属化合物の有機成分として、該特
許出願に開示されている各種の成分が使用可能である。
また、金属成分としては、周期律表mB族、■A族、■
B族、VB族、VIB族、■B族および■族から選ばれ
るものが使用され得る。しかして、本発明者らは、ヨー
ドトリメチルスズ(I SnMes)、ヘキサメチルニ
スズ(Me6 S n、) 、プロモトリチルケルマニ
ウム(BrGeMe3)およびヨードトリメチルシラン
(I S iMe3)のような周期律表第1VB族の有
機金属アルキルまたはアルキルハライドを用いたときに
最適の結果が得られることを見出している。効果的な有
機金属化合物を形成することができる金属であって触媒
活性を有するものとして認められている他の金属として
は、マンガン、鉄、チタン、クロム、タングステン、コ
バルト、バナジウム、ハフニウム、ジルコニウム、ニオ
ブおよびタンタルが挙げられる。
B族、VB族、VIB族、■B族および■族から選ばれ
るものが使用され得る。しかして、本発明者らは、ヨー
ドトリメチルスズ(I SnMes)、ヘキサメチルニ
スズ(Me6 S n、) 、プロモトリチルケルマニ
ウム(BrGeMe3)およびヨードトリメチルシラン
(I S iMe3)のような周期律表第1VB族の有
機金属アルキルまたはアルキルハライドを用いたときに
最適の結果が得られることを見出している。効果的な有
機金属化合物を形成することができる金属であって触媒
活性を有するものとして認められている他の金属として
は、マンガン、鉄、チタン、クロム、タングステン、コ
バルト、バナジウム、ハフニウム、ジルコニウム、ニオ
ブおよびタンタルが挙げられる。
光学パターンの1つ全発現させるためには、例えば、多
孔質ガラス体に、有機金属化合物または該化合物の溶液
を完全に含浸させればよい。次いで、不透明マスク(こ
のマスクに、明瞭な透明域としてパターンが形成されて
いる)を介して、光分解用光源、例えば、水銀アークラ
ンプにガラス体全露光する。このようにすると、マスク
のパターン領域に対応する孔にある有機金属化合物は分
解されるが該領域に隣接する領域は変化しない。光分解
生成物はガラスと反応し、または該カラスと結合する。
孔質ガラス体に、有機金属化合物または該化合物の溶液
を完全に含浸させればよい。次いで、不透明マスク(こ
のマスクに、明瞭な透明域としてパターンが形成されて
いる)を介して、光分解用光源、例えば、水銀アークラ
ンプにガラス体全露光する。このようにすると、マスク
のパターン領域に対応する孔にある有機金属化合物は分
解されるが該領域に隣接する領域は変化しない。光分解
生成物はガラスと反応し、または該カラスと結合する。
光゛分解を受けなかった有機金属化合物は洗浄または蒸
発によって除去することができる。
発によって除去することができる。
本発明においては、市販の重合性含有する有機官能シリ
コーン液のうち任意のものを使用することができる。製
造業者によって説明されているように、シロキサンに存
する有機官能基の主要な機能は、反応部位(react
ionsite) として機能することである。官能基
としては任意の有機反応基でよいとされているが、市販
されているものとしては、アミン基、カルボン酸基、第
二級水酸基、第一級水酸基およびメルカプタン基が挙げ
られる。
コーン液のうち任意のものを使用することができる。製
造業者によって説明されているように、シロキサンに存
する有機官能基の主要な機能は、反応部位(react
ionsite) として機能することである。官能基
としては任意の有機反応基でよいとされているが、市販
されているものとしては、アミン基、カルボン酸基、第
二級水酸基、第一級水酸基およびメルカプタン基が挙げ
られる。
この種の液体の利点の一つは、溶媒その他の異物質の助
けを必要とせずに孔に侵入する流動性を有することであ
る。しかしながら、レンズの度ないしは光学的効力を向
