JPS599172A - 金属イオン含有液の処理法 - Google Patents
金属イオン含有液の処理法Info
- Publication number
- JPS599172A JPS599172A JP11665982A JP11665982A JPS599172A JP S599172 A JPS599172 A JP S599172A JP 11665982 A JP11665982 A JP 11665982A JP 11665982 A JP11665982 A JP 11665982A JP S599172 A JPS599172 A JP S599172A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- dialysis
- treated
- metal
- metallic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/36—Regeneration of waste pickling liquors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属表面処理工程におけるエッチング処理の
廃液、洗浄水など比較的高濃度の金属イオンを含有する
液より電解透析法を用いて金属イオンを比較的高純度の
金属粉として回収し、処理後の液は循環使用あるいはそ
のまま排出放流を可能ならしめた金属イオン含有液の処
理法に関する。従来透析膜を使用して電解透析法あるい
は浸漬透析法により、溶液の濃縮あるいは希釈を行うこ
と、及び電解透析の陰極電極に金属イオンなど陽イオン
が析出することは公知の事実であるが溶液の濃縮あるい
は希釈を目的とした現在の電解透析法によれば陰極に析
出する陽イオンは電解透析による従属的な結果であるた
め金属イオンの回収を目的とする場合には、析出効果、
析出金属の性質、陰極液の后処理等に於いて充分である
とは考えられない。又資源エネルギーの回収、節約の面
から現在は未だ相当な無駄が認められる。例えばプリン
ト基板処理過程のエッチング工程、無電解銅メッキ、電
気銅メッキなどの工程で発生している銅イオンを含む廃
液はスラッヂ化、あるいは業者委託処理に頼っているが
、その発生量は大量であり又今後積層基盤の発達により
益々増加することは必然である。本発明者はプリント基
板処理工場における銅イオンを含む、エッチング廃液及
びメッキ処理を含む洗浄水について、銅イオンを可及的
高純度の金属銅として回収し同時に電解透析処理後の廃
液及び洗浄水中の残存銅イオン濃度を、排水規制値以下
に保つことを目的として実験を重ねて本法を完成したも
のである。本発明は図面［第１図］に示す如く単位セル
の組合せ により構成された電解透析装置を使用するものであり単
位セルは、被透析液がアニオン及びカチオン透析膜を隔
てて各々電極版を設置した電極及び陰極透析液に接する
ように配置しかも被透析液は流速、温度、又両極透析液
は流速、温度ＰＨ値などの管制を受けられるごとく設計
されている。この単位セルを被透析液量、透析所要時間
などの要求に対応して、所要の個数（複数個のセル）を
直列あるいは並列、又は直並列に組み合わせて使用する
ことが可能な電解透析装置を用いることを特徴とする電
解透析法である。本発明をプリント基板処理工程を一例
として詳述すると、通常行われているエッチング及びメ
ッキ工程は概ね次の様である。
廃液、洗浄水など比較的高濃度の金属イオンを含有する
液より電解透析法を用いて金属イオンを比較的高純度の
金属粉として回収し、処理後の液は循環使用あるいはそ
のまま排出放流を可能ならしめた金属イオン含有液の処
理法に関する。従来透析膜を使用して電解透析法あるい
は浸漬透析法により、溶液の濃縮あるいは希釈を行うこ
と、及び電解透析の陰極電極に金属イオンなど陽イオン
が析出することは公知の事実であるが溶液の濃縮あるい
は希釈を目的とした現在の電解透析法によれば陰極に析
出する陽イオンは電解透析による従属的な結果であるた
め金属イオンの回収を目的とする場合には、析出効果、
析出金属の性質、陰極液の后処理等に於いて充分である
とは考えられない。又資源エネルギーの回収、節約の面
