JPS60106211A - 複合トランジスタ装置 - Google Patents
複合トランジスタ装置Info
- Publication number
- JPS60106211A JPS60106211A JP58214866A JP21486683A JPS60106211A JP S60106211 A JPS60106211 A JP S60106211A JP 58214866 A JP58214866 A JP 58214866A JP 21486683 A JP21486683 A JP 21486683A JP S60106211 A JPS60106211 A JP S60106211A
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- JP
- Japan
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- transistor
- short channel
- channel effect
- threshold value
- composite
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、例えばMOS )ランジスタをアナログ回路
に用いる場合に使用して好適な複合トランジスタ装置に
関する。
に用いる場合に使用して好適な複合トランジスタ装置に
関する。
背景技術とその問題点
MOS )ランジスタ回路を高速で動作させるためには
、MOS )ランジスタの実効チャンネル長”effは
短かければ短かい程良い。
、MOS )ランジスタの実効チャンネル長”effは
短かければ短かい程良い。
ところが、Lllffを短くすると、チャンネル長変調
の影響を受けやすくなり、いわゆるショートチャンネル
効果によって、増幅器、バッファ回路ではrインの低下
、電流源ではドレイン電圧に対する定電流性の悪化など
の問題がある。
の影響を受けやすくなり、いわゆるショートチャンネル
効果によって、増幅器、バッファ回路ではrインの低下
、電流源ではドレイン電圧に対する定電流性の悪化など
の問題がある。
例えば定電流源においては、次のよう々ショートチャン
ネル効果の影響を受ける・ すなわち第1図に示すような定電流源があった場合に、
トランジスタ町が飽和領域で動作していたとすると電流
電圧式は となる。ここでBeff=μ。Cox :μ0:キャリ
アのモヒリテイ、Cox :単位面積当9・のf−)容
量、W:チャンネル幅、L:チャンネル長、Vth :
閾値、λニジヨードチャンネル係数である。
ネル効果の影響を受ける・ すなわち第1図に示すような定電流源があった場合に、
トランジスタ町が飽和領域で動作していたとすると電流
電圧式は となる。ここでBeff=μ。Cox :μ0:キャリ
アのモヒリテイ、Cox :単位面積当9・のf−)容
量、W:チャンネル幅、L:チャンネル長、Vth :
閾値、λニジヨードチャンネル係数である。
今、トランジスタM1のドレイン電圧VDがΔV、変化
したとすると、その時の電流の変化量ΔI、はとなる。
したとすると、その時の電流の変化量ΔI、はとなる。
通常1)λV、なので
ΔIo幻λID・ΔVD ”’ (3)従ってMlの小
信号出力抵抗rdは となる。とこで第1図の負荷が差動対であると、入力信
号によって、差動トランジスタの出力電圧の直流レベル
が変調を受け、出力信号が歪む結果となる。
信号出力抵抗rdは となる。とこで第1図の負荷が差動対であると、入力信
号によって、差動トランジスタの出力電圧の直流レベル
が変調を受け、出力信号が歪む結果となる。
また第2図に示すような抵抗負荷の反転増幅器の場合に
は次のようになる。
は次のようになる。
丁なわち各枝路の電流の関係より
1βeff ” (VIN Vth)2= Ioとすル
トL Io(1+λvout) U (VDD−v。txt)
である。
トL Io(1+λvout) U (VDD−v。txt)
である。
従って交流増幅率は
・・・(6)
となる。ここでgmo ==β。(f’CVxNVth
)である。
)である。
この(6)式より入力電圧によってダインが変調を受け
ることがわかる。
ることがわかる。
このように、MOSトランジスタを高速で駆動する場合
には、ショートチャンネル効果によって信号の歪みやダ
インの変調等の問題が発生する。
には、ショートチャンネル効果によって信号の歪みやダ
インの変調等の問題が発生する。
発明の目的
本発明はこのような点にかんがみ、MOS )ランジス
タのショートチャンネル効果を補償するものである。
タのショートチャンネル効果を補償するものである。
発明の概要
本発明は、闇値の異なる複数のトランジスタ部を有し、
上記閾値の大きいトランジスタ部のドレインと、上記閾
値の小さいトランジスタ部のソースとが互いに接続され
、上記トランジスタ部のダートが共通に接続されたこと
を特徴とする複合トランジスタ装置であって、これによ
ればMOS )ランジスタのショートチャンネル効果が
補償される。
上記閾値の大きいトランジスタ部のドレインと、上記閾
値の小さいトランジスタ部のソースとが互いに接続され
、上記トランジスタ部のダートが共通に接続されたこと
を特徴とする複合トランジスタ装置であって、これによ
ればMOS )ランジスタのショートチャンネル効果が
補償される。
実施例
第3図において、エンハンスメント型のMOS)ランジ
スタ(ロ)とディプレッション型のMOS )ランジス
タQ1)とが直列に接続され、ダートが共通に接続され
て複合トランジスタ装置とされる。さらにディプレッシ