上させる能力は、調整した量の少量の溶媒に極めて依存
することが見出された。かくして、本発明者は、オ/1
ll−) p” ニキシレン、パラ−キシレンおよびメ
タ−キシレンの混合物(一般に、「キシレン」と略称さ
れている)を用いた。すなわち、90:10のシリコー
ン−キシレン混合物音用いると、純粋なシリコーン液を
用いる場合よりもレンズの度が大幅に上昇する。しかし
ながら、その効果は、溶媒の比率が15%まで増加する
と失われるようである。
けを必要とせずに孔に侵入する流動性を有することであ
る。しかしながら、レンズの度ないしは光学的効力を向
上させる能力は、調整した量の少量の溶媒に極めて依存
することが見出された。かくして、本発明者は、オ/1
ll−) p” ニキシレン、パラ−キシレンおよびメ
タ−キシレンの混合物(一般に、「キシレン」と略称さ
れている)を用いた。すなわち、90:10のシリコー
ン−キシレン混合物音用いると、純粋なシリコーン液を
用いる場合よりもレンズの度が大幅に上昇する。しかし
ながら、その効果は、溶媒の比率が15%まで増加する
と失われるようである。
シリコーンが含浸されたガラス体全熱処理することによ
って、シリコーン液が選択的に重合して樹脂になる。こ
の操作は、例えば、約200℃よりも低い温度(好まし
くは、100°C程度)における炉内加熱によって行な
われる。そのような処理後には、光分解生成物全含有す
る領域においてはシリコーン液がほぼ完全に重合樹脂に
転化していることが見出される。これに対して、マトリ
ックス領域においては、そのような転化は殆んど又は全
く起こらず、シリコーンは該領域に残存している。
って、シリコーン液が選択的に重合して樹脂になる。こ
の操作は、例えば、約200℃よりも低い温度(好まし
くは、100°C程度)における炉内加熱によって行な
われる。そのような処理後には、光分解生成物全含有す
る領域においてはシリコーン液がほぼ完全に重合樹脂に
転化していることが見出される。これに対して、マトリ
ックス領域においては、そのような転化は殆んど又は全
く起こらず、シリコーンは該領域に残存している。
シリコーンを含浸したガラス体の重合処理は、水蒸気の
存在下に行なうのが好ましい。
存在下に行なうのが好ましい。
雰囲気中には少なくとも20重量%の水蒸気が含有され
るようにすべきであり、完全な水蒸気雰囲気にするのが
一層好ましい。水分の効果は未だ解っていないが、シリ
コーン重合によってレンズの度を増大させるのに必要で
あるように考えられる。
るようにすべきであり、完全な水蒸気雰囲気にするのが
一層好ましい。水分の効果は未だ解っていないが、シリ
コーン重合によってレンズの度を増大させるのに必要で
あるように考えられる。
シリコーン液を完全に含浸するのに必要な時間は、重合
反応を起こす加熱時間などの特定の条件に応じて広範囲
に変化し得る。一般的に言えば、少なくとも2時間の含
浸を行なうのが好ましく、24時間行えば充分であった
。加熱時間は、一般に、2時間で充分であるが、安全の
ためには4〜5時間とすることが好ましい。本発明にお
いては、通常、第2回以上の含浸および加熱を繰り返し
て行なうことによって、孔の充填およびガラス体の封止
全確実にする。最初の加熱が充分であれば、レンズの度
がそれ以上向上することはない。
反応を起こす加熱時間などの特定の条件に応じて広範囲
に変化し得る。一般的に言えば、少なくとも2時間の含
浸を行なうのが好ましく、24時間行えば充分であった
。加熱時間は、一般に、2時間で充分であるが、安全の
ためには4〜5時間とすることが好ましい。本発明にお
いては、通常、第2回以上の含浸および加熱を繰り返し
て行なうことによって、孔の充填およびガラス体の封止
全確実にする。最初の加熱が充分であれば、レンズの度
がそれ以上向上することはない。
実 施 例
厚さが約2 mmで1平方インチの多孔質ガラスプレー