から現在は未だ相当な無駄が認められる。例えばプリン
ト基板処理過程のエッチング工程、無電解銅メッキ、電
気銅メッキなどの工程で発生している銅イオンを含む廃
液はスラッヂ化、あるいは業者委託処理に頼っているが
、その発生量は大量であり又今後積層基盤の発達により
益々増加することは必然である。本発明者はプリント基
板処理工場における銅イオンを含む、エッチング廃液及
びメッキ処理を含む洗浄水について、銅イオンを可及的
高純度の金属銅として回収し同時に電解透析処理後の廃
液及び洗浄水中の残存銅イオン濃度を、排水規制値以下
に保つことを目的として実験を重ねて本法を完成したも
のである。本発明は図面［第１図］に示す如く単位セル
の組合せ により構成された電解透析装置を使用するものであり単
位セルは、被透析液がアニオン及びカチオン透析膜を隔
てて各々電極版を設置した電極及び陰極透析液に接する
ように配置しかも被透析液は流速、温度、又両極透析液
は流速、温度ＰＨ値などの管制を受けられるごとく設計
されている。この単位セルを被透析液量、透析所要時間
などの要求に対応して、所要の個数（複数個のセル）を
直列あるいは並列、又は直並列に組み合わせて使用する
ことが可能な電解透析装置を用いることを特徴とする電
解透析法である。本発明をプリント基板処理工程を一例
として詳述すると、通常行われているエッチング及びメ
ッキ工程は概ね次の様である。
プリント基板→エッチング→処理液回収→洗浄→
プリント基板→前処理→無電解銅処理
→処理液回収→洗浄→電気メッキ
→処理液回収→洗浄→
以上の工程におけるエッチング液の廃液及び処理液回収
後の洗浄水に対する電解透析処理を一例として、以下に
エッチング廃液よりの金属銅回収を目的とした電解透析
法［１］及びメッキ工程の回収後洗浄水のリサイクル使
用を目的とした電解透析法［２］について説明する。
後の洗浄水に対する電解透析処理を一例として、以下に
エッチング廃液よりの金属銅回収を目的とした電解透析
法［１］及びメッキ工程の回収後洗浄水のリサイクル使
用を目的とした電解透析法［２］について説明する。
［１］プリント基板エッチング廃液には通常１０ｇｒ／
ｌ程度の銅イオンを含有し、又使用頻度により定期的に
更新される。以下本発明方法を図示した一実施例につい
て詳述する。
ｌ程度の銅イオンを含有し、又使用頻度により定期的に
更新される。以下本発明方法を図示した一実施例につい
て詳述する。
実施例
発生量０．９〜１ｍ２のエッチング廃液より金属銅回収
を主目的とした本方法を図面［第１図］に示す。［第１
図］は数個あるいは十数個並列使用する単位セルの内の
一単位を図示したもので、並列使用時の貯留槽１０に投
入されたエッチング廃液は透析槽の１７室に流入し、ポ
ンプ９により再び貯留槽へ戻り循環する。又陰極透析液
はポンプ１４によりＰＨ管制装置８で所定のＰＨ値範囲
内を保ちつつ、陰極透析室１８内で環流される。陰極透
析液も同様にポンプ１５によりＰＨ管制を受けて所定の
ＰＨ値範囲内で陽極透析室１９内で環流される。透析室
１７に流入した廃液は透析膜５及び６を隔てて両極透析
室１８及び１９と接し、電極版２及び１に２５Ｖ程度の
直流電圧を加えると、廃液１７は公知の電解透析現象に
より、銅イオンは他の陽イオンと共に陰極透析液１８に
移行するがこの時陰極透析液を、銅イオンの陰極電極面
２への電着を容易にしかつ他の陽イオンの陰極電極面２
えの析出を抑止する様な陰極透析液の種類、濃度、ＰＨ
値などの選定を行うことにより、陰極電極面２えは比較
的高純度の金属銅が析出する。このときに陰極電極指示
棒３に付設したロッキング装置４により陰極電極版２に
振動を興えることで析出銅は細粒となって底部に急速に
沈降し、底面の傾斜と相まってドレンコック１１より容
易に排出することが出来る。ルーバー７は析出銅粉、沈
殿物などが透析膜面に付着するのを防止する目的である
。
を主目的とした本方法を図面［第１図］に示す。［第１
図］は数個あるいは十数個並列使用する単位セルの内の
一単位を図示したもので、並列使用時の貯留槽１０に投
入されたエッチング廃液は透析槽の１７室に流入し、ポ
ンプ９により再び貯留槽へ戻り循環する。又陰極透析液
はポンプ１４によりＰＨ管制装置８で所定のＰＨ値範囲
