JPS5998448A - 四重極質量分析計 - Google Patents
四重極質量分析計Info
- Publication number
- JPS5998448A JPS5998448A JP57208992A JP20899282A JPS5998448A JP S5998448 A JPS5998448 A JP S5998448A JP 57208992 A JP57208992 A JP 57208992A JP 20899282 A JP20899282 A JP 20899282A JP S5998448 A JPS5998448 A JP S5998448A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat insulating
- insulating plate
- temperature
- heat
- rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/26—Mass spectrometers or separator tubes
- H01J49/34—Dynamic spectrometers
- H01J49/42—Stability-of-path spectrometers, e.g. monopole, quadrupole, multipole, farvitrons
- H01J49/4205—Device types
- H01J49/421—Mass filters, i.e. deviating unwanted ions without trapping
- H01J49/4215—Quadrupole mass filters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/04—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components
- H01J49/0468—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components with means for heating or cooling the sample
- H01J49/0486—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components with means for heating or cooling the sample with means for monitoring the sample temperature
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、四重径質量分析計のノ・ウジングの構造に関
するものである。従来四重径質量分析計のロッドは、モ
リブデン、ステンレス合金等で製作されていた。しかし
、超高真空下では、アルミニウム及びアルミニウム合金
を使用した方が、吸着ガスの脱離が早い、望ましい。し
かしアルミニウムの線膨張率は、モリブデンに比較して
約７倍と大きい。一方四重極質量分析計では、４本のロ
ッドの内半径が、一定であることが、安定なスペクトル
を得るための必須条件となる。従来の四重極買量分析計
のハウジングは、線膨張率の小さいロッドを使用してい
たため、外部よりの四重径ロッドへの熱の出入について
は、考慮されていない。
するものである。従来四重径質量分析計のロッドは、モ
リブデン、ステンレス合金等で製作されていた。しかし
、超高真空下では、アルミニウム及びアルミニウム合金
を使用した方が、吸着ガスの脱離が早い、望ましい。し
かしアルミニウムの線膨張率は、モリブデンに比較して
約７倍と大きい。一方四重極質量分析計では、４本のロ
ッドの内半径が、一定であることが、安定なスペクトル
を得るための必須条件となる。従来の四重極買量分析計
のハウジングは、線膨張率の小さいロッドを使用してい
たため、外部よりの四重径ロッドへの熱の出入について
は、考慮されていない。
アルミニウム及びその合金をロッドとして使用する場合
は、線膨張率が大きいため、従来のハウジングの構造で
は、４本のロッドの内半径が、温度により変化してしま
い、安定なスペクトルは得られない。
は、線膨張率が大きいため、従来のハウジングの構造で
は、４本のロッドの内半径が、温度により変化してしま
い、安定なスペクトルは得られない。
本発明は、上記のような従来の欠点を除去するためにな
されたものである。特にアルミニウム及びアルミニウム
合金をロッドとして使用した場合に、安定なスペクトル
を得るためのノーウジングの構造に関するものである。
されたものである。特にアルミニウム及びアルミニウム
合金をロッドとして使用した場合に、安定なスペクトル
を得るためのノーウジングの構造に関するものである。
以下図面により本発明を詳述する。
第１図に四重径質量分析計の断面図を示す。１は真空シ
ール壁で材質は、Ａｔ及びその合金とする。２α〜２ｄ
は、セラミックス製の支持棒である。イオン源３．イオ
ン源支持棒３α〜５ｈ、四至極ロッド４．イオン検出器
５等は、Ａｔ及びその合金製の円筒状の断熱板６により
熱的にシールドされている。この断熱板６の上には、Ａ
７及びその合金でシールされたヒーター７及び同様な材
質でシールされた熱電対８を有する。
ール壁で材質は、Ａｔ及びその合金とする。２α〜２ｄ
は、セラミックス製の支持棒である。イオン源３．イオ
ン源支持棒３α〜５ｈ、四至極ロッド４．イオン検出器
５等は、Ａｔ及びその合金製の円筒状の断熱板６により
熱的にシールドされている。この断熱板６の上には、Ａ
７及びその合金でシールされたヒーター７及び同様な材
質でシールされた熱電対８を有する。
今、四至極のロッドに流れこむ熱の流れを考えて見る。
熱の流れは、対流、熱放射、伝導によるが真空系である
ため対流は無視して良い。又、熱放射もさほど高温でな
いため無視して良く、主な熱の流れは伝導によるものと
考えてさしつかえない。熱源としては、外部より真空シ
ール壁・１を通して流れこむものと、イオン源３よりイ
オン源支持棒を通して流れこむものと２通り考えられる
。
ため対流は無視して良い。又、熱放射もさほど高温でな
いため無視して良く、主な熱の流れは伝導によるものと
考えてさしつかえない。熱源としては、外部より真空シ
ール壁・１を通して流れこむものと、イオン源３よりイ
オン源支持棒を通して流れこむものと２通り考えられる
。
外部からの熱は、熱伝導率の悪いセラミックス２α〜２
ｄでゆっくりと断熱板６に流れ込む。同様にイオン源よ
りの熱もセラミックス３α〜３ｂを通して断熱板６に流
れ込む。これらの熱は、熱伝導率の良い断熱板乙により
均一化される。一方断熱板６上に設けられたヒーター７
及び熱電対８により、断熱板は常に約４０°Ｃになるよ
うにコントロールされている。従って上記のように外部
及びイオン源よりの熱流は、断熱板乙により平均化され
る。又その断熱板６を温度コントロールすることにより
、断熱板６の温度は常に一定となり、従って四至極ロッ
ドの温度も一定となり、外部の温度変化の影響を受けに
