JPS5978535A - Treating facility for many articles to be treated - Google Patents

Treating facility for many articles to be treated

Info

Publication number
JPS5978535A
JPS5978535A JP19063682A JP19063682A JPS5978535A JP S5978535 A JPS5978535 A JP S5978535A JP 19063682 A JP19063682 A JP 19063682A JP 19063682 A JP19063682 A JP 19063682A JP S5978535 A JPS5978535 A JP S5978535A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
processed
items
articles
equipment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19063682A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Imanaka
今仲 清治
Masatoshi Yamazaki
山崎 雅敏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP19063682A priority Critical patent/JPS5978535A/en
Publication of JPS5978535A publication Critical patent/JPS5978535A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the workability of a treating device by reducing the loss or failure number of articles to be treated with many treating steps in a large quantity such as semiconductor wafers and managing the steps in high efficiency. CONSTITUTION:Warehouse 16 which has many boxes for temporarily containing and standing by articles to be treated such as semiconductor wafers or the like is provided. The articles are read out for their identification numbers for confirmation by a number reader 21 around the time when the articles are contained in the warehouse 16. The articles are then removed from the boxes, and distributed and treated in the treating blocks of the next steps such as a chemically treating block 9, a heat treating block 10, and a metal film depositing block 11. These steps are repeated to complete various treatments, and the delivery and conveyance of the articles thus treated and automatically performed by conveyors 17, 18 and 19. The reader 21, the conveyors and the treating units as well as the management of the treating steps for the articles to be treated are automatically controlled by a computer.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、例えば半導体ウェーノ箋なと多数量で、か
つ、処理工程数の多い被処理品の処理設備に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to processing equipment for processing objects such as semiconductor wafers, which are produced in large quantities and require many processing steps.

半導体装置、特[IC,LSIなどの半導体ウェーハの
製造工程は、不純物拡散、酸化膜形成などの熱処理、及
び写真製版、イオン注入、金属膜蒸着などの化学・物理
処理の繰返しによって構成され、これらの処理工程の総
数は1oo〜2001c %及ぶものである。しかも、
これらの処理は、工程順に配置さh、た各処理装置によ
る、いわゆる、−貫ライン的に行なわれるものではなく
、通常、熱処理装置、写真製版装置など機能別に集合配
置ケh、几装置群間を移動しながら処理される。
The manufacturing process of semiconductor wafers for semiconductor devices, especially ICs, LSIs, etc., consists of repeated heat treatments such as impurity diffusion and oxide film formation, and chemical and physical treatments such as photolithography, ion implantation, and metal film deposition. The total number of processing steps ranges from 100% to 2001%. Moreover,
These processes are not carried out in a so-called straight line by each processing device arranged in the order of the process, but are usually arranged in groups according to function, such as heat treatment equipment, photolithography equipment, etc. is processed while moving.

第1図は被処理品として半導体ウェーハの例を示す平面
図である。半導体ウェーハ(1)の1部に切欠かれたフ
ァセット(la)が設けらh、位置決めができるように
しである。半導体ウェーハ(1)け、第2図に示すカセ
ツ)(21[24又ij:25枚が間隔をわけて平行に
収納さり1、これf10ットの単位にして各処理工程に
かけらh−る。
FIG. 1 is a plan view showing an example of a semiconductor wafer as an object to be processed. A cutout facet (la) is provided in a portion of the semiconductor wafer (1) to enable positioning. Semiconductor wafers (1) (in the case shown in Figure 2) (21 [24 or ij: 25 wafers) are stored in parallel at intervals 1, and are processed in units of f10 t for each processing step. .

従来の半導体ウェーハの処理設備は、@2図に示す1/
イアウド図のようになっていた。図中(3)〜(8)け
各の処理装Rft集合したブロック゛r:、+3+は熱
処理ブロック、(4)は不純物イオン注入処理ブロック
・(5)は金属膜蒸着処理ブロック、(61はレジスト
感光処理ブロック、(7)はエツチング処理ブロック、
(8)は検査ブロックfある。
Conventional semiconductor wafer processing equipment is 1/2 shown in Figure @2.
It looked like the Iaud diagram. In the figure, the blocks (3) to (8) are a collection of processing equipment Rft; A photosensitive processing block, (7) an etching processing block,
In (8), there is a test block f.