内を保ちつつ、陰極透析室１８内で環流される。陰極透
析液も同様にポンプ１５によりＰＨ管制を受けて所定の
ＰＨ値範囲内で陽極透析室１９内で環流される。透析室
１７に流入した廃液は透析膜５及び６を隔てて両極透析
室１８及び１９と接し、電極版２及び１に２５Ｖ程度の
直流電圧を加えると、廃液１７は公知の電解透析現象に
より、銅イオンは他の陽イオンと共に陰極透析液１８に
移行するがこの時陰極透析液を、銅イオンの陰極電極面
２への電着を容易にしかつ他の陽イオンの陰極電極面２
えの析出を抑止する様な陰極透析液の種類、濃度、ＰＨ
値などの選定を行うことにより、陰極電極面２えは比較
的高純度の金属銅が析出する。このときに陰極電極指示
棒３に付設したロッキング装置４により陰極電極版２に
振動を興えることで析出銅は細粒となって底部に急速に
沈降し、底面の傾斜と相まってドレンコック１１より容
易に排出することが出来る。ルーバー７は析出銅粉、沈
殿物などが透析膜面に付着するのを防止する目的である
。
陰極透析液は被処理廃液より移行する陰イオンなどの種
類により、最も透析効果が高く、劣化の少ない液の種類
、濃度、ＰＨ値などを選定するべきである。又他の処理
時間の短縮などの要素として、被処理液、陽、陰極透析
液の適応関係及び陰極透析液、被処理廃液の還流速度も
重要である。次に基本的な一例として１０ｇｒ／ｌの銅
を含有する過硫酸アンモンエッチング廃液を被処理液と
し、陰極透析液として稀薄塩酸、陽極透析液として稀薄
硫酸を使用した場合について述べる。被処理廃液中の銅
イオン濃度は図面［第３図］４に示す様に概ね二次曲線
を画いて減少し、約１０時間にて２０ＰＰＭ迄下降し、
１５〜１６時間にて２〜３ＰＰＭとなる。この液のＰＨ
は４〜７である。この場合の陰極室における銅回収量は
１３．５ｇｒ／１．４ｌであった。又陰極透析からも銅
イオンは検出されない。電解質透析装置を構成する、セ
ル、の単位数を増減することによって透析時間及び透析
効果が変化するが金属銅の回収になんら差支えるもので
ない。なお被処理透析液中に有機添加剤が存在する場合
には透析膜５、及び６、の部分に活性炭素等の有機物質
吸着能を有する層を設置することにより良好な結果を得
るものである。又陽極、陰極の各透析液の還流回路に各
々活性炭素又は有機物質吸着能を有する物質よりなる有
機物質吸着処理部分を設置することも有効である。
類により、最も透析効果が高く、劣化の少ない液の種類
、濃度、ＰＨ値などを選定するべきである。又他の処理
時間の短縮などの要素として、被処理液、陽、陰極透析
液の適応関係及び陰極透析液、被処理廃液の還流速度も
重要である。次に基本的な一例として１０ｇｒ／ｌの銅
を含有する過硫酸アンモンエッチング廃液を被処理液と
し、陰極透析液として稀薄塩酸、陽極透析液として稀薄
硫酸を使用した場合について述べる。被処理廃液中の銅
イオン濃度は図面［第３図］４に示す様に概ね二次曲線
を画いて減少し、約１０時間にて２０ＰＰＭ迄下降し、
１５〜１６時間にて２〜３ＰＰＭとなる。この液のＰＨ
は４〜７である。この場合の陰極室における銅回収量は
１３．５ｇｒ／１．４ｌであった。又陰極透析からも銅
イオンは検出されない。電解質透析装置を構成する、セ
ル、の単位数を増減することによって透析時間及び透析
効果が変化するが金属銅の回収になんら差支えるもので
ない。なお被処理透析液中に有機添加剤が存在する場合
には透析膜５、及び６、の部分に活性炭素等の有機物質
吸着能を有する層を設置することにより良好な結果を得
るものである。又陽極、陰極の各透析液の還流回路に各
々活性炭素又は有機物質吸着能を有する物質よりなる有
機物質吸着処理部分を設置することも有効である。
［２］エッチング処理及びメッキ処理後の洗浄水の浄化
及びリサイクル使用を目的とする場合について述べる。
及びリサイクル使用を目的とする場合について述べる。
この場合には各処理工程における処理液回収槽に付着液
汲出制御装置［第２図］を用いて洗浄水中の銅イオンの
汲出量を、別に付設する電解透析装置の、銅イオン除去
溶量と合致させる様に注意すべきである。洗浄水の浄化
及びリサイクル使用の場合には［第１図］の貯留槽１０
は省略し洗浄水を直接被処理液層１８に流入し還流すれ
ばよい、尚付着液汲出量制御装置について一実施例によ
