JPS60118232A - 移動層反応槽 - Google Patents
移動層反応槽Info
- Publication number
- JPS60118232A JPS60118232A JP58223260A JP22326083A JPS60118232A JP S60118232 A JPS60118232 A JP S60118232A JP 58223260 A JP58223260 A JP 58223260A JP 22326083 A JP22326083 A JP 22326083A JP S60118232 A JPS60118232 A JP S60118232A
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- JP
- Japan
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- louver
- particulate matter
- reaction tank
- louvers
- partition plate
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/08—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
- B01J8/12—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
不発明は、ルーバーによって充填保持された炭素質吸着
剤のような粒子状物質を上から下に移動させながら、ル
ーバーを通ってくるＢＯＸ 。
剤のような粒子状物質を上から下に移動させながら、ル
ーバーを通ってくるＢＯＸ 。
Ｂｏｘ含有排ガスのようなガスと接触させ、除塵とか脱
硫、脱硝のような吸着、各種反応等を行わせるための移
動層反応槽に関するものでめる・従来のこの種の装置で
は、第１図に示すように垂直方向に一列に配された一対
のルーバー１及び１′により充填保持された粒子状物質
２が、上から下に移動して移動層を形成し、ガス３は反
応槽４に導入され、移動層の側方からルーバ−１を通っ
て移動層を貫流し、この間に除塵。
硫、脱硝のような吸着、各種反応等を行わせるための移
動層反応槽に関するものでめる・従来のこの種の装置で
は、第１図に示すように垂直方向に一列に配された一対
のルーバー１及び１′により充填保持された粒子状物質
２が、上から下に移動して移動層を形成し、ガス３は反
応槽４に導入され、移動層の側方からルーバ−１を通っ
て移動層を貫流し、この間に除塵。
反応等を行い、反対側のルーバー１′から排出される。
しかし、従来のこのような反応槽においては、以下のよ
うな問題点がめった。
うな問題点がめった。
第１に、第２図に示すようにルーバー１の上に粒子状物
質２の非移動部分２−ａが形成される。このため、ダス
トの高９ガスを導入する場合には、非移動層２−ａのガ
ス入口側にダストの層が成長し、圧損の上昇をきた丁。
質２の非移動部分２−ａが形成される。このため、ダス
トの高９ガスを導入する場合には、非移動層２−ａのガ
ス入口側にダストの層が成長し、圧損の上昇をきた丁。
また、非移動部分２−ａは化学反応的に飽和に達してし
まい、反応生成物の浸出によるルーバーの腐食を起すこ
ともらり、かつ全体の反応容量の減少１−＠たす。
まい、反応生成物の浸出によるルーバーの腐食を起すこ
ともらり、かつ全体の反応容量の減少１−＠たす。
第２には、第３図に示すように反応槽における粒子状物
質２の排出口は、通常ルーバー１及び１′の間隔よりも
狭く絞られてお夕、このままでは移動層内の粒子状物質
の速度分布は第３図に示す５−１〜５−４のよ５になり
てし１５゜このため第４図に示すような種々の整流体６
を設は移動層内の流速分布をできるだけ均等にしようと
する方法が取られて−た。しかし粒子状物質のもともと
の不均質性及び粒匿、含塵重含水分量等の性状の経時変
化のため、その流動状Ｂはコントロールし難く、整流体
６は設け′ｆｃがめとは成行きまかせという要素が強か
った。
質２の排出口は、通常ルーバー１及び１′の間隔よりも
狭く絞られてお夕、このままでは移動層内の粒子状物質
の速度分布は第３図に示す５−１〜５−４のよ５になり
てし１５゜このため第４図に示すような種々の整流体６
