JPS60114828A - 光変調器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光変調器に関し、より詳細には特にガイダンス
及びカメラレンズに用いられる光吸収減衰器に関する。

（従来の技術）、 従来ζ光の強度を減衰させるための装置には各種のもの
がある。例えば、光学装置を機械的に移動させる減衰器
、電解液タンクの光透過性壁土における金属の電気化学
伺着による減衰器、薄い金属フィルムの酸化の減少によ
る減衰器、及び液晶二色染料との混合物に電界を作用さ
せる減衰器がある。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明の目的は従来とは異なる方法を用い、特にトラッ
キング照準に適用可能な光変調器を提供することにある
。この種の用途のために、突然起きる可能性のある周辺
照明変化を補償するための２０　ｄＢ以上の高い伝達ダ
イナミクス、及びターゲットにより光ビームが反射され
るようにオープン状態での高い伝達ダイナミクスの２つ
の条件が要求される。更に、検出装置として、０．４な
いし１．１ミクロンのスペクトル通過帯域と最小の映像
歪みという特別の技術的特性が要求される。

本発明によれば、減衰器を横切る光ビームに対する屈折
及び吸収状態を変更するために、移動可能な機械的手段
を用いることなく、電気的に制御される薄い流体層の移
動を用いる。

１９８３年３月器日付で本出願人より出願された仏国特
許出願第８３．０４７４５号には、流体層を移動させる
ことができる装置が開示されている。この装置は２つの
プレートによって形成される毛管スペース−プレートの
内面には電極が設けられており、毛管スペースに電界を
与えることができる−を有する。毛管スペースは、異な
る誘電率を有する２つの不混和性流体を含む。電極間に
電圧を寿えることにより、高い誘電率の流体を誘引する
電界が生じる。物理的現象は、誘電性流体によってキャ
パシアを充填し、一方電界の傾斜及び静電エネルギー変
化を確立するという周知の現象である。

毛管スペース内の流体の位置制御は、一方において印加
された電界の選択により得られ、他方において周辺電極
より湿潤な特別の表面処理により得られる。例えば、ガ
ラス上にエツチングされた、インジウム−錫の酸化物（
ＴＩＯ）の如き透明の金属酸化物電極の場合、重合され
た単分子オルガノシロコーディングの付着物がある。

従って、本発明は上述の流体移動現象を用いた装置を提
供する。

（問題点を解決するための手段） 本発明の特徴は、毛管スペースと少なくとも１つの流体
を含む溜めを形成する２つの平行に設けられた光透過性
のプレートにより形成された、電”気的制御による流体
の移動のための複数のセルと、電界が存在しない領域か
ら電界が存在する領域へ流体を移動させるために、誘電
作用により前記毛管スペースと前記溜めとの間での流体
の移動を制御する電界を供給する電界供給手段とを有す
る光変調器であって、該光変調器は更に、２つの平行に
設けられた光透過性のプレートが光ビームの方向に垂直
に位置し、毛管スペースが光ビームの領域内にあり更に
セル内の流体が光吸収性である少なくとも１つの第１の
タイプのセルと、光ビームの強度に比例する測定信号を
供給する光強度測定手段と、該光強度測定手段に接続さ
れ、前記測定信号を受取り前記電界供給手段を制御する
信号を出力する制御手段とを有する光変調器にある。

（実施例） ・第１図の等角図に示されるような流滴を移動させるた
めの電気的装置は、スペーサ９で分離された２つの光透
過性プレート１と２を有する。これらのプレートにより
２つの流体ｆ１とｆ２が充填される毛管艮ペースが形成
されている。電極５と６並びに電極７と８の２つのグル
ープはプレート１と２の表面上に表面仕上法（ｆａｃｉ
ｎｇ　ｍａｎｎｅｒ　）により付着されている。電圧発
生器間は、必要に応じて、一方において電極５と６にそ
れぞれ接続されているワイヤＶ２とＶｌとの間に電位差
を与え、他方において電極７と８にそれぞれ接続されて
いるワイヤＶ４と■３との間に電位差を与える。これら
の電位差は、はぼ５ＸＩＯ６ないし６　Ｘ　１０７Ｖ／
ｉｎの電気的移動領域を発生させるために１００ないし
３００■のオーダである。