り説明する。図面［第２図］に於いてラック及び被処理
体２０は前工程により移行して朝顔型受口２４回収槽液
２５中に降下するがこの時点では加圧空気回路は作動し
ない、ラック及び被処理体２０が回収槽液２５より上昇
を始めると加圧空気回路は作動し吹出口２１、２２より
加圧空気をラック及び被処理体に吹付ける、この場合空
気圧は、５０ｍｍ／Ａｇ以上が良好な結果を得る、空気
吹付部２１、２２より吹付角度及び風量は被処理体の形
状、あるいは細穴の状況によって適宜選定すべきである
。加圧空気吹出口より噴出する加圧空気は被処理体がプ
リント基板の如く細穴の非常に多い場合には、基板と吹
付空気流との角度による細穴口部における過流による細
穴中の付着液の吸引除去が主たる要因である、したがっ
て吹付空気流と細穴との角度は重要なポイントである。
汲出制御装置［第２図］を用いて洗浄水中の銅イオンの
汲出量を、別に付設する電解透析装置の、銅イオン除去
溶量と合致させる様に注意すべきである。洗浄水の浄化
及びリサイクル使用の場合には［第１図］の貯留槽１０
は省略し洗浄水を直接被処理液層１８に流入し還流すれ
ばよい、尚付着液汲出量制御装置について一実施例によ
り説明する。図面［第２図］に於いてラック及び被処理
体２０は前工程により移行して朝顔型受口２４回収槽液
２５中に降下するがこの時点では加圧空気回路は作動し
ない、ラック及び被処理体２０が回収槽液２５より上昇
を始めると加圧空気回路は作動し吹出口２１、２２より
加圧空気をラック及び被処理体に吹付ける、この場合空
気圧は、５０ｍｍ／Ａｇ以上が良好な結果を得る、空気
吹付部２１、２２より吹付角度及び風量は被処理体の形
状、あるいは細穴の状況によって適宜選定すべきである
。加圧空気吹出口より噴出する加圧空気は被処理体がプ
リント基板の如く細穴の非常に多い場合には、基板と吹
付空気流との角度による細穴口部における過流による細
穴中の付着液の吸引除去が主たる要因である、したがっ
て吹付空気流と細穴との角度は重要なポイントである。
ラック及び被処理体２０の底部が朝顔型受口２４の上面
を通過して上昇すると加圧空気回路は遮断される、実施
例によると本方法による付着液汲出量制御装置を用いる
と一般的な、回収槽より洗浄槽への移行時の付着汲出量
に比べて汲出量を１／５〜１／８に減少することが可能
である。又飛散防止用外枠２３の上部は図に示す様に朝
顔型断面を有し、加圧空気により飛散した液ミストが上
面より外部に飛散することを防止している。又本装置に
於いて加圧空気の代わりに他のガスを使用しても何ら差
支えはない。回収槽液２５の銅イオン濃度が５００〜６
００ＰＰＭの場合に本出願に係る付着液汲出量制御装置
を用いることにより第一洗浄水２６に於る、銅イオン濃
度の上昇は４０〜５０ＰＰＭ／３０分であり、同様に第
一洗浄槽に該装置を使用した時の第二洗浄水２７の銅イ
オン濃度の上昇は２〜３ＰＰＭ／３０分である。一般的
に３０分の間に概ね５〜７回のラック及び被処理体の処
理が行われている。この第一洗浄及び第二洗浄の工程に
本出願による［第１図］に示す電解透析装置を付設した
実施例によると電解析出装置による銅イオンの除去量と
、ラック及び被処理体２０の移行による第一洗浄水及び
第二洗浄水中の銅イオン濃度の増加量とは概ね同量であ
り、連続作業による場合も各洗浄水中の銅イオン濃度は
安定し、洗浄水のリサイクル使用が可能であった。本方
法の実施に於いて電解透析装置［第１図］の各液の還流
回路に熱交換機を設置して液温度の安定化を行うことは
使用電力の軽減、作業の安定化のために有効である。図
面［第２図］に示す付着液汲出量制御装置は実施例に限
らず各種の樹脂溶液、塗料など実施例と相似た処理工程
に用いて何らの差支えはない。
を通過して上昇すると加圧空気回路は遮断される、実施
例によると本方法による付着液汲出量制御装置を用いる
と一般的な、回収槽より洗浄槽への移行時の付着汲出量
に比べて汲出量を１／５〜１／８に減少することが可能
である。又飛散防止用外枠２３の上部は図に示す様に朝
顔型断面を有し、加圧空気により飛散した液ミストが上
面より外部に飛散することを防止している。又本装置に
於いて加圧空気の代わりに他のガスを使用しても何ら差
支えはない。回収槽液２５の銅イオン濃度が５００〜６