を設は移動層内の流速分布をできるだけ均等にしようと
する方法が取られて−た。しかし粒子状物質のもともと
の不均質性及び粒匿、含塵重含水分量等の性状の経時変
化のため、その流動状Ｂはコントロールし難く、整流体
６は設け′ｆｃがめとは成行きまかせという要素が強か
った。
一方、除塵１反応等の面からみれば、移動層内の粒子状
物質２には一般にガス入口側程高い負荷がかかり、ガス
・入口側ルーバー近傍の粒子状物質は最高の負荷にさら
される。このため反応生成物が付着性の強い場合などは
、粒子状物質の移動速度が遅いと塊が生じ、それが成長
してガスに対する圧損の上昇ｔ−１！たす場合がおる。
物質２には一般にガス入口側程高い負荷がかかり、ガス
・入口側ルーバー近傍の粒子状物質は最高の負荷にさら
される。このため反応生成物が付着性の強い場合などは
、粒子状物質の移動速度が遅いと塊が生じ、それが成長
してガスに対する圧損の上昇ｔ−１！たす場合がおる。
従って、この部分の粒子状物質金比較的速い速度で移動
、入れ替えてやるのが得策でめるが、従来の方法では前
述のように成行＠まかせであり、まして、この部分の移
動速度を自在にコントロールすることはできなかつた＠
本発明の目的は上述した従来法の諸次点を解消した移動
層反応ｍを提供することである。
、入れ替えてやるのが得策でめるが、従来の方法では前
述のように成行＠まかせであり、まして、この部分の移
動速度を自在にコントロールすることはできなかつた＠
本発明の目的は上述した従来法の諸次点を解消した移動
層反応ｍを提供することである。
上記の目的を達成する本発明の要旨とするところは・粒
子状物質をルーバー構造によって充填保持し、該粒子状
物質を上から下に移動させながらルーバーを通ってく−
るガスと接触てせる移動層反応層にお埴て、粒子状物質
を充填保持するために垂直方向に一列に並んだメインル
ーバーの内側に断面が逆Ｖ字呈のサブルーバーを各メイ
ンルーバーと平行に一列に設け、該Ｖ字型の一辺はメイ
ンルーバーの各段の高さ方向の中間の位置に端を発し、
メインルーバーの内側に向ってメインルーバーとは逆勾
配で配し、Ｖ字型の頂点からの他の一辺は垂直下方に向
い、全ての段が同−垂直面内にめるように配し、かつこ
の垂直下方向辺の下端を、その下の段のＶ字型の頂点と
が接しないようにしたことを特徴とする移動層反応層を
提供することである。
子状物質をルーバー構造によって充填保持し、該粒子状
物質を上から下に移動させながらルーバーを通ってく−
るガスと接触てせる移動層反応層にお埴て、粒子状物質
を充填保持するために垂直方向に一列に並んだメインル
ーバーの内側に断面が逆Ｖ字呈のサブルーバーを各メイ
ンルーバーと平行に一列に設け、該Ｖ字型の一辺はメイ
ンルーバーの各段の高さ方向の中間の位置に端を発し、
メインルーバーの内側に向ってメインルーバーとは逆勾
配で配し、Ｖ字型の頂点からの他の一辺は垂直下方に向
い、全ての段が同−垂直面内にめるように配し、かつこ
の垂直下方向辺の下端を、その下の段のＶ字型の頂点と
が接しないようにしたことを特徴とする移動層反応層を
提供することである。
以下に本発明を詳述する。本発明の目的は、ｔｉＸ１１
／ｃルーバー上の粒子状物質の滞留をなくし、艮好な移
動状態をもたらすことにより、ガス入口側ルーバ一部へ
のダスト蓄積、圧損の過上昇、を防ぎ、第２にルーバー
近傍の粒子状物質の移動速度と、他の部分の粒子状物質
の移動速度の比を灰石槽全体の粒子状物質の流ｔｔ−変
えることなしに自由に変えることにより、高９負荷を負
う入口側の粒子状物質の移動速度を速くしたり、圧損の
様子を見ながらコントロールすることができる反応槽ｔ
−提供することにある。
／ｃルーバー上の粒子状物質の滞留をなくし、艮好な移
動状態をもたらすことにより、ガス入口側ルーバ一部へ
のダスト蓄積、圧損の過上昇、を防ぎ、第２にルーバー
近傍の粒子状物質の移動速度と、他の部分の粒子状物質
の移動速度の比を灰石槽全体の粒子状物質の流ｔｔ−変
えることなしに自由に変えることにより、高９負荷を負
う入口側の粒子状物質の移動速度を速くしたり、圧損の
様子を見ながらコントロールすることができる反応槽ｔ
−提供することにある。
先ず、前記第１の目的に関し説明する。第２図にて既に
説明した如く、粒子状物質の非移動部分２−ａが形成さ
れるが、これは２−ａ部分に内側から働く側圧と、２−