ト(複数)を用いてガラスブランク(ガラス素材)の実
験を行なった。これらのガラスプレートは、ホウケイ酸
ガラス金熱処理および浸出することによって得られた高
シリカ含有多孔質ガラスであるコーニング社のコード7
930ガラスから切り出したものである。
ト(複数)を用いてガラスブランク(ガラス素材)の実
験を行なった。これらのガラスプレートは、ホウケイ酸
ガラス金熱処理および浸出することによって得られた高
シリカ含有多孔質ガラスであるコーニング社のコード7
930ガラスから切り出したものである。
5体積部の塩化メチレン中に1体積部のヨードトリメチ
ルスズ(CHs )s S n工に溶解させた溶液に各
プレートラ浸漬させた。該溶液は迅速に多孔質ガラスに
浸透した。次いで、プレートを取り出し、空気乾燥して
(この際、熱処理を行なうことがある)、遊離のヨウ素
および溶媒(塩化メチレン)を除去した。
ルスズ(CHs )s S n工に溶解させた溶液に各
プレートラ浸漬させた。該溶液は迅速に多孔質ガラスに
浸透した。次いで、プレートを取り出し、空気乾燥して
(この際、熱処理を行なうことがある)、遊離のヨウ素
および溶媒(塩化メチレン)を除去した。
次いで、03罷の円形の開口が互いに0.32mmの間
隔で配置された露光用多孔マスクを介して、前記の含浸
処理後のガラスプレー)k紫外線光源に60分間露光し
た。この操作の後、該ガラスを熱処理(好ましくは、6
00℃より高温で1時間)して屈折率パターンを定着さ
せた。そして、非反応ヨードトリメチルスズおよび有機
成分をガラスから除去し、孔中に酸化スズのみを残存さ
せた。
隔で配置された露光用多孔マスクを介して、前記の含浸
処理後のガラスプレー)k紫外線光源に60分間露光し
た。この操作の後、該ガラスを熱処理(好ましくは、6
00℃より高温で1時間)して屈折率パターンを定着さ
せた。そして、非反応ヨードトリメチルスズおよび有機
成分をガラスから除去し、孔中に酸化スズのみを残存さ
せた。
この操作による生成物は第2図に図示されている。この
第2図は、上記のように処理したグレート全屈折計を介
して約100倍に拡大して見た写真であり、低屈折率の
ガラスマトリックス中に円形の高屈折率領域が形成され
ていることが明瞭に認められる。光分解工程および定着
工程によって生じる屈折率の差は、高屈折率領域と低屈
折率領域の屈折率の差が約0.0012の場合、600
0mにおいて約4のフリンジに相当する。
第2図は、上記のように処理したグレート全屈折計を介
して約100倍に拡大して見た写真であり、低屈折率の
ガラスマトリックス中に円形の高屈折率領域が形成され
ていることが明瞭に認められる。光分解工程および定着
工程によって生じる屈折率の差は、高屈折率領域と低屈
折率領域の屈折率の差が約0.0012の場合、600
0mにおいて約4のフリンジに相当する。
このように調製した多孔質のガラスブランクを電気炉中
で約200℃まで徐々に加熱し、約30分間保持するこ
とによって、吸着している水分子を除去した。次いで、
該ブランクを乾燥条件下に冷却した後、キシレン中に溶
解させた有機官能シリコーン液(ダウコーニング社(]
)ow−Corning Corporation )
から市販されているDC1107シリコーン液)の2重
量%溶液に直ちに浸漬させた。30分間浸漬させ− 2
7 = た後、ブランクを取、!7田し、液をぬぐい去り、更に
、100℃において30分間加熱した。
で約200℃まで徐々に加熱し、約30分間保持するこ
とによって、吸着している水分子を除去した。次いで、
該ブランクを乾燥条件下に冷却した後、キシレン中に溶
解させた有機官能シリコーン液(ダウコーニング社(]
)ow−Corning Corporation )
から市販されているDC1107シリコーン液)の2重
量%溶液に直ちに浸漬させた。30分間浸漬させ− 2
7 = た後、ブランクを取、!7田し、液をぬぐい去り、更に