００ＰＰＭの場合に本出願に係る付着液汲出量制御装置
を用いることにより第一洗浄水２６に於る、銅イオン濃
度の上昇は４０〜５０ＰＰＭ／３０分であり、同様に第
一洗浄槽に該装置を使用した時の第二洗浄水２７の銅イ
オン濃度の上昇は２〜３ＰＰＭ／３０分である。一般的
に３０分の間に概ね５〜７回のラック及び被処理体の処
理が行われている。この第一洗浄及び第二洗浄の工程に
本出願による［第１図］に示す電解透析装置を付設した
実施例によると電解析出装置による銅イオンの除去量と
、ラック及び被処理体２０の移行による第一洗浄水及び
第二洗浄水中の銅イオン濃度の増加量とは概ね同量であ
り、連続作業による場合も各洗浄水中の銅イオン濃度は
安定し、洗浄水のリサイクル使用が可能であった。本方
法の実施に於いて電解透析装置［第１図］の各液の還流
回路に熱交換機を設置して液温度の安定化を行うことは
使用電力の軽減、作業の安定化のために有効である。図
面［第２図］に示す付着液汲出量制御装置は実施例に限
らず各種の樹脂溶液、塗料など実施例と相似た処理工程
に用いて何らの差支えはない。
［第３図］は本発明処理法によって各種の、銅イオン含
有液を処理した場合の銅イオンの減少を示した図であり
、銅イオンは被処理液及び両極透析液の種類、組合せに
より、特有なそしておおむね二次曲線に近い曲線を画い
て減少する、以下に基本的な４種の電解透析曲線につい
て説明する。１は被処理液に硫酸銅メッキ第一洗浄液、
陽陰極液に同種の稀薄酸を使用した場合を示し、２は被
処理液にピロ燐酸銅メッキ第一洗浄液、陰極液に稀薄酸
、陽極液に稀アルカリ溶液を使用した場合、３は被処理
液に無電解銅メッキ第一洗浄液陽陰極液に異種の稀薄酸
を使用した場合を示す。又４は被処理液に過硫酸アンモ
ンエッチング廃液（１０ｇｒ／ｌＣｕ）、陰陽極液に異
種の稀薄酸を用いた場合を示す、２′は被処理液にピロ
燐酸銅メッキ第一洗浄液、陽陰極液に同種の稀薄酸を用
いた場合である。
有液を処理した場合の銅イオンの減少を示した図であり
、銅イオンは被処理液及び両極透析液の種類、組合せに
より、特有なそしておおむね二次曲線に近い曲線を画い
て減少する、以下に基本的な４種の電解透析曲線につい
て説明する。１は被処理液に硫酸銅メッキ第一洗浄液、
陽陰極液に同種の稀薄酸を使用した場合を示し、２は被
処理液にピロ燐酸銅メッキ第一洗浄液、陰極液に稀薄酸
、陽極液に稀アルカリ溶液を使用した場合、３は被処理
液に無電解銅メッキ第一洗浄液陽陰極液に異種の稀薄酸
を使用した場合を示す。又４は被処理液に過硫酸アンモ
ンエッチング廃液（１０ｇｒ／ｌＣｕ）、陰陽極液に異
種の稀薄酸を用いた場合を示す、２′は被処理液にピロ
燐酸銅メッキ第一洗浄液、陽陰極液に同種の稀薄酸を用
いた場合である。
条件及び組合せによって銅イオンの減少曲線は特有の曲
線を有するものである。
線を有するものである。
図面は本発明に係る電解透析法の電解透析装置連装セル
中の一単位セル及び附帯設備［第１図］並びに付着液汲
出量制御装置［第２図］の一例を示すものである。 第１図に於いて１は陽極電極板、２は陰極電極板、３は
電極棒、４は電極棒ロッキング装置、５はカチオン膜、
６はアニオン膜、７は析出物付着防止用ルーバー、８は
ＰＨ管制装置、９，１４、１５、は各液還流ポンプ、１
０は秘伝会透析液貯溜槽、１１、１２、１３、は各透析
槽のドレンコック、１６、は透析膜補強用格子板、１７
、１８、１９、はそれぞれ被処理液室、陰極透析室、陽
極透析室、を示す。 第２図は付着液汲出量制御装置の主要部を示す、２０、
は処理用ラック及び被処理体、２１、２２、は角度可変
の加圧空気吹出口、 ２３、はミスト飛散防止用外枠、２４、は朝顔型受口、
２５、は回収槽、２６、は第１洗浄槽、２７、は第２洗
浄槽を示す。 第３図は本発明処理法によって各種銅イオン含有液を処
理した際の液中の銅イオンの減少曲線を示し、１は硫酸
銅溶液、２、２′、はピロ燐酸銅溶液、３、は無電解銅
溶液、４、は銅のエッチング廃液の過硫酸アンモン溶液
のそれぞれの銅イオン減少曲線である。 （以上） 特許出願人 中村■
中の一単位セル及び附帯設備［第１図］並びに付着液汲
出量制御装置［第２図］の一例を示すものである。 第１図に於いて１は陽極電極板、２は陰極電極板、３は