ａ部分の自重による側圧が釣り合うために起る。従って
内側から働く側圧をなんらかの方法で支え、２−ａ部分
に直接作用しな鱒ようにしてやれば、２−ａ部分の粒子
状物質は下方に排出され、かわりに上方から新な粒子状
物質が供給されることになり連続した入れ替えが行われ
る。その方法として第５図に示すような方法が考案され
ている。１のメインルーバーの中間にメインルーバーと
同方向の傾斜でサブルーバー７を設ける。メインルーバ
ー上の２−′ｂに内側から作用する側圧をサブルーバー
が支えるため、２−ｂからの排出がスムーズに行われ、
かわりに２−ｃ部の粒子状物質が２−ｂの位置に入り、
メインルーバ一部の粒子状物質の入れ替えがスムーズに
行われる。しかし、この方法ではサブルーバー上に非移
動部分２−＜Ｌが形成されることになり、程度の差こそ
めれ、同様の問題が生ずる。
説明した如く、粒子状物質の非移動部分２−ａが形成さ
れるが、これは２−ａ部分に内側から働く側圧と、２−
ａ部分の自重による側圧が釣り合うために起る。従って
内側から働く側圧をなんらかの方法で支え、２−ａ部分
に直接作用しな鱒ようにしてやれば、２−ａ部分の粒子
状物質は下方に排出され、かわりに上方から新な粒子状
物質が供給されることになり連続した入れ替えが行われ
る。その方法として第５図に示すような方法が考案され
ている。１のメインルーバーの中間にメインルーバーと
同方向の傾斜でサブルーバー７を設ける。メインルーバ
ー上の２−′ｂに内側から作用する側圧をサブルーバー
が支えるため、２−ｂからの排出がスムーズに行われ、
かわりに２−ｃ部の粒子状物質が２−ｂの位置に入り、
メインルーバ一部の粒子状物質の入れ替えがスムーズに
行われる。しかし、この方法ではサブルーバー上に非移
動部分２−＜Ｌが形成されることになり、程度の差こそ
めれ、同様の問題が生ずる。
本発明では、第６図の如く、８と９から成る逆Ｖ字呈の
サブルーバーを設けることにより、サブルーバーより外
側の粒子状物質はジグナグにスムーズに流れ、内側の粒
子状物質は９に沿って垂直下方にスムーズに流れ、滞留
する部分は全くなくなる。かつ隣り合う９の隙間からの
粒子状物質の出入りはほとんどなく、両者独立した流れ
となり、最下段から排出口に向って流出する粒子状物質
は、最上段から入り込んだ粒子状物質とほぼ同じもので
あると−う状態が実現される。
サブルーバーを設けることにより、サブルーバーより外
側の粒子状物質はジグナグにスムーズに流れ、内側の粒
子状物質は９に沿って垂直下方にスムーズに流れ、滞留
する部分は全くなくなる。かつ隣り合う９の隙間からの
粒子状物質の出入りはほとんどなく、両者独立した流れ
となり、最下段から排出口に向って流出する粒子状物質
は、最上段から入り込んだ粒子状物質とほぼ同じもので
あると−う状態が実現される。
次に前記第２の目的に関し説明する。前述のようなルー
バ一部粒子状物質の艮好な移動が行われるためには、当
然最下段から抜かれる粒子状物質の流量が確保されてい
なければならな−。
バ一部粒子状物質の艮好な移動が行われるためには、当
然最下段から抜かれる粒子状物質の流量が確保されてい
なければならな−。
しかし一般に反応槽の排出口は第１図の如く、ルーバー
最下段から下り匂配の斜面の先端に設けられて−るため
、どのような整流体を用いたとしても、槽内の粒子状物
質２が排出戸に向う角度としては、この斜面の角度が最
も緩く、斜面近傍の粒子状物質の移動速度が最も遅くな
る・まして、この部分の移動速度を自在にコントロール
することなどはできなかった。
最下段から下り匂配の斜面の先端に設けられて−るため
、どのような整流体を用いたとしても、槽内の粒子状物
質２が排出戸に向う角度としては、この斜面の角度が最
も緩く、斜面近傍の粒子状物質の移動速度が最も遅くな
る・まして、この部分の移動速度を自在にコントロール
することなどはできなかった。
本発明はルーバー最下段から抜かれる粒子状物質の流量
ｔ−確保し、かつこれを自在にコントロールするために
、第７図及び第７図のＸ−Ｘ断面図である第８図の如く
、サブルーバー最下段の垂直板９の下端から、反応槽の
ケーシング４に沿って、仕切板１０ｔ−設け、仕切板１
０の上、下にるる粒子状物質が混ざらなμような構造と
し、この仕切板１０を排出ノズルの中１で連続させる。
ｔ−確保し、かつこれを自在にコントロールするために