上記従来の処理設備において、IC,LSI 7zどの
製造には、半導体ウェーハ(1)は上記各処理ブロック
間を数回ないし士数回繰返し往来して処理される。しか
も、前記カセット+21の単位で処理名ノ1.るロット
Vま、他のロットとeよ各!%なる処理工程でろるため
、同じ処理ブロックで処理された多数のロットは、次工
程の処理ブロックが同じであるとけ限らl(八。このた
め、各ロットに応じて作業員が次の行先を判断し、それ
ぞれの次工程に人手で運搬して論た。これらの行先指示
、運搬作業及び各の処理ブロックでの作業は、−工場単
位では膨大な作業量となり、種々の不具合を生じてきた
In the conventional processing equipment described above, in manufacturing ICs, LSIs, etc., the semiconductor wafer (1) is processed by repeatedly moving back and forth between the respective processing blocks several to several times. Furthermore, processing name No. 1 is performed in units of cassettes +21. Lot V, other lots and e each! % of the processing process, many lots processed in the same processing block can only be processed in the same processing block in the next process (8).For this reason, workers have to decide the next destination according to each lot. These instructions, transportation work, and work in each processing block amounted to a huge amount of work for each factory, and caused various problems. .

すなわち、作業員による作業仕損、作業むら、ある処理
ブロック内での処理完了から次工程処理ブロックへの送
シ出しまでの時間ずれが生じることによる仕掛り数の増
大、これによる工期の遅延、人手の取扱いによるウェー
ハの汚染、ロットは多数ありそれぞれ複雑な処理工程を
要し工程管理が困難であるなどの問題がある。
In other words, there is an increase in the number of work in progress due to incorrect work by workers, uneven work, a time lag between the completion of processing in a certain processing block and sending it to the next process processing block, and delays in the construction period due to this. There are problems such as contamination of wafers due to manual handling, and the fact that there are many lots, each requiring complicated processing steps, making process control difficult.

これに対処し、運搬作業の自動化、工程管理のコンピュ
ータ制御化、個別処理単位での目切化などは、単体とし
ては実施されているところもめる≠べ全体として自動イ
ヒさf″Lない限り、前記不具合は解消てり、ない。
In order to deal with this, automation of transportation work, computer control of process management, division of individual processing units, etc. are being carried out as individual units, but unless the whole thing is automatic, The above problem has been resolved.

この発明は、上記従来設備の欠点をなくし、被処理品の
仕損や仕掛り数を減少し、効率のよA工程管理をして処
理装置の稼動率を同上することを目的とするものである
。すなわち、被処理品を一時収納し待期しておくための
多数の野郎を有する収納庫を設け、被処理品は収納庫へ
収納の前後には、番号読取り装置により識別番号が読取
らり、て確社され、所定の野郎へ収納、野郎から取出さ
h、次]二程の処理ブロックへ配送されて処理され、こ
h、が繰返されて各種処理が完了され、被処理品の受渡
し搬送は搬送装置によシ自動的に行い、番号読取#)装
置、搬送装置及び各処理装置の制御と、各被処理品の処
理工程管理をコンピュータによる制御装置により行い、
被処理品が入手に触h、ることなく全自動化した処理が
される多数被処理品の処理設備を提供するものである。
The purpose of this invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks of the conventional equipment, reduce the number of scrapped products and the number of products in progress, and perform efficient process control to increase the operating rate of processing equipment. be. In other words, a storage with a large number of handlers is provided to temporarily store and wait for the items to be processed, and before and after storing the items in the storage, the identification numbers are read by a number reader and the items are read by a number reader. The products are fixed, stored in a designated place, taken out from the place, delivered to the second processing block, processed, and repeated to complete various processes. A computer-based control device controls the number reading #) device, the transportation device, and each processing device, as well as the processing process management of each processed item.
To provide processing equipment for a large number of items to be processed, in which fully automated processing is performed without touching the items to be processed.

以下、この発明の一実施例による処理設備を半導体ウェ
ーハの場合について、第4図ないし第7図により説明す
る。
Hereinafter, a processing equipment according to an embodiment of the present invention for processing semiconductor wafers will be explained with reference to FIGS. 4 to 7.

第4図は半導体ウェーハの処理設備の概要平面図である
。(9)は熱処理に先立ってウェーハ(1)ヲ処理する
化学処理ブロック、+101は不純物拡散、酸化膜形成
等の熱処理ブロック、aυは電極形成のための金属膜蒸
着処理ブロック、(′12は不純物注入処理ブロック、
03ijレジスト塗布、感光、現1を等のレジスト感光
処理ブロック、7j4) flま酸化膜、金窩層等ヲ選
択的にエツチングするエツチング処理ブロック、θ〜は
化7性検査、膜厚測定等の検査ブロックを示す。
FIG. 4 is a schematic plan view of semiconductor wafer processing equipment. (9) is a chemical processing block that processes wafer (1) prior to heat treatment, +101 is a heat treatment block for impurity diffusion, oxide film formation, etc., aυ is a metal film deposition processing block for electrode formation, ('12 is an impurity injection processing block,
03ij Resist photosensitive processing block, such as resist coating, photosensitivity, etc.; 7j4) Etching processing block, which selectively etches the oxide film, gold hole layer, etc.; Indicates a test block.