、100℃において30分間加熱した。
この操作を繰り返して、シリコーンで前処理した多孔質
ガラスブランクを得た。
ガラスブランクを得た。
この前処理ブランクを次いで純粋なシリコーン液、すな
わち100%シリコーン液(DC1107)に浸漬し、
該浸漬状態で環境温度下において1日から3日間にわた
って維持した。
わち100%シリコーン液(DC1107)に浸漬し、
該浸漬状態で環境温度下において1日から3日間にわた
って維持した。
かくして、ガラスの孔をシリコーン液で完全に充填して
、該ブランクから液をぬぐい去り、炉中で約1時間80
℃で加熱し、次いで室温まで徐々に冷却した。
、該ブランクから液をぬぐい去り、炉中で約1時間80
℃で加熱し、次いで室温まで徐々に冷却した。
ブランクを冷却すると、酸化スズを含有する屈折率分布
レンズ素子を囲む多孔質ガラスマトリックスは不透明に
なった。しかしながら、該レンズ素子、すなわち、酸化
スズ含有域は清澄で透明なままであった。
レンズ素子を囲む多孔質ガラスマトリックスは不透明に
なった。しかしながら、該レンズ素子、すなわち、酸化
スズ含有域は清澄で透明なままであった。
次の実施例として、コルドア930多孔質ガラス(コー
ニングガラス社製)のストリップ全希硝識に浸漬して、
その孔を充分に清浄に−28〜 した。その後、該多孔質ガラスを蒸留水で洗浄し乾燥し
た。
ニングガラス社製)のストリップ全希硝識に浸漬して、
その孔を充分に清浄に−28〜 した。その後、該多孔質ガラスを蒸留水で洗浄し乾燥し
た。
このようにして注意深く清浄したコード7930多孔質
ガラスに、前述と同様にしてヨードトリメチルスズを含
浸することによって、10個のサンプル群を調製した。
ガラスに、前述と同様にしてヨードトリメチルスズを含
浸することによって、10個のサンプル群を調製した。
この含浸後の多孔質ガラスサンプルf、2500ワツト
の水銀キセノンランプによる約4901mJ: りも長
波長の光線に露光した。該露光は、直径150ミクロン
で中心間距離207ミクロンの明瞭な開口が多数存在す
る多孔マスクを介して行なわれた。露光時間は2時間と
した。
の水銀キセノンランプによる約4901mJ: りも長
波長の光線に露光した。該露光は、直径150ミクロン
で中心間距離207ミクロンの明瞭な開口が多数存在す
る多孔マスクを介して行なわれた。露光時間は2時間と
した。
このようにして選択的に光分解したガラスサンプルを洗
浄して非光分解有機金属化合物を除去し、次いで加熱し
て孔中に光分解生成物を定着した。
浄して非光分解有機金属化合物を除去し、次いで加熱し
て孔中に光分解生成物を定着した。
これらのサンプルについて測定したレンズの度(D/L
)は40〜55°の範囲にあった。他方、−均一正立
共役像を形成するには180゜より大きくなることが必
要である。
)は40〜55°の範囲にあった。他方、−均一正立
共役像を形成するには180゜より大きくなることが必
要である。
上述のようにして光学パターンが付与されたサンプルを
90%シリコーン液(DC1107として入手できるも
の)の溶液に浸漬した。
90%シリコーン液(DC1107として入手できるも
の)の溶液に浸漬した。
用いた溶媒は10重量−の量のキシレンであった。それ
らのサンプツI;に浸漬したまま3時間から24時間の
範囲で保持した。次いで、それらのサンプルを取り出し
、付着している液をぬぐい去った。その後、水蒸気雰囲
気下に110℃において約4時間加熱した。しかる後、
浸漬を再度行ない、サンプルを乾燥し、更に、環境雰囲
気下に110℃において約1時間加熱した。そして、第
2回目の含浸処理を行なって、孔中にシリコーン液を完
全に充填させ、レンズ領域の重合を完遂して清澄で安定
なレンズアレイを得た。
らのサンプツI;に浸漬したまま3時間から24時間の
範囲で保持した。次いで、それらのサンプルを取り出し