例えば、流体ｆ１は空気である。液体ｆ２は５ないし５
の炭素原子を含むアルカンの如き炭化水素、ケトン（ア
セトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン）又は
ニトロ誘導体にトロベンゼン、ニトロトルエン）の中か
ら選択可能である。

流体ｆ２を形成する流体混合物の使用により、表面張力
を抑制し、流滴が移動した後はこの流滴が転位するのを
防止し、更に電気的制御に対する装置の応答時間を最適
にすることができる。

流体ｆ２は球状であり、プレート１と２の間に保持され
ている。この流体ｆ２は電極５と６が第１図のように設
けられている場合、流体ｆ２が電極の輪郭かられずかに
突出するような体積を有する。また、流体ｆ２はより多
くすることができ、この場合−組の電極７と８に侵入す
るであろう。電極５と６から電極７と８に流体ｆ２を移
動させるために、電極７と８には電位差Ｖ、−Ｖ、、以
上の電位差Ｖ、−Ｖ、が与えられる。流体ｆ２をその始
点位置に戻すためには、上記操作とは逆の操作が行なわ
れる。等しい電位差が２つのグループの電極に同時に与
えられた場合、又はこれらの電極に電位差が与えられな
い場合は、流体ｆ２は移動しない。

次に、前述した流体移動方法を用いた本発明による光変
調器について説明する。

第２図の光変調器はｌＯ及びかの如き第１のタイプのセ
ルと、蜀の如き第２のタイプのセルと、光強度を測定す
る光強度測定手段５４と、制御回路５５と、電圧発生器
Ｉとを有する。

セルＩＯはスペーサ１９を介して互いに平行に離間配置
された２つの光透過性プレー）１１と１２を有する。プ
レート１１と１２の内側表面上には、中心電極１５と１
６が付着されている。中心電極１５と１６により、毛管
スペースと呼ばれる領域１３が形成されてる。

電極１５と１６の一方の側部には、電極１７と１８が付
着されている。電極１７と１８により、溜めと呼ばれろ
領域１４が形成されている。

流体１ｆ２はプレート１１と１２の間に位置し、所定の
光吸収レベルを有する如き合成物を有する。第２図にお
いて、この流体］ｆ２は溜め１４内に分布している。毛
管スペース１３は空気の如き他の流体を含む。

電極１５と１６はそれぞれ、電圧発生器Ｉの出力ｖ、。

と■、２に接続されている。電極１５の一方の側部に位
置する電極１７は、図示しない接続手段により電圧発生
器Ｉの出′力ｖ３に接続されている。電極１８も同様で
あり、電極１８は電圧発生器間の出力■４に接続されて
いる。

セル加はセルｌＯと同一の構成を有するので、セル」に
関する説明は省略する。セルかの電極は図示しない接続
手段により同様の方法で、電圧発生器間の出力Ｖ２１な
いしｖ２．に接続されている。

セルＩは２つの光透過性プレート３１と３２を有する。

これらはスペーサ３９を介して相互に平行に離間設置さ
れており、更に中心電極あとあ及び周辺電極ごと詔を有
する。電極あとＩは毛管スペースおに対応して設けられ
ている。また電極３７と関は溜めあに対応して設けられ
ている。光透過性であってプレート３１と３２の屈折率
と同様の屈折率を有する流体２ｆ２は、プレート３１と
支との間に置かれている。第２図において、流体２ｆ２
は毛管スペースお丙に置かれている。

プレート３１と３２はセルｌＯのプレートに対し、例え
ば−フジアンの角度αだけ傾斜している。これらのプレ
ートは直角２等辺領域を有する２つのプリズム４０と４
１の間に位置決めされ、頭−尾方法（ｈｅａｄ　ｔｏ　
ｔａｉｌ　ｍａｎｎｅｒ　）で配列されている。プリズ
ム４０と４１の屈折率はプレート３１と（の屈折率及び
流体２ｆ２の屈折率に等しい。