、第７図及び第７図のＸ−Ｘ断面図である第８図の如く
、サブルーバー最下段の垂直板９の下端から、反応槽の
ケーシング４に沿って、仕切板１０ｔ−設け、仕切板１
０の上、下にるる粒子状物質が混ざらなμような構造と
し、この仕切板１０を排出ノズルの中１で連続させる。
仕切板の末端に、末端の辺と平行な軸を有する回転仕切
板１１ｔ−設け、仕切板１０の下端と回転仕切板１１の
上端の隙間を粒子状物質が貫通しなφ程度とする。この
回転仕切板の角度は外部から変更できるような構造とす
る。
板１１ｔ−設け、仕切板１０の下端と回転仕切板１１の
上端の隙間を粒子状物質が貫通しなφ程度とする。この
回転仕切板の角度は外部から変更できるような構造とす
る。
以上のような構造により、ルーバー下端から排出される
粒子状物質は仕切板１０の上側にるる粒子状物質からの
干渉を受けずに、ケーシング４との間を通り、排出ノズ
ルに達する。排出ノズル部に設けられた回転仕切板１１
は、その角度を変えることにより、その出口部の左右の
断面積が変えられる。全体の抜出量が一定であっても、
回転仕切板１１０角度次第で、左右の流量比ｆｔＯから
無限大まで連続して変えることができる。これにより、
全体の抜出量を増加させることなしに、槽内の粒子状物
質の移動速度分布を効果的なものにすることができる。
粒子状物質は仕切板１０の上側にるる粒子状物質からの
干渉を受けずに、ケーシング４との間を通り、排出ノズ
ルに達する。排出ノズル部に設けられた回転仕切板１１
は、その角度を変えることにより、その出口部の左右の
断面積が変えられる。全体の抜出量が一定であっても、
回転仕切板１１０角度次第で、左右の流量比ｆｔＯから
無限大まで連続して変えることができる。これにより、
全体の抜出量を増加させることなしに、槽内の粒子状物
質の移動速度分布を効果的なものにすることができる。
以下ｔｃ笑施例を説明する。
第９図は本発明による乾式脱流脱硝装置の一実施例の説
明画でるる。第９図にお−て、１２は平均粒径８φ程度
の活性コークスであり、１５のホッパーにて粉面を一定
に保つように充填されており、１４の反応槽を経て、１
５の定量フィーダにて抜き出される。ガス２５は反応槽
の側面から入り、ルーバー及び活性コークス層を通って
脱硫、脱硝、除塵が成され反対側の側面から出る。反応
槽内の活性コークスは入口側のメインルーバー１７及び
出口側ルーバー１７′により保持てれている。入口側は
１８．１９からなるサブルーバー及び２０の仕切板、２
１の回転仕切板から成り、更に活性コークス層の中間に
全体の移動速度分布をコントロールするための仕切板２
２及び回転仕切板２３、及び整流体２４が設けられてお
り、移動速度のコントロールは１６のすづトゲラスから
活性コークスの降下速度を測定しながら行う。
明画でるる。第９図にお−て、１２は平均粒径８φ程度
の活性コークスであり、１５のホッパーにて粉面を一定
に保つように充填されており、１４の反応槽を経て、１
５の定量フィーダにて抜き出される。ガス２５は反応槽
の側面から入り、ルーバー及び活性コークス層を通って
脱硫、脱硝、除塵が成され反対側の側面から出る。反応
槽内の活性コークスは入口側のメインルーバー１７及び
出口側ルーバー１７′により保持てれている。入口側は
１８．１９からなるサブルーバー及び２０の仕切板、２
１の回転仕切板から成り、更に活性コークス層の中間に
全体の移動速度分布をコントロールするための仕切板２
２及び回転仕切板２３、及び整流体２４が設けられてお
り、移動速度のコントロールは１６のすづトゲラスから
活性コークスの降下速度を測定しながら行う。
第１０図扛入ロ側ルーバ一部の詳細である。
θｌは６０°、θ寞は６０６、ムは４００纒、Ｂは５０
０ｍ％ Ｏは２１７ｍ％ Ｄは２０箇、Ｅは７５■、第
１１図は入口側ルーバー下端から排出口までの詳細でめ
る。θ３は６００、Ｇは１２５謹、Ｈｌｆ、よ １ ロ
Ｂ ｍ ％ 工 は ７ ０ｍ、 、Ｔｉｊｌ ５
０ｓｍ 。
０ｍ％ Ｏは２１７ｍ％ Ｄは２０箇、Ｅは７５■、第
１１図は入口側ルーバー下端から排出口までの詳細でめ
る。θ３は６００、Ｇは１２５謹、Ｈｌｆ、よ １ ロ
Ｂ ｍ ％ 工 は ７ ０ｍ、 、Ｔｉｊｌ ５
０ｓｍ 。
第１２図は仕切板２０の下端と回転仕切板２１部の詳細
断面図ておる。回転仕切板２１と２２の回転軸、２３の