、付着している液をぬぐい去った。その後、水蒸気雰囲
気下に110℃において約4時間加熱した。しかる後、
浸漬を再度行ない、サンプルを乾燥し、更に、環境雰囲
気下に110℃において約1時間加熱した。そして、第
2回目の含浸処理を行なって、孔中にシリコーン液を完
全に充填させ、レンズ領域の重合を完遂して清澄で安定
なレンズアレイを得た。
第1表には各サンプルについて行なった処理のスケジュ
ール(単位は時間)が示されている。なお、第2回目の
加熱はいずれも2時間であった。
ール(単位は時間)が示されている。なお、第2回目の
加熱はいずれも2時間であった。
第 1 弄
1 24 4.4 9.6 1.1
2 24、 4.4 9.6 1.1
3 16.7 4,0 20.8 1.04 16.7
4..0 20.8 1,05 3.2 4.0 8
.7 1.0 6 21.2 4.0 8.7 ]、、07 5.1
4,1 16.3 1,08 5.1 4,1 16.
3 1,09 5.1 4,1 16.3 1.010
5.1 4.1 16.3 1.0各レンズアレイに
ついて、(1)光分解によって当初形成されたとき、(
2)第1回目のシリコーン含浸処理後、および(3)第
2回目の含浸処理後に行なった測定値に基づき、レンズ
の度(D/L )を計算した。計算値は以下の第2表に
示している。表中、FBとは前面、また、BFとは背面
全それぞれ指称する。表には、ガラスの厚さくD二単位
は朋)も併示してぃ 31− る。FBは、当初の露光側の面に対応する側を意味し、
BFは露光面の反対側に対応する側を意味する。BFと
FBの値の一致の程度が高いことは軸方向の非対称性が
殆んどないこと全示唆する。
4..0 20.8 1,05 3.2 4.0 8
.7 1.0 6 21.2 4.0 8.7 ]、、07 5.1
4,1 16.3 1,08 5.1 4,1 16.
3 1,09 5.1 4,1 16.3 1.010
5.1 4.1 16.3 1.0各レンズアレイに
ついて、(1)光分解によって当初形成されたとき、(
2)第1回目のシリコーン含浸処理後、および(3)第
2回目の含浸処理後に行なった測定値に基づき、レンズ
の度(D/L )を計算した。計算値は以下の第2表に
示している。表中、FBとは前面、また、BFとは背面
全それぞれ指称する。表には、ガラスの厚さくD二単位
は朋)も併示してぃ 31− る。FBは、当初の露光側の面に対応する側を意味し、
BFは露光面の反対側に対応する側を意味する。BFと
FBの値の一致の程度が高いことは軸方向の非対称性が
殆んどないこと全示唆する。
2 47.3° 458° 96.8° 96゜8°
96.8° 96.8″2.203 39.4° 39
.4° 7o、7° 70.7° 63.9° 67.
7° 1,814 39.4’ 38.0° 79.9
° 72゜6° 74.2° 71.1° 1.975
57.2° 54.6° 97.0° 113.7°
97° 106.7’ 2.256 49.9° 4
7.8° 8o、9° 83.4° 78,7° 第8
.7° 1.857 44.4° 40.6° 80.
9° 78.6’ 71.1° 71.1’ 1,84
8、 56.5° 51.5° 96.1° 107.
2° 84.5° 84,5° 1.989 45.9
° 44.4698.2° 87,2° 91.2’
87.0’ 2.6010 56.1° 50.3”
98.2” 88.9° 89.1” 88.9° 2
.6032− 写真複写機(photocopier )において作動
距離が1(1mの場合において1:1の共役像を得るに
は、ガラスの厚さが4 mmでD/Lの累積値が189
.5°であることが必要である。このことは、次の式に
よって裏付けられる。
96.8° 96.8″2.203 39.4° 39
.4° 7o、7° 70.7° 63.9° 67.