αG#−1,生導体ウェーハ(])を収納し、たカセッ
ト(2)(第2図に示1 )を収納する収納庫で、2箇
所に配設ざり2、こhらの収納庫α0の間にスタッカク
レーン(イ)が配42でれてVる。(jl’lはウェー
ハ+Il上に刻入さhたバーコード°(識別番号をなず
〕なnπ取るロット番号読取装置で、上記各収納庫00
の名人山部にそり、ぞれ配置されている。(イ)はこの
自動化した処理設備に持込まれる新規「1ツトのウェー
ハ(11にバーコードを刻入するバーコード刻入装置で
ある。
αG#-1, a storage for storing raw conductor wafers (]) and cassettes (2) (1 shown in Figure 2). A stacker crane (A) is installed between the two. (jl'l is a lot number reading device that takes the barcode (no identification number) nπ engraved on the wafer + Il,
The famous sleds are placed in the mountain area. (A) is a barcode engraving device that engraves a barcode on a new wafer (11) brought into this automated processing facility.

上記のように配設された各藪館及び各処理ブロックにカ
セット(2)全配送するため、第1の搬送路aカと第2
の搬送路(至)が布設されている。循環路をなす搬送路
0のには複数の搬送車。1が配ざり、てふ・り、同一方
向に走行し、直a路をなす搬送路に)には1台の搬送車
01が配さh、てぃて、往復走行する。各装置及び各処
理ブロックの入口、出口部にはステーション@が配設さ
れてめり、搬送車01とのカセット(2)の受授かされ
る。(至)はコンピュータを備えた中央制御装置で、各
処理ブロック(9)〜0υのそれぞれの処理装置(図示
は略す)、各搬送車C11%ロッド番号読取装置をD、
バーコード刻入装R@、収納庫aQとスタッカクレーン
(イ)とからなる自wJ倉庫等、ナベての装置制御と工
程管理を行い、情報を一元的に処理する。
In order to deliver all the cassettes (2) to each Yabukan and each processing block arranged as described above, the first transport path a and the second
A conveyance path (to) has been laid. There are a plurality of transport vehicles on transport path 0, which forms a circulation path. 1 is distributed and travels in the same direction, and one conveyance vehicle 01 is distributed on the conveyance path that forms a straight path. Stations are provided at the entrance and exit of each device and each processing block, and cassettes (2) are transferred to and from the transport vehicle 01. (To) is a central control unit equipped with a computer, which controls each processing unit of each processing block (9) to 0υ (not shown), each transport vehicle C11% rod number reading device D,
We perform all equipment control and process management, such as our own wJ warehouse consisting of barcode engraving R@, storage aQ and stacker crane (A), and process information centrally.

次に、上記半導体ウェーハ処理設備の各主要部について
、詳細に説明する。収納庫◇Gにカセット(2)の人出
を行なう自動倉庫部を、第5図に余1視図で示す。収納
庫01には弁部(ハ)が70個設けてあシ、各弁部(ハ
)Vcは奥行方向にカセット(2)が最大4個宛収納で
きる。(1)は清浄空気供給装置で、各弁部(至)内に
清浄空気を供給し、カセッ) +21及びウェーハ(1
)を清浄に維持するようにしている。スタッカクレーン
cAはカセット(2)を把持し、両端配設ノステーショ
ン(ハ)、ロット番号読取装置Q])及び収納庫00の
弁部(ハ)間で走行レール翰上を移動し、それぞれの位
置にカセット(2)全移動させるものである0ロット番
号読取装置21)上VC置かり、た4個のカセツ) 1
21 t 、中央制御装置vJ1/Cよって指示された
弁部(ハ)にそれぞノ1.収納する場合の動作は、次の
ようにlる。スタッカクレーン(ホ)がロット番号読取
装置Q1)の側方位置に移動してくる。つづいて、フォ
ーク(イ)がロット番号読取装置Q1)上に前進して4
個のカセツ) +21 を同時に把持する。次に、フォ
ーク翰は後退して元の位置に戻り、各カセット(2)ヲ
コンベア翰上にAつたん置く。スタッカクレーン翰が収
納庫OQの指定の列の弁部(ハ)位[K移動し、コンベ
アに)が指定の段の弁部(ハ)位置に上下移動する。
Next, each main part of the semiconductor wafer processing equipment will be explained in detail. FIG. 5 shows an additional perspective view of the automated warehouse section that takes out the cassettes (2) to storage ◇G. The storage 01 is provided with 70 valve parts (C), and each valve part (C) Vc can store up to four cassettes (2) in the depth direction. (1) is a clean air supply device that supplies clean air into each valve part (to),
) are kept clean. The stacker crane cA grasps the cassette (2) and moves it on the running rail between the no station (c) installed at both ends, the lot number reader Q]) and the valve part (c) of the storage shed 00, and Move the cassette (2) to position 0 lot number reader 21) Place the VC on top, and place the 4 cassettes (4 cassettes) 1)
21 t, the valve portions (c) instructed by the central controller vJ1/C are each injected with No. 1. The operation for storing is as follows. The stacker crane (e) moves to a position to the side of the lot number reader Q1). Next, the fork (a) advances onto the lot number reader Q1) and
+21 skeins) at the same time. Next, the fork holder is moved back and returned to its original position, and each cassette (2) is placed on the conveyor holder. The stacker crane crane vertically moves the valve part (C) position of the designated row in the storage warehouse OQ (moves K and onto the conveyor) to the valve part (C) position of the designated stage.