くくなる。
ｄでゆっくりと断熱板６に流れ込む。同様にイオン源よ
りの熱もセラミックス３α〜３ｂを通して断熱板６に流
れ込む。これらの熱は、熱伝導率の良い断熱板乙により
均一化される。一方断熱板６上に設けられたヒーター７
及び熱電対８により、断熱板は常に約４０°Ｃになるよ
うにコントロールされている。従って上記のように外部
及びイオン源よりの熱流は、断熱板乙により平均化され
る。又その断熱板６を温度コントロールすることにより
、断熱板６の温度は常に一定となり、従って四至極ロッ
ドの温度も一定となり、外部の温度変化の影響を受けに
くくなる。
四至極質量分析計は、長時間使用するとロッドの表面及
び断熱板６内部に、汚れが付着する。これらの汚れを除
去するために、装置全体を３００℃程度に加熱して汚れ
を蒸発除去する必要がある本発明は上記のような構造を
有しているためにイ、四至極ロッドの温度が一定に保れ
る。その結果として、四至極ロッド内径が変化せず、安
定なスペクトルが長時間にわたって得られる口、温調用
のヒーター７を内部ベーキング用にも転用できる。
び断熱板６内部に、汚れが付着する。これらの汚れを除
去するために、装置全体を３００℃程度に加熱して汚れ
を蒸発除去する必要がある本発明は上記のような構造を
有しているためにイ、四至極ロッドの温度が一定に保れ
る。その結果として、四至極ロッド内径が変化せず、安
定なスペクトルが長時間にわたって得られる口、温調用
のヒーター７を内部ベーキング用にも転用できる。
等の諸効果がある。
第１図はこの発明による四至極質量分析計を示すための
断面図、第２図は第１図Ａの部分の拡大図である。 １・・・・・・真空シール壁 ２α〜２ｄ・・・・・・支持棒 ３・・・・・・イオン源 ３α〜３ｂ・・・・・・イオン源支持棒４・・・・・・
四至極ロッド ５・・・・・・イオン検出器 ６・・・・・・断熱板 ７・・・・・・ヒーター ８・・・・・・熱電対 である。 以上 出願人 株式会社第二精工舎 代理人 弁理士 最上 務 第１図 第２図 ぺ
断面図、第２図は第１図Ａの部分の拡大図である。 １・・・・・・真空シール壁 ２α〜２ｄ・・・・・・支持棒 ３・・・・・・イオン源 ３α〜３ｂ・・・・・・イオン源支持棒４・・・・・・
四至極ロッド ５・・・・・・イオン検出器 ６・・・・・・断熱板 ７・・・・・・ヒーター ８・・・・・・熱電対 である。 以上 出願人 株式会社第二精工舎 代理人 弁理士 最上 務 第１図 第２図 ぺ
Claims (1)
- 真空シール壁と四重径ロッドの間に、熱シールド用の円
筒状の断熱板を設け、その断熱板を、温度コントロール
する素子を有する、四重極質景分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57208992A JPS5998448A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 四重極質量分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57208992A JPS5998448A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 四重極質量分析計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998448A true JPS5998448A (ja) | 1984-06-06 |
Family
ID=16565528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57208992A Pending JPS5998448A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 四重極質量分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5998448A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0655771A1 (en) * | 1993-11-18 | 1995-05-31 | Shimadzu Corporation | Quadrupole mass analyzers |
| GB2519855A (en) * | 2013-09-20 | 2015-05-06 | Micromass Ltd | Interface for ion source and vacuum housing |
| US9721774B2 (en) | 2013-09-20 | 2017-08-01 | Micromass Uk Limited | Interface for ion source and vacuum housing |
| WO2019155542A1 (ja) * | 2018-02-07 | 2019-08-15 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置 |
-
1982
- 1982-11-29 JP JP57208992A patent/JPS5998448A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0655771A1 (en) * | 1993-11-18 | 1995-05-31 | Shimadzu Corporation | Quadrupole mass analyzers |
| JPH07142026A (ja) * | 1993-11-18 | 1995-06-02 | Shimadzu Corp | 四重極質量分析装置 |
| US5459315A (en) * | 1993-11-18 | 1995-10-17 | Shimadzu Corporation | Quadrupole mass analyzer including spring-clamped heat sink plates |
| GB2519855A (en) * | 2013-09-20 | 2015-05-06 | Micromass Ltd | Interface for ion source and vacuum housing |
| GB2519855B (en) * | 2013-09-20 | 2016-08-31 | Micromass Ltd | Interface for ion source and vacuum housing |
| US9721774B2 (en) | 2013-09-20 | 2017-08-01 | Micromass Uk Limited | Interface for ion source and vacuum housing |
| WO2019155542A1 (ja) * | 2018-02-07 | 2019-08-15 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置 |
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