7° 1,814 39.4’ 38.0° 79.9
° 72゜6° 74.2° 71.1° 1.975
57.2° 54.6° 97.0° 113.7°
97° 106.7’ 2.256 49.9° 4
7.8° 8o、9° 83.4° 78,7° 第8
.7° 1.857 44.4° 40.6° 80.
9° 78.6’ 71.1° 71.1’ 1,84
8、 56.5° 51.5° 96.1° 107.
2° 84.5° 84,5° 1.989 45.9
° 44.4698.2° 87,2° 91.2’
87.0’ 2.6010 56.1° 50.3”
98.2” 88.9° 89.1” 88.9° 2
.6032− 写真複写機(photocopier )において作動
距離が1(1mの場合において1:1の共役像を得るに
は、ガラスの厚さが4 mmでD/Lの累積値が189
.5°であることが必要である。このことは、次の式に
よって裏付けられる。
但し、 C−一対一共役作動距離
D=ニガラスレンズ厚さ
1′to=多孔質ガラスの屈折率
L=定数であり、式△Y−乳(1% /2L2)から導
かれる(rはレン ズ半径)。
かれる(rはレン ズ半径)。
この検討を行なうと、厚さが21111より大きいサン
プルのみが最終的なり/L値ヲ90°よp1大叡ぐする
ことが認められる。更に、想起すべきことは、レンズア
レイにおいては対称的な像の形成、すなわち、前面およ
び背面のレンズの度が等しくなることが非常に望まれる
ということである。かくして、必要なレンズの度を得る
ためにサンプル1およびサンプル2を選んで重ね合わせ
た。すなわち、それらのサンプル全視覚的に位置合わせ
して配置した後、最大透光装置(maximum li
ght transrnis−sion equipm
ent )によって正確に整合させた。
プルのみが最終的なり/L値ヲ90°よp1大叡ぐする
ことが認められる。更に、想起すべきことは、レンズア
レイにおいては対称的な像の形成、すなわち、前面およ
び背面のレンズの度が等しくなることが非常に望まれる
ということである。かくして、必要なレンズの度を得る
ためにサンプル1およびサンプル2を選んで重ね合わせ
た。すなわち、それらのサンプル全視覚的に位置合わせ
して配置した後、最大透光装置(maximum li
ght transrnis−sion equipm
ent )によって正確に整合させた。
得られた複合体は、ICIrLの作動距離において1:
1の王立共役像全力えるのに必要な189.5゜のレン
ズの度(D/L)ffi有し、10線対/闘という分解
能を有する。
1の王立共役像全力えるのに必要な189.5゜のレン
ズの度(D/L)ffi有し、10線対/闘という分解
能を有する。
最後に、レンズの度を増大させる主因子の影響を明らか
にするために、本明細書で記述したような方法に従って
調製したガラスサンプルについて行なった測定から計算
したレンズの度の典型的な値を示しておく。
にするために、本明細書で記述したような方法に従って
調製したガラスサンプルについて行なった測定から計算
したレンズの度の典型的な値を示しておく。
先ず、コーニングガラス社製コード7930多孔質ガラ
スシートに予備処理を行なわずに該シートから調製した
ガラスサンプル内に、孔中のヨードトリメチルスズを選
択的に光分解させることによってレンズ素子を形成させ
た。このサンプルについて、更に処理を行なう前のレン
ズの度(D/L)′ff:求めたところ、49.6°で
あった。次いで、重合性シリコーン液(DC−1107
)の100%浴に該サンプルを浸漬して含浸処理を行な
った。充分に含浸を行なった後のサンプルから付着液を
拭い取ジ清浄にし、更に、110℃において4時間水蒸
気雰囲気下に該サンプルを加熱した。レンズの度を計算
したところ741°であった。
スシートに予備処理を行なわずに該シートから調製した
ガラスサンプル内に、孔中のヨードトリメチルスズを選
択的に光分解させることによってレンズ素子を形成させ
た。このサンプルについて、更に処理を行なう前のレン
ズの度(D/L)′ff:求めたところ、49.6°で
あった。次いで、重合性シリコーン液(DC−1107
)の100%浴に該サンプルを浸漬して含浸処理を行な
った。充分に含浸を行なった後のサンプルから付着液を
拭い取ジ清浄にし、更に、110℃において4時間水蒸
気雰囲気下に該サンプルを加熱した。レンズの度を計算
したところ741°であった。