電極棒、４は電極棒ロッキング装置、５はカチオン膜、
６はアニオン膜、７は析出物付着防止用ルーバー、８は
ＰＨ管制装置、９，１４、１５、は各液還流ポンプ、１
０は秘伝会透析液貯溜槽、１１、１２、１３、は各透析
槽のドレンコック、１６、は透析膜補強用格子板、１７
、１８、１９、はそれぞれ被処理液室、陰極透析室、陽
極透析室、を示す。 第２図は付着液汲出量制御装置の主要部を示す、２０、
は処理用ラック及び被処理体、２１、２２、は角度可変
の加圧空気吹出口、 ２３、はミスト飛散防止用外枠、２４、は朝顔型受口、
２５、は回収槽、２６、は第１洗浄槽、２７、は第２洗
浄槽を示す。 第３図は本発明処理法によって各種銅イオン含有液を処
理した際の液中の銅イオンの減少曲線を示し、１は硫酸
銅溶液、２、２′、はピロ燐酸銅溶液、３、は無電解銅
溶液、４、は銅のエッチング廃液の過硫酸アンモン溶液
のそれぞれの銅イオン減少曲線である。 （以上） 特許出願人 中村■
Claims (3)
- （１）両端に一対の電極を配置し、それぞれの電極に対
応した陰陽兩イオン交換膜で３つの部分に仕切られた電
解透析槽において、両電極部に被処理液の種類に対応し
た稀酸、稀アルカリ、またはこれらの塩溶液のどの電極
液、中央仕切部に被処理液としてとして金属表面処理工
程などから発生する金属イオン含有液を入れて電解透析
を行い、陰極面に被処理液中の金属イオンを金属粉とし
て析出させてこれを回収することを特徴とした金属イオ
ン含有液処理法。 - （２）金属のエツチング工程またはメッキ工程からの付
着液の持出（汲出）量を１／５〜１／８に減少せしめる
装置を装備した処理液回収槽に続く第一洗浄槽または／
および第二洗浄槽の洗浄水に、特許請求の範囲第一項記
載の処理法を適用することにより、該洗浄水中の残存金
属イオン濃度を排水規制値以下にして排出放流、あるい
は循環使用を可能ならしめたことを特徴とする金属イオ
ン含有液の処理法。 - （３）金属のエツチング工程またはメッキ工程からの付
着液の持出量を１／５〜１／８に減少せしめる装置が、
被処理物の形状に適した空気吹付部と付着液のミスト飛
散防止用の外枠とから構成された装置である特許請求の
範囲第２項記載の金属イオン含有液処理法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11665982A JPS599172A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 金属イオン含有液の処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11665982A JPS599172A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 金属イオン含有液の処理法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS599172A true JPS599172A (ja) | 1984-01-18 |
Family
ID=14692712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11665982A Pending JPS599172A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 金属イオン含有液の処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS599172A (ja) |
-
1982
- 1982-07-05 JP JP11665982A patent/JPS599172A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3481851A (en) | Apparatus and procedure for reconditioning metal treating solutions | |
| US3764503A (en) | Electrodialysis regeneration of metal containing acid solutions | |