ナツトは一体化されており一緒に回転する。ケーシング
１４の外部とのガス洩れを防ぐためのカバーとして、２
４の外筒及び２５のキャップからり、２６は回転軸に刈
するロックボルトでおる。Ｋは１５５■、Ｌは１５′５
■。
断面図ておる。回転仕切板２１と２２の回転軸、２３の
ナツトは一体化されており一緒に回転する。ケーシング
１４の外部とのガス洩れを防ぐためのカバーとして、２
４の外筒及び２５のキャップからり、２６は回転軸に刈
するロックボルトでおる。Ｋは１５５■、Ｌは１５′５
■。
第９．１０．１１図に示すサブルーバーのうち−１９の
部分を多孔板を用いることにより、ガスの流通面積を増
加及び均質化させると同時にガス圧損を低下させること
ができる。
部分を多孔板を用いることにより、ガスの流通面積を増
加及び均質化させると同時にガス圧損を低下させること
ができる。
不実施例を設は九移動層反応榴と設けない移動層反応槽
との運転結果を比較すると、設けないものでは、運転開
始後２００〜３００時間で反応槽の圧力損失が過大とな
り運転不能に陥いる。開放点検すると入口側ルーバ一部
の非移動粒子状物質の上流側に厚いダストの層が形成さ
れており、ルーバーの内面側には反応生成物が塊となっ
て成長しており、そのところどころにガスの流入口が口
を開けて９るという状態となる。
との運転結果を比較すると、設けないものでは、運転開
始後２００〜３００時間で反応槽の圧力損失が過大とな
り運転不能に陥いる。開放点検すると入口側ルーバ一部
の非移動粒子状物質の上流側に厚いダストの層が形成さ
れており、ルーバーの内面側には反応生成物が塊となっ
て成長しており、そのところどころにガスの流入口が口
を開けて９るという状態となる。
一方、設けたものでは、サブルーバ一部ノ粒子状物質の
流量を全体の１ｏ％程度にすると、反応槽の圧力損失が
運転開始後５０時間程度の問わずかに上昇していくが、
それ以後上昇はなく安定した連続運転が可能である。開
放点検すると、入口側ルーバ一部にはダストが蓄積した
形跡はなく゛、ルーバーの内面側にも反応生成物の塊は
認められない。
流量を全体の１ｏ％程度にすると、反応槽の圧力損失が
運転開始後５０時間程度の問わずかに上昇していくが、
それ以後上昇はなく安定した連続運転が可能である。開
放点検すると、入口側ルーバ一部にはダストが蓄積した
形跡はなく゛、ルーバーの内面側にも反応生成物の塊は
認められない。
ダストの濃度、反応生成物の単位時間当りの生成量等か
らサブルーバ一部の粒子状物質流量ｔ−適当に調節する
ことにより、広範囲な条件に適応する移動層反応槽とな
る。
らサブルーバ一部の粒子状物質流量ｔ−適当に調節する
ことにより、広範囲な条件に適応する移動層反応槽とな
る。
第１図は従来のルーバーによって粒子状物質を保持する
移動層反応槽の概略を示す断面図、第２図はルーバー近
傍を示す部分拡大図、第３図および第４図はこの種移動
層反応槽における粒子状物質の流速分布を示す概念図、
第５図は従来のすブルーバーの位置、構造を示すルーバ
ー近傍図、第６図は不発明のサブルーバーの位置、構造
を示すルーバー近傍図、第７図は不発明のサブルーバー
の一実施態様を示す部分図、第８図は第７図のＸ−Ｘ線
に沿った断面図・第９図は本発明の移動層反応槽の一実
施態様を示す断面図、第１０図、第１１図は本発明のサ
ブルーバー訃よび仕切板の具体例を示す部分設計図、第
１２図は本発明のサブルーバーに設けられた仕切板と仕
切板に設けられたＮ転板の詳細を示す断面図である。 代理人 内 １） 明 代理人 萩 原 亮 − 第１図 尾３図 第２図 児４閃 第９図
移動層反応槽の概略を示す断面図、第２図はルーバー近
傍を示す部分拡大図、第３図および第４図はこの種移動
層反応槽における粒子状物質の流速分布を示す概念図、
第５図は従来のすブルーバーの位置、構造を示すルーバ
ー近傍図、第６図は不発明のサブルーバーの位置、構造
を示すルーバー近傍図、第７図は不発明のサブルーバー
の一実施態様を示す部分図、第８図は第７図のＸ−Ｘ線
に沿った断面図・第９図は本発明の移動層反応槽の一実
施態様を示す断面図、第１０図、第１１図は本発明のサ
ブルーバー訃よび仕切板の具体例を示す部分設計図、第
１２図は本発明のサブルーバーに設けられた仕切板と仕