セル（至）の電気的接続はセル１０の場合と同様であり
、電極３５．３６．３７及びアハソレぞ；Ｊ−Ｌ　Ｖ３
．　ｌ　Ｖ３□、　Ｖ３３及び■おに接続されている。

光吸収性スクリーン４２はプレート３１の前面に位置し
、プレートとともに７−α、すなわちこの実施例では１
の二面角を形成している。セル１０．２０及び閏は毛管
スペース１３及びあを通る軸ＸＹに沿って配列されてい
る。光強度測定手段舅は軸ＸＹに沿って位置決めされて
おり、接続路５７によって制御回路団に接続されている
。制御回路５は接続路間によって電圧発生器おに接続さ
れている。

セル１０．２０及び（９）の流体がそれぞれ第２図に示
す位置にある場合において、光ビーム印が軸ＸＹに沿っ
てセルｌＯに送出されたときは、この光ビームはセルｌ
Ｏ及び肋によって偏向や実質的な減衰を受けることはな
い。セル局から送出された光ビーム５１は、毛管スペー
スお内に流体２ｆ２が存在し、かつグレー）　３１．３
２の屈折率とプリズム４０．４１の屈折率と流体２ｆ２
の屈折率とが等しい（又は全反射が生じないことを保証
することができる値にほぼ等しい屈折率）ために、平行
プレートとして作用するセルＩによって送出される。プ
リズム４１から発せられる光ビーム５２は光強度測定装
置間に受取られ、この装置は接続路５７上に光ビーム犯
の光強度に比例する測定信号を供給する。この信号の値
に従って、制御回路５５は接続路田土に制御信号を出力
する。これにより、電圧発生器Ｘはセル１０゜茄及びＩ
を制御するために適した制御電圧をｖｌｌないしＶ３．
に供給する。

従って、出力■、３と■１４との間に与えられる電位差
よりも大きいｖｌｌと■１□との間の電位差を電極１５
と１６に与えることにより、セル１００毛管スペース１
３内には、溜め１４内の電界よりも大きい電界が生じる
。従って、溜め１４内の流体１ｆ２は毛管スペース１３
方向に移動し、第３図に示される位置を占める。出力Ｖ
２．ないし■、２には電圧が与えられていないので、セ
ル九とＩの流体は移動しない。

この結果、本発明による光変調２ｇは第３図に示される
如くなる。セルＩＯに受取られた軸ＸＹＫ沿う光ビーム
（１）は、流体１ｆ２によってその光吸収　。

レベルまで部分的に吸収される。従って、セル１０は減
衰された光ビームを出力する。セル２０では、光ビーム
は減衰しない。同様に、前述したようにセル刃でも光ビ
ームは減衰しない。この結果、光変調器からの光ビーム
は減衰している。

この光ビームの光強度が大きすぎるときは、光強度測定
装置群によって測定された信号の値に従って、制御回路
５は電圧発生器間がセル２０の中心電極に接続された出
力■２．とｖ２□　に制御電圧を供給するように、電圧
発生器部を制御する。この結果、セルかの流体は移動し
、セル１０の流体と同じ位置を占める。セルｉｏによっ
て減衰された後、光ビーム５０は再びセル刃によって減
衰され、セル：幻から出力される。従って、この場合の
減衰は前述の場合よりも大きい。

光ビームの減衰が極めて大きくなければならないとき、
制御回路５は接続路間上に信号を供給する。この結果、
電圧発生器部は出力ｖ３１と７３２間の電圧よりも大き
い出力ｖ３．と７３４間の電圧を供給する。セル刃の電
極３７とあとの間の電界は、毛管スペースの一方の側に
位置する溜めγ内に流体２ｆ２を誘導する。従って、セ
ル刃は第４図に示す状態になる。