ョン型のトランジスタ(ハ)からエンノ1ンスメント型
のトランジスタaυの方向に電流が流される。
スタ(ロ)とディプレッション型のMOS )ランジス
タQ1)とが直列に接続され、ダートが共通に接続され
て複合トランジスタ装置とされる。さらにディプレッシ
ョン型のトランジスタ(ハ)からエンノ1ンスメント型
のトランジスタaυの方向に電流が流される。
この複合トランジスタ装置が、エンノ1ンスメント型あ
るいはディプレッション型のMOS )ランジスタの、
ショートチャンネル効果の問題とガる素子に置換される
。
るいはディプレッション型のMOS )ランジスタの、
ショートチャンネル効果の問題とガる素子に置換される
。
これによってゲインの低下、リニアリティ、電流レシオ
のばらつき等チャンネル長変調に起因する悪影響をすべ
て除去できる。
のばらつき等チャンネル長変調に起因する悪影響をすべ
て除去できる。
すなわちトラy シスII (11) 、 ele (
7) (W/’I−) 、を、Cw′X、)1゜(w/
l’l、)2.とすると、 の関係がある。従って入力電圧がΔV□N変化したこと
で電流ΔID、f−ト、ソース間電圧がΔv、84.。
7) (W/’I−) 、を、Cw′X、)1゜(w/
l’l、)2.とすると、 の関係がある。従って入力電圧がΔV□N変化したこと
で電流ΔID、f−ト、ソース間電圧がΔv、84.。
Δv02.変化したとすると
の関係がある。
一方トランジスタQl)のドレイン−ソース間電圧の変
動分ΔVGg11は である。
動分ΔVGg11は である。
ことでショートチャンネル効果を無くすためには1jv
o8,1=0であればよい。すなわち<−)=(”−) LHL21 ・・・(7) なる関係にあれば出力インピーダンスはωとなシ、ra
+によるリニアリティO劣化、ダイン低下は防止される
。
o8,1=0であればよい。すなわち<−)=(”−) LHL21 ・・・(7) なる関係にあれば出力インピーダンスはωとなシ、ra
+によるリニアリティO劣化、ダイン低下は防止される
。
なお、トランジスタαυは飽和領域で動作しなければな
らないので第3図において VA vthz < Vc −(8) でなければならない。一方 vム+ vC= VGf121 であ漫(s) 、 (9)式より の範囲でIDを選ぶ必要がある。ここでVthl ’エ
ンハンスメン)Wの閾値、vthD:デイゾレツション
型の閾値である。
らないので第3図において VA vthz < Vc −(8) でなければならない。一方 vム+ vC= VGf121 であ漫(s) 、 (9)式より の範囲でIDを選ぶ必要がある。ここでVthl ’エ
ンハンスメン)Wの閾値、vthD:デイゾレツション
型の閾値である。
こうして、この装置によればショートチャンネル効果を
補償することができる。これによって信号の歪みやゲイ
ンの変調等の悪影響を除くことができる。
補償することができる。これによって信号の歪みやゲイ
ンの変調等の悪影響を除くことができる。
さらに第4図は素子を3段にした場合である。
この図において各トランジスタのvthをvDD側がら
Vthl 1 vth21 vth5とし、W/L 全
同一 トスルと 々る榮件であれば、ショートチャンネル効果のない構成
要素と々る。
Vthl 1 vth21 vth5とし、W/L 全
同一 トスルと 々る榮件であれば、ショートチャンネル効果のない構成
要素と々る。
また第5図はウェルを用いることのできるグロセスを採
用する場合である。■1.■2はウェルの電位である。
用する場合である。■1.■2はウェルの電位である。
ここで
の条件は基板バイアスがかかつていることからとなシ、
このα2式の範囲であればFg[望の動作を行なうこと
ができる。
このα2式の範囲であればFg[望の動作を行なうこと
ができる。
さらに第6図に装置の構造を示す。まずAは基本的な構
造であってP型のサブストレートの中にN領域が3ケ所
設けられ、これらのN領域の間の例えば左側がエンハン
スメント型(ト)、右側がディプレッション型争)とさ
れる。さらにN領域の間の部分の表面はそれぞれデート
電極が設けられ、これら°が互いに接続され、この接続
点から端子G/が導出される。また左側のN領域から端
子S′が導出され、右側のN領域から端子D′が導出さ
れる。なお中央のN領域は左側エンハンスメント型素子
のドレイン、右側ディプレッション型素子のソースに相
当するが、これらは内部で接続されていれば良いので電
極及び端子は不要である。
造であってP型のサブストレートの中にN領域が3ケ所
設けられ、これらのN領域の間の例えば左側がエンハン
スメント型(ト)、右側がディプレッション型争)とさ
れる。さらにN領域の間の部分の表面はそれぞれデート
電極が設けられ、これら°が互いに接続され、この接続
点から端子G/が導出される。また左側のN領域から端
子S′が導出され、右側のN領域から端子D′が導出さ
れる。なお中央のN領域は左側エンハンスメント型素子
のドレイン、右側ディプレッション型素子のソースに相
当するが、これらは内部で接続されていれば良いので電
極及び端子は不要である。
さらにf−)電極は互いに接続されるので、Bに示すよ
うに左右のN領域の間の全面に設けてもよい。またCK
示すようにピンチオフ点poを境目にして片側をエンハ
ンスメント型、反対側をディプレッション型にできるの
であれば、中央のN領域は無くてもよい。
うに左右のN領域の間の全面に設けてもよい。またCK
示すようにピンチオフ点poを境目にして片側をエンハ
ンスメント型、反対側をディプレッション型にできるの
であれば、中央のN領域は無くてもよい。