第2の多孔質ガラスについても同様に、光分解、シリコ
ーン含浸処理および力■熱を行なった。但し、この第2
のサンプルについては予備清浄処理を行なった。すなわ
ち、該多孔質ガラスを希硝酸に浸漬した後、蒸留水で洗
浄し乾燥して、異物を除去し極めて清浄なガラスが得ら
れるようにした。このサンプルのレンズの産金計算した
ところ126.5°であった。
ーン含浸処理および力■熱を行なった。但し、この第2
のサンプルについては予備清浄処理を行なった。すなわ
ち、該多孔質ガラスを希硝酸に浸漬した後、蒸留水で洗
浄し乾燥して、異物を除去し極めて清浄なガラスが得ら
れるようにした。このサンプルのレンズの産金計算した
ところ126.5°であった。
更に、清浄ガラスサンプルおよび非清浄ガラスサンプル
をシリコーン含浸処理したものについて、同様の処理を
行った。但し、シリコーンを重合させるための加熱は、
犬気雰囲 35− 愈下に行なった。2つのガラスサンプルのレンズの度に
顕著な変化は認められなかった。
をシリコーン含浸処理したものについて、同様の処理を
行った。但し、シリコーンを重合させるための加熱は、
犬気雰囲 35− 愈下に行なった。2つのガラスサンプルのレンズの度に
顕著な変化は認められなかった。
更に検討を行なったところ、水蒸気雰囲気で加熱を行な
う場合に最良の結果が得られることが示された。しかし
ながら、水蒸気の量が約20%という低い値でもある程
度の効果は得られるものと考えられる。但し、時間が長
くなり、一般に実用的でない。
う場合に最良の結果が得られることが示された。しかし
ながら、水蒸気の量が約20%という低い値でもある程
度の効果は得られるものと考えられる。但し、時間が長
くなり、一般に実用的でない。
第1図は、本発明に従い多孔質ガラスにレンズアレイパ
ターンを形成させるに際して用いられるのに好適な多孔
マスクの拡大平面図、第2図は、第1図のようなマスク
を用いて形成されるレンズアレイパターンのインターフ
ェログラムを示すものである。 10・・・マ ス り 12・・・円 形開 口14・
・・不透明部 36− 第1頁の続き 0発 明 者 ポール アーサー ザ アメヘニツク
ス リカ合衆国 ニューヨーク州 コーニング ベーゼルト
リート 33 手続補正書動式) %式% 2、発明の名称 光学装置とその製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 アメリカ合衆国 ニューヨーク州コーニング
(番地なし) 名 称 コーニング グラス ワークス4、代理人 東京都港区六本木5丁目2番1号 昭和59年11月7日 (発送日 昭和59年11月2
7日)6、補正により増加する発明の数 な しF I
G、2
ターンを形成させるに際して用いられるのに好適な多孔
マスクの拡大平面図、第2図は、第1図のようなマスク
を用いて形成されるレンズアレイパターンのインターフ
ェログラムを示すものである。 10・・・マ ス り 12・・・円 形開 口14・
・・不透明部 36− 第1頁の続き 0発 明 者 ポール アーサー ザ アメヘニツク
ス リカ合衆国 ニューヨーク州 コーニング ベーゼルト
リート 33 手続補正書動式) %式% 2、発明の名称 光学装置とその製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 アメリカ合衆国 ニューヨーク州コーニング
(番地なし) 名 称 コーニング グラス ワークス4、代理人 東京都港区六本木5丁目2番1号 昭和59年11月7日 (発送日 昭和59年11月2
7日)6、補正により増加する発明の数 な しF I
G、2
Claims (10)
- (1)多孔質ガラス体から構成され、該ガラス体の一つ
またはそれ以上の特定領域の孔に存する有機金属化合物
が光分解されることによってそれらの領域に形成された
光学パターンを有する光学装置であって、前記多孔質ガ
ラス体に含有された重合性の有機官能シリコーン液が実
質的に前記特定領域においてのみ重合して光学パターン
を形成していること全特徴とする光学装置。 - (2)前記光学パターンの各素子が分布した屈折率を有
する特許請求の範囲第1項記載の光学装置。 - (3) 前記光学パターンがレンズ素子からなるアレイ
である特許請求の範囲第1項記載の光学装置。 - (4) 前記レンズ素子が、円筒状を成し所定の半径方
向屈折率分布を有して前記多孔質ガラス体中に延在して
おり、該レンズ素子の端部が前記ガラス体の両側におい