光ビーム５１はセル（資）のプレート３１に到達し、流
体２ｆ２がないことによりプレートの内側面によってほ
ぼ完全に反射され、光吸収性パネル４２方向に向うビー
ムおとなる。。一方、入射光ビーム５１の一部はセル刃
を透過し、低い強度の光ビーム５２が光変調器から出力
される。

第４図において、セル１ｏと側はこれらの流体が溜めに
位置する場合を示しており、この結果これらのセルは減
衰機能を伺ら有さない。しかしながら、セル（９）によ
る大きな減衰が与えられる。光変調器をこの状態にする
ために、制御回路Ｉは、電圧発生器Ｉが電極３７と加に
電圧を与えるように電圧発生器間を制御し、またセル１
０の１７と１８の如き電極に接続された出力ｖ、８．　
ｖ、４．　ｖ２３．　ｖ２．に電圧を与えるように電圧
発生器間を制御する。流体がセルＩＯと」の毛管スペー
スに位置しているとすれば、流体は溜め内に誘導される
。

第２図ないし第４図には光吸収性の流体を含むタイプの
２つのセルｌＯと加が示されている。しかしながら減衰
の度合を太き（し、光変調器のフレキシビイリティを向
上させるために、光ビーム方向ＸＹに連続して多数のセ
ル一部分的又は全体として制御可能である−を殺けるこ
とは有益である。

光ビームを変調する機能を有するスペースは、各セルの
毛管スペースである。ある場合には、セルの側部の溜め
が寸法上不利益をもたらす。従ってこの溜めの寸法を小
さくすることは有益である。

例えば、溜めの厚みを毛管スペースの厚み以上とする。

第５図はこの場合を図示している。セル１０の溜めの如
き、光吸収性の流体を含むタイプのセルの溜めは、光ビ
ーム印の方向ＸＹに平行に配置されている。プレート１
１ど１２はセルの平面に対し垂直に屈曲している。溜め
の厚みは毛管スペースの厚みより犬である。これは、溜
めを小屋にするためである。

電極１７と１８は、流体１ｆ２の移動開始を促進させる
ために、プレー）１１と１２を屈曲させることにより形
成されている溜めの周囲に設けられている。

第２図ないし第４図において説明したように、流体１ｆ
２が溜め内にあるときは、セルｌＯは光ビームを吸収す
ることなく透過し、一方流体が毛管及ペース１３内にあ
るときは、セルｌＯは吸収体となる。

セル加に関し、プレート３１と３２は例えば１フシアン
の角度αだげ屈曲している。プレート３１と３２により
、毛管スペース関が形成されている。この毛管スペース
は軸ＸＹに対し傾斜しており、一方溜めは軸ＸＹに対し
平行である。

流体２ｆ２が電極あと３６によって毛管スペース３３内
に誘引された状態において、光ビーム５１は空気を含む
溜め讃によって偏向されない。この光ビームは流体２ｆ
２を含む毛管スペースおに到達し、第２図で説明したよ
うにここを透過する。

毛管スペース３３と溜めあの厚みは、ＸＹ方向において
、２つのプレート３１と３２間の距離ｅ、が厚みｅ２に
等しくなるように設定されている。セルＩにおいて、流
体が毛管スペースあ又は溜め舅のいずれに位置するかに
かかわらず、光ビームは流体２ｆ２と空気の同一の厚み
を通過する。従って、光通路は伝達において変化しない
。溜めの厚みｅ２はすべての流体２’　ｆ　２を含む如
く計算される。

次に、第５図の光変調器の変形例について、第６図を参
照して説明する。この変形例によれば、セル１０は第５
図のセル１０と同一である。しかしながら、第５図のセ
ル蜀と同様の方法で構成されたセル美は、軸ＸＹに平行
の溜め田を有する。従って、セルＩを透過する光ビーム
は溜めおを透過しない。