切板に設けられたＮ転板の詳細を示す断面図である。 代理人 内 １） 明 代理人 萩 原 亮 − 第１図 尾３図 第２図 児４閃 第９図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （リ 粒子状物質をルーバー構造によって充填保持し、
該粒子状物質を上から下に移動させながらルーバーを通
ってくるガスと接触させる移動層反応槽において、粒子
状物質を充填保持するために垂直方向に一列に並んだメ
インルーバーの内側に断面が逆ｖｒ−ｍのサブルーバー
を各メインルーバーと平行に一列に設は該Ｖ字型の一辺
はメインルーバーの％段の高さ方向の９間の位置に端を
発し、メインルーバーの内＠に向りてメインルーバーと
は逆勾配で配し、Ｖ字型の頂点からの他の一辺は垂直下
方に向μ、全ての段が同一垂直面内にあるよりに配し、
かつこの垂直下方向辺の下端と、その下の段のＶ字型の
頂点とが接しないようにしたこと′ｔ−特徴とする移動
層反応槽。 （２） サブルーバーのうち、最下段のすプルーバ−の
垂直下方向辺の下端から、移動層反応槽のケーシング内
壁に油って仕切板を設け、該仕切［１移動層反応槽の粒
子状物質排出ノズル内まで連続させた特許請求の範囲（
１）の移動層反応槽。 （３）仕切板の排出ノズル内の端部に、該仕切板と平行
な中心軸を有する回転仕切板、を設けた特許請求の範囲
（２）の移動層反応槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58223260A JPS60118232A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 移動層反応槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58223260A JPS60118232A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 移動層反応槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60118232A true JPS60118232A (ja) | 1985-06-25 |
| JPS63101B2 JPS63101B2 (ja) | 1988-01-05 |
Family
ID=16795312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58223260A Granted JPS60118232A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 移動層反応槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60118232A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07136445A (ja) * | 1993-11-18 | 1995-05-30 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 脱硫・脱硝塔 |
| CN105148681A (zh) * | 2015-09-29 | 2015-12-16 | 北京首钢国际工程技术有限公司 | 一种烧结球团烟气吸附和下料装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5298674A (en) * | 1976-02-13 | 1977-08-18 | Kobe Steel Ltd | Denitration apparatus for exhasut gas |
| JPS5881424A (ja) * | 1981-11-11 | 1983-05-16 | Hitachi Ltd | 充填層粒子支持用ル−バ−の構造 |
-
1983
- 1983-11-29 JP JP58223260A patent/JPS60118232A/ja active Granted
Patent Citations (2)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63101B2 (ja) | 1988-01-05 |
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