なお、第7図、第8図はvD対■。特性をシュミレーシ
ョンで得た図であって、従来第7図に示すようにショー
トチャンネル効果による歪が発生していたのに対し、上
述の装置によれば第8図に示すように歪が全く無くなる
。
ョンで得た図であって、従来第7図に示すようにショー
トチャンネル効果による歪が発生していたのに対し、上
述の装置によれば第8図に示すように歪が全く無くなる
。
応用例
第9図は差動アンプに応用した例を示す。
図においてトランジスタαや、(ハ)及び(6)、@の
”mを同一にする。すなわち (=)夕<−)、 (i)〜(り L11 L21 L12 L22 とすると、■、■′の電位は信号によらず一定になるの
で、トランジスタ(11)、(ロ)によるショートチャ
ンネル効果によるrdは■七な多このアンプのゲインは
、はぼ となる。
”mを同一にする。すなわち (=)夕<−)、 (i)〜(り L11 L21 L12 L22 とすると、■、■′の電位は信号によらず一定になるの
で、トランジスタ(11)、(ロ)によるショートチャ
ンネル効果によるrdは■七な多このアンプのゲインは
、はぼ となる。
第10図はカレントミラーに応用した例を示す。
図において、■1.v2.v3が異なる電位であっても
I。1.Io2.■。うけトランジスタaυ、(2)、
Q罎のW/Lのみによって決定される。すなわちドレイ
ンの電位の影響を受けない、ここで各電流は第11図は
ソースホロアに応用した例を示す。
I。1.Io2.■。うけトランジスタaυ、(2)、
Q罎のW/Lのみによって決定される。すなわちドレイ
ンの電位の影響を受けない、ここで各電流は第11図は
ソースホロアに応用した例を示す。
図において
の条件でトランジスタaηのソース−ドレイン電圧をで
きるだけ小さくなるように選べば、ドレイン空乏層で発
生するショット・ノイズを小さくすることができる。こ
のソースホロアのゲインはである。
きるだけ小さくなるように選べば、ドレイン空乏層で発
生するショット・ノイズを小さくすることができる。こ
のソースホロアのゲインはである。
発明の効果
本発明によれば、MOSトランジスタのショートチャン
ネルに効果が補償できるようになった。
ネルに効果が補償できるようになった。
第1図、第2図は従来の装置の説明のための図、第3図
は本発明の一例の構成図、第4図、第5図は他の例の構
成図、第6図は装置の構造を示す図、第7図、第8図は
その説明のための図、第9図〜第11図は応用例の構成
図である。 αηハエンハンスメント型のMOS )ランジスタ、H
はディプレッション屋のMOS )ランジスタである。 第1図 第2図 第6図
は本発明の一例の構成図、第4図、第5図は他の例の構
成図、第6図は装置の構造を示す図、第7図、第8図は
その説明のための図、第9図〜第11図は応用例の構成
図である。 αηハエンハンスメント型のMOS )ランジスタ、H
はディプレッション屋のMOS )ランジスタである。 第1図 第2図 第6図
Claims (1)
- 閾値の異なる複数のトランジスタ部を有し、上記閾値の
大きいトランジスタ部のドレインと、上記閾値の小さい
トランジスタ部のソースとが互いに接続され、上記トラ
ンジスタ部のf−)が共通に接続されたことを特徴とす
る複合トランジスタ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58214866A JPS60106211A (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | 複合トランジスタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58214866A JPS60106211A (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | 複合トランジスタ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60106211A true JPS60106211A (ja) | 1985-06-11 |
Family
ID=16662850
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58214866A Pending JPS60106211A (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | 複合トランジスタ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60106211A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101078258B1 (ko) | 2006-01-09 | 2011-10-31 | 에스엠에스 지마크 악티엔게젤샤프트 | 작업 롤 및/또는 받침 롤의 취급/이송 방법 및 그 장치 |
-
1983
- 1983-11-15 JP JP58214866A patent/JPS60106211A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101078258B1 (ko) | 2006-01-09 | 2011-10-31 | 에스엠에스 지마크 악티엔게젤샤프트 | 작업 롤 및/또는 받침 롤의 취급/이송 방법 및 그 장치 |
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