て平面を形成しており、該レンズ素子は、本質的に重合
していない前記有機官能シリコーン液に満たされた前記
多孔質ガラスマトリックスによって一体的に囲まれてい
る特許請求の範囲第3項記載の光学装置。 - (5)前記光分解された有機金属化合物がスズ化合物で
ある特許請求の範囲第1項記載の光学装置。 - (6)多孔質ガラス体に光分解性有機金属化合物を含浸
し;含浸後の該ガラス体を、パターン化した光分解用光
源に暴露して該ガラス体の特定の部分を選択的に露光し
、それらの部分に存する有機金属化合物の少なくとも一
部分を光分解して該ガラス中で安定な光分解中間体に転
化させ;非露光領域にあり光分解転化しなかった有機金
属化合物を除去して、パターン化された領域を囲む多孔
質ガラスマトリックスを形成し;光学パターンが付与さ
れた前記多孔質ガラス体に、重合性を有する有機官能シ
リコーン液を充分に含浸させ、更に、前記パターン化領
域に存するシリコーン液をほぼ完全に重合させるととも
に、該領域を囲む前記多孔質ガラスマトリックス中に存
するシリコーン液を本質的に非重合状態に維持すること
を特徴とするガラス中に光学パターンを形成させる方法
。 - (7)蒸発または洗浄によって前記有機金属化合物を非
露光領域から除去する特許請求の範囲第6項記載のガラ
ス中に光学パターンを形成させる方法。 - (8)前記有機金属化合物が含浸された前記ガラス体を
多孔マスクを介して光分解用光線に露光して、レンズ様
素子のパターンを形成″1−る特許請求の範囲第6項記
載のガラス中に光学パターンを形成させる方法。 - (9)前記重合性を有する有機官能シリコーン液が、約
15%を超えない量の溶媒を含有する溶液である特許請
求の範囲第6項記載のガラス中に光学パターンを形成さ
せる方法。 - (10)前記溶液中のシリコーン液:溶媒の比が約9:
1である特許請求の範囲第9項記載のガラス中に光学パ
ターンを形成させる方法0 3−
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US520457 | 1983-08-04 | ||
US06/520,457 US4488864A (en) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | Integral optical device and method of making it |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60121401A true JPS60121401A (ja) | 1985-06-28 |
Family
ID=24072670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59162785A Pending JPS60121401A (ja) | 1983-08-04 | 1984-08-01 | 光学装置とその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4488864A (ja) |
EP (1) | EP0134103A3 (ja) |
JP (1) | JPS60121401A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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1983
- 1983-08-04 US US06/520,457 patent/US4488864A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-07-30 EP EP84305172A patent/EP0134103A3/en not_active Withdrawn
- 1984-08-01 JP JP59162785A patent/JPS60121401A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4488864A (en) | 1984-12-18 |
EP0134103A3 (en) | 1985-08-21 |
EP0134103A2 (en) | 1985-03-13 |
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