| US4652352A (en) | Process and apparatus for recovering metals from dilute solutions | |
| US4051001A (en) | Process for regenerating etching solution | |
| JPH10128338A (ja) | 電気再生式連続脱塩装置のスケール析出防止方法及び装置 | |
| US20080023334A1 (en) | Liquid Treatment Apparatus | |
| KR19980033215A (ko) | 막을 사용한 플루오로케미칼 회수 및 재순환 방법 | |
| US3766037A (en) | Electrochemical processes for the removal of contaminants from aqueous media | |
| US4490224A (en) | Process for reconditioning a used ammoniacal copper etching solution containing copper solute | |
| JPH0780466A (ja) | 金属イオンおよび硫酸を含有する水溶液の再生のための方法および装置 | |
| US20040000491A1 (en) | Electroplating cell with copper acid correction module for substrate interconnect formation | |
| KR100498152B1 (ko) | 금속 이온 여과 장치를 포함하는 전해추출 셀 | |
| CN115449849B (zh) | 一种微蚀液在线电解提铜循环再生工艺 | |
| US20060076297A1 (en) | Method and device for electrolytically removing and recovering metal ions from waste water | |
| US6827832B2 (en) | Electrochemical cell and process for reducing the amount of organic contaminants in metal plating baths | |
| KR101291552B1 (ko) | 에칭액 재생 및 구리 회수 장치 | |
| CN113026003A (zh) | 一种化学镀镍老化液还原再生方法 | |
| JP2013010988A (ja) | 水酸化テトラアルキルアンモニウム含有廃液の再生処理方法 | |
| KR101545245B1 (ko) | 알지비 컬러센서와 오알피 센서를 이용한 에칭액 재생 및 구리 회수 장치 | |
| JPS599172A (ja) | 金属イオン含有液の処理法 | |
| US20070256940A1 (en) | Device and Method for Removing Foreign Matter from Process Solutions | |
| WO2007115530A1 (de) | Elektroentionisierungsverfahren zur aufbereitung von bei der chemischen und/oder elektrochemischen oberflächenbehandlung von metallen entstehenden spülwässern | |
| US5882500A (en) | Process for demetallizing highly acid baths and use of said process for electropolishing special steel surfaces | |
| EP0483332B1 (en) | Electrolytic cell for waste water treatment | |
| KR20070022854A (ko) | 액체의 처리장치 |