本発明の好適な実施例によれば、セルのガラスプレート
は屈折率が１．５、厚みが１．５ｍｍのガラスで形成さ
れる。スペーサ１９−３９はデュポンドウヌム−ル（Ｄ
Ｕ　ＰＯＮＴ　ＤＥ　ＮＥＭＯＵＲ８）　ノ所有する登
録商標である゛マイラー（ＭＹＬＡＲ）”又は７カ７’
　）　ｙ　（ＫＡＰＴＯＮ　）　”の如き重合体フィル
ムで形成される。スペーサの厚みは１間以下でなければ
ならない。従って、流体の毛管現象は重力に打ち勝つ。

毛管スペースの厚みを制御するために、５ないし父μｍ
のスペーサが用いられる。一方、１０ないし２ｆ５μｍ
のスペーサが溜めに対して用いられる。セルはスペーサ
を用いプレートを接着することにより固定される。

この組立ての前に、ガラスプレートには、マイクロリン
グラフィによって付着されエツチングされた電極が設け
られる。電極は錫とインジウムの酸化物、例えばバルザ
ース（ＢＡＬＺＩＳ　）により販売されているパルトラ
コン（ＢＡＬＴＲＡＣＯＮ　）タイプのもので形成され
る。これらは、３５０　℃で焼き戻すことにより光透過
性となる。添付図面上の電極は簡単に描かれているが、
例えば電極１６と１７の如き同一プレート上の２つの電
極間のギャップは、はぼ２０μｍでなければならない。

更に、１９８３年６月Ｉ日付で本出願人により出願され
た仏国特許出願第８３．１０９１４号に記載されている
ように、同一プレート上の２つの電極は、これらの間の
流体が容易に移動できるように、貫入するくぼみ付けさ
れた輪郭を有する。

電極がプレート１と２上に付着された後、第１図のＲ，
とＲ２の如き付着体が形成される。この極めて薄い付着
体はほぼｌＯｎｍの厚みを有する。例えば、オルガノシ
ラン（ｏｒｇａｎｏｓｉｌａｎｅ　）付着物、特にアル
キル　メトキシ　シラン、更に特定すればＮ。

Ｎ−ジメチル−Ｎ−オクタデシル−３−アミノプロピル
　トリメトキシリル　クロリド（Ｎ、　Ｎ−ｄｉｍｅｔ
ｈｙｌ−Ｎ　−ｏｃｔａｄｅｃｙｌ　−３−ａｍｉｎｏ
ｐｒｏｐｙｌ　ｔｒｉ＋ｎｅｔｈｏｘｙｓｉｌｙｌｃｈ
ｌｏｒｉｄｅ　）を用いることができる。この付着物は
、メトキシ　シラン群の加水分解の後１１０℃でニトロ
ゲンの下に重合され、水素とシロキサンのフォーメーシ
ョンは化学吸着により基体上に接着する。

これらの表面処理の薄さのために、有機付着物が電極を
覆う点における湿潤性は大きい。フロウリネイトされた
（　ｆｌｏｕｒｉｎａｔｅｄ　）重合物は、また非湿潤
性表面を形成する。流体１ｆ２と２ｆ２は、　これらの
誘電率が流体ｆ１−前述したような空気−の誘電率と異
なる如く選択される。更に、流体が僅かに腐蝕性であり
、制限された導電率を有することが好ましい。

好ましくは、次の流体が用いられる。

流体　誘電率　導翳（Ω−’ｃｍ””）シクロヘキサン
　１８．３　Ｘε。　５Ｘ１０−１８ニトロベンゼン　
３４．８　ｘεｏ　２Ｘ１０−・ｌＯヘキサン　１．８
８Ｘεｏ　ｌＸ１Ｏ′″＋６流体１ｆ２の場合、これを
光変調器に用いられる領域に対応する波長スペクトラム
内の吸収性乙・するために、染料が混合される。従って
、例えば０．４と１．１μｍ間のスペクトラル吸収帯域
をカバーすることができる。電気化学効果を防止し、セ
ルのエネルギー消費を増大させないために、高い溶解性
の非イオン染料が用いられる。従って、可視領域におい
て、インドフェノール　ブルー、スーダン　ブルー及び
スーダン　ブラック　Ｂを用いることができる。また、
特に安定なアントラキノン染料を用いることができる。

