JPS5980466U - 蒸着装置 - Google Patents

蒸着装置

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Publication number
JPS5980466U
JPS5980466U JP17638682U JP17638682U JPS5980466U JP S5980466 U JPS5980466 U JP S5980466U JP 17638682 U JP17638682 U JP 17638682U JP 17638682 U JP17638682 U JP 17638682U JP S5980466 U JPS5980466 U JP S5980466U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
chamber
deposition equipment
deposition chamber
vacuum
Prior art date
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Pending
Application number
JP17638682U
Other languages
English (en)
Inventor
亀谷 実
渡辺 源一
Original Assignee
ティーディーケイ株式会社
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Publication date
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Priority to JP17638682U priority Critical patent/JPS5980466U/ja
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来めエアーツーエア一式の蒸着装置を示す正
面図、第2図は本考案に係る蒸着装置の第1実施例を示
す正面図、第3図は第2実施例を示す正面図である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 蒸着室の両側に予備真空室をそれぞれ連通可能に設けた
    蒸着装置において、前記蒸着室及び予備真空室を斜め乃
    至垂直方向に配設し、基板入側の予備真空室を前記蒸着
    室より高い位置に、基板出側の予備真空室を前記蒸着室
    より低い位置にしたことを特徴とする蒸着装置。
JP17638682U 1982-11-20 1982-11-20 蒸着装置 Pending JPS5980466U (ja)

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JP17638682U JPS5980466U (ja) 1982-11-20 1982-11-20 蒸着装置

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JP17638682U JPS5980466U (ja) 1982-11-20 1982-11-20 蒸着装置

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JPS5980466U true JPS5980466U (ja) 1984-05-31

Family

ID=30383502

Family Applications (1)

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JP17638682U Pending JPS5980466U (ja) 1982-11-20 1982-11-20 蒸着装置

Country Status (1)

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JP (1) JPS5980466U (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4838306A (ja) * 1971-09-16 1973-06-06
JPS5312784A (en) * 1976-07-22 1978-02-04 Anelva Corp Method and apparatus for transferring substrates in vacuum

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4838306A (ja) * 1971-09-16 1973-06-06
JPS5312784A (en) * 1976-07-22 1978-02-04 Anelva Corp Method and apparatus for transferring substrates in vacuum

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