広いスペクトブル吸収帯域を得るために、例えば１０及
び２０の如きセル御名セルは１又はそれ以上の染料を含
む−を重畳することにより、複数の染料の混合物が用い
られる。

セル内の流体１ｆ２又は２ｆ２の体積は、前述した電極
の輪郭のくぼみにオーバラップさせるために、これが毛
管スペースの電極をカバーし、しかも電極かられずかに
突出しする如（形成される。

毛管スペース内にある流体は溜めの電極と接触しより容
易に誘引される。逆に、流体が溜め内にあるときも同一
の配列となる。

プリズムωと４１はプレート３１と３２に、プリズムと
プレート間の屈折率が適合するように接着される。更に
、ある構成要素は、例えばポリメチルメタクリレート（
ＰＭＭＡ、プレキシグラス）の如きアクリル樹脂でモー
ルド可能である。

電圧発生器Ｉに対する電気的接続は、光透過性のプレー
トにのびる図示しない伸長路であって、電極を付着する
ときにこの伸長路に接続領域が付着され、この上にコネ
クタがプラグ付けされるか、又はマイクロ溶接が行なわ
れることによって形成される。

セルｌのようなセルの減衰は、流体１ｆ２内に導入され
た染料の集中によるが、はぼ１０％である。

すべてのセルが非吸収性であるとき、障害となる減衰に
達することなく、このタイプのセルを少なくとも５つ設
けることができる。セル加の減衰はほぼ９０％である。

第５図で説明した光変調器の幅りは、５ないし１０朋で
ある。幅が１０１．０とき、動作時間−はほぼ１００ｍ
５であり、このほとんどが流体の移動のために必要とさ
れる。ωないし８０　ｕｒｎの光学表面をカバーするた
めに、複数のセルを用いることにより装置の厚みを制限
し、流体により占められるパスの長さを制限することに
より応答パフォーマンスを保持することができる。この
−例が第７図に示されている。

第５図のセル頷の如き複数のセルＩは第１面に沿って配
列されている。幅Ｌ＝ｌＯＨのセルを用い、カバーされ
る領域に従りて、７ないし８個のセルが配列されている
。セルの長さＰは、７０ないしく資）間である。

吸収性の流体を含むセル加０は第１面に平行な第２面に
沿って配列されている。第７図の変形例のように、これ
らのセルは毛管スペース１３の右側に１つの溜め１４を
有する。このようなセルの動作は前述したセルの動作と
同一である。セル１００幅りは１０　ｍｍに等しいので
、同一数のセル１０、すなわち７ないし８個のセルｌＯ
がセル加と一列上に配列されている。セル１０の長さＰ
は７０ないし８Ｄｍｒｔｔである。

１０の如き他のセルは、異なる光変調度を得るために、
最初の２つのセルに平行な他の面に沿って配列されてい
る。セルｌ（Ｊと加は、第８図に示す方法により、組合
わさっている。

２つのセル１０は１つに結合されており、一方は左側に
溜めを有し、他方は右側に溜めを有する。

これらはプレート１１とプレート１２により製造され、
一方スペーサ１９は中央部分に位置決めされている。

２つのセル美はこれらのセルの各々と同一の軸を有し、
これらの毛管スペースは７フシアンの二面角を形成する
。これらの状態において、２つのセルのプリズム切は１
つのプリズムおとして製造される。同様に、２つの隣接
するセルのプリズムは１つのプリズム赫として製造され
る。

２つのセルが反射状態のとき、すなわち流体２ｆ２が溜
めＭ内にあるとき、入射光ビームは第１のセル加によっ
て第２のセル（９）方向に反射される。

そして第２のセル（９）はその光ビームを入射方向に反
射する。そのとき、減衰が生じる。この配列は、第２図
ないし第７図の吸収体スクリーン心を用いる必要がない
という利点を有する。

光ビームの平均光強度を測定する可能性を増大させるた
めに、本発明は制御回路５に対し、光変調器の異なる面
を独立して制御するのみならず、各面の各セルを選択的
に制御する。

そのとき、幅りに等しい長さを有するセルが用いられる
。第９図に示すように、′セル１０からなる正方形マ）
　ＩＪクスが、面Ｐｌｕ内に配列されている。

例えば、館９図は８×８のセルを示している。同じよう
に、セルかは面Ｐ２Ｏ内に配列され、セルＩは面Ｐ２Ｏ
内に配列されている。面ＰＩＵ、Ｐ２Ｏ及びＰ２Ｏは異
なる面における同一座標を有するセルが軸ＸＹに平行な
同一の軸に従って配列されるように、重畳されている。

（発明の効果） 以上説明したように、本発明はトラッキング照準又はカ
メラレンズ等に適用可能な光変調器を提供することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は公知の流体移動装置の等角図、第２図、第３図
及び第４図はそれぞれ本発明による光変調器の等角図、
第５図は本発明の一実施例を示す図、第６図は本発明の
一実施例の変形例、第７図は本発明の一実施例の等角図
、第８図は本発明による変形例の等角図、及び第９図は
本発明によるセルの組合わせの一例を示す等角図である
。 ｌυ、２０，３０・・・セル １１、１２・・・プレート １３・・・毛管スペース １４・・・溜め １５、１６．１７．１８・・・電極 １９・・・スペーサ ３１、３２・・・プレート お・・・毛管スペース 謁・・・溜め ３５、３６．３７．３８・・・電極 ３９・・・スペーサ ４０、４１・・・プリズム ４２・・・光吸収性プレート 閣、　５１．５２・・・光ビーム 聞・・・光強度測定装置 ５５・・・制御回路 ５６・・・電圧発生器 ５７、５８・・・接続路 １ｆ２，２ｆ２・・・流体。 特許出願人 トムソンーセーエスエフ 特許出願代理人 弁理士　山　本　恵　− 第１頁の続き ０発　明　者　ジャン　ノニル　ペル　フランス国、　
９１１９０ベ　ド　ラ　バニエール ギフ　ジュール　イベット、アレ ド　モーペルテユイ　３番地

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）　毛管スペースと少な゛くとも１つの流体を含む
   溜めを形成する２つの平行に設けられた光透過性のプレ
   ートにより形成された、電気的制御による流体の移動の
   ための複数のセルと、電界が存在しない領域から電界が
   存在する領域へ流体を移動させるために、誘電作用によ
   り前記毛管スペースと前記部めとの間での流体の移動を
   制御する電界を供給する電界供給手段とを有する光変調
   器であって、該光変調器は更に、２つの平行に設けられ
   た光透過性のプレートが光ビームの方向に垂直に位置し
   、毛管スペースが光ビームの領域内にあり更にセル内の
   流体が光吸収性である少なくとも１つの第１のタイプの
   セルと、光ビームの強度に比例する測定信号を供給する
   光強度測定手段と、該光強度測定手段に接続され、前記
   測定信号を受取り前記電界供給手段を制御する信号を出
   力する制御手段とを有することを特徴とする光変調器。
2. （２）　前記第１のタイプの少なくとも１つのセルと、
   光透過性の平行プレートが光伝達装置内において光ビー
   ムの方向に対し傾斜して位置し、毛管スペースが光ビー
   ムの領域内にあり更にセル内の流体が光透過性でかつ前
   記光伝達装置の屈折率と同一の屈折率を有し、流体が毛
   管スペース内にあるときは光ビームは偏向することな（
   伝達され、−力流体が溜め内にあるときは光ビームは偏
   向される第２のタイプのセルとを有し、前記制御手段は
   前記測定信号の値に従って、第１のタイプ及び／又は第
   ２のタイプの１つ又はそれ以上のセルに係る前記電界供
   給手段を選択的に制御することを特徴とする特許請求の
   範囲第１項に記載の光変調器。
3. （３）光ビームの通路に沿って配列された複数の第１の
   タイプのセルを有し、前記制御手段は前記セルのすべて
   又は一部に係る前記電界供給手段を制御し、光ビームの
   異なる変調度を得ることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項に記載の光変調器。
4. （４）第１のタイプのセルの光吸収性の流体は、所定の
   波長領域内の光を吸収する混合物を有することを特徴と
   する特許請求の範囲第１項に記載の光変調器。
5. （５）前記光伝達装置は頭−尾方法で配列された２つの
   三角プリズムを有し、これらの各々の１つの面は光ビー
   ムの方向に対し傾斜しており、第２のタイプのセルはこ
   の２つの傾斜した面の間に置かれ、光透過性の流体が毛
   管スペース内にあるときはセルとプリズムの組立体は光
   ビームを偏向することなくこれを伝達し、−力先透過性
   の流体が毛管スペース内にないときは前記アセンブリは
   セルの光透過性プレートの内壁が光ビームを偏向させる
   ことを特徴とする特徴請求の範囲第２項に記載の光変調
   器。
6. （６）第２のタイプのセルは、光ビームの方向に垂直に
   位置決めされかつ光ビームの領域内に位置決めされた毛
   管スペース又は溜めを形成する２つの平行に設けられた
   光透過性のプレートを有し、前記溜めは傾斜しているプ
   レートによって形成された毛管スペースと結合し、前記
   制御手段は前記毛管スペースから前記溜め又はこの逆に
   光透過性の流体を移動させる如く前記電界供給手段を制
   御することを特徴とする特許請求の範囲第２項に記載の
   光変調器。
7. （７）第２のタイプのセルは、光ビームの方向に平行に
   位置決めされかつ毛管スペース又は溜めを形成する２つ
   の平行に設けられた光透過性のプレートを有し、前記溜
   めは傾斜しているプレートによって形成された毛管スペ
   ースと結合し、前記制御手段は前記毛管スペースから前
   記溜め又はこの逆に光透過性の流体を移動させる如（前
   記電界供給手段を制御することを特徴とする特許請求の
   範囲第２項に記載の光変調器。
8. （８）溜めを形成する２つのプレート間のスペースは、
   同一セルの毛管スペースを形成する２つのプレート間の
   スペースより大であることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項に記載の光変調器。
9. （９）溜めを形成するブレー１・に垂直の光ビーム方向
   において、溜め内の光ビームによってカバーされる距離
   は毛管スペース内の前記光ビームによってカバーされる
   距離に等しいことを特徴とする特許請求の範囲第６項に
   記載の光変調器。 ００）第１のタイプのセルの溜めは毛管スペースの一方
   の側に位置し、かつ光ビームの方向に平行であることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の光変調器。 ａυ　第１のタイプのセルは毛管スペースの一端に位置
   する１つの溜めを有することを特徴とする特許請求の範
   囲第１項に記載の光変調器。 ０２）第１のタイプの複数のセルは光ビームの方向に垂
   直な第１の面内に配列され、一方第２のタイプの複数の
   セルは光ビームの方向に垂直な第２の面内に配列され、
   完全な光ビーム領域をカバーすることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項に記載の光変調器。 ＯＪ　第２のタイプのセルは光ビームの方向に平行な光
   吸収性のスクリーンによって分離されていることを特徴
   とする特許請求の範囲第１２項に記載の光変調器。 ■　第２のタイプの複数のセルは、１つのセルの毛管ス
   ペースを形成する光透過性プレートが隣接するセルの入
   射面に垂直であることを特徴とする特許請求の範囲第１
   ２項に記載の光変調器。 （■５）制御手段は、光強度測定手段によって供給され
   た測定信号に従って、同一の方法により同一面内のすべ
   てのセルを制御することを特徴とする特許請求の範囲第
   １項に記載の光変調器。 （１６１制御手段は、光強度測定手段によって供給され
   た測定信号に従って同一面内のセルのすべて又は一部を
   制御し、光変調器から出力された光ビームの平均強度を
   得ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の光
   変調器。