コンベアに)上のカセット(幻のうち収納庫an vc
 −i近い分を、コンベア端の前送シ走行によ9升部(
至)に収納する。次に、同様にしてスタッカクレーンの
移動とコンベア(4)の上下移#により、コンベア(ト
)上の次のカセット(2)を指定する列と段の弁部(至
)位置の前にし、コンベア陣の前送り走行により指定の
弁部(イ)に収納する。このようにし、各カセット(2
1をIlN次、それぞh指定する位置の弁部(イ)に収
納する。4個のカセット(2)が、次処理工程が同一の
ものであわ、げ、列と段が指定−J itた同じ弁部(
イ)内に4個とも収納されることVCなる。逆に、弁部
(ハ)に収納されたカセツ) +21を取出すときは、
フォーク翰により4個を同時に持出す。これは、4個と
も同一次処理のためである。
on the conveyor) on the cassette (phantom storage an VC)
−i portion is transferred to 9 squares (
(to). Next, in the same manner, by moving the stacker crane and moving the conveyor (4) up and down, the next cassette (2) on the conveyor (G) is placed in front of the valve part (to) position of the specified row and stage. It is stored in the designated valve part (A) by the advance movement of the conveyor group. In this way, each cassette (2
1 is stored in the valve part (a) at the position specified by h. Four cassettes (2) have the same next processing step and the same valve part (with specified column and stage).
b) If all four are stored in the VC. On the other hand, when removing the cassette +21 stored in the valve part (c),
Take out four pieces at the same time with a fork. This is because all four are processed at the same time.

収納庫QGの隣に配設芒れたロット番号読取装置l2I
Jを、第6図VC斜視図で示す。このロット番号読取装
置Ql)は、レーザ加工磯(図示していlい)で溝を形
成したバーコードが付けられたウェーハ(1)を多数枚
(図では鎖線で一部のみを示す)カセット(2)に収納
した状態で、バーコードを読取るものでろる。■は照明
装置と光学レンズ及びイメージセンサとで構成された光
学センサで、パルスモータ0υVこよシ前後移動され、
誘導電動機0睦により横行移動嘔れる0これら2個の光
学センサ(31が、そh、それ2カセツト(2)分を受
持つ。曽はカセット載置台で、4個配投され、それぞれ
エアシリンダ(ロ)により独立に上下動′2!台、る。
Lot number reading device l2I installed next to storage QG
J is shown in a perspective view of FIG. 6 VC. This lot number reader Ql) is used to store a large number of wafers (1) with barcodes formed with grooves formed using a laser processing surface (l shown in the figure) into a cassette (only a portion of which is shown by a chain line in the figure). 2) It is possible to read the barcode while the device is stored in the device. ■ is an optical sensor consisting of a lighting device, an optical lens, and an image sensor, which is moved back and forth by a pulse motor of 0υV.
These two optical sensors (31) are in charge of two cassettes (2), which are moved horizontally by an induction motor. By (b), the units can be moved up and down independently.

(ト)はこれらのカセット載置台G31 vc軸受(図
示しなh)を介し回転自在に支持された1対のテフロン
棒で、訪導電N #機(図示しない)により回転される
。カセット載置台■上にカセット(2)が載せられると
、カセット内ノ各ウェーハ111が上記1対のテフロン
棒(ハ)に当って押上げらり、た状態になって回転さり
、る。ウェーハ(1)は外周の一部が平たんに切欠かれ
たファセツ) (la)が1対のテフロン棒(ト)上に
至ると、テフロン棒(至)との接触が離れ、ウェーハ+
11の回転が止まり位置決めがされる。(至)はL彫金
なし、カセット載置台(至)に中間部で支持ビン(図示
は略す)Vcよシ回動可能に支持さり、之押付はレバー
で、先グ″hVcはローラ(ハ)、OIが取付けられて
わシ、引張ばね@により後方に回動され、カセット載置
台に)上のカセット(2)をローラ(至)を介し押付け
るようにしている。エアシリンダ(ハ)によりカセット
載置台に)が上昇すると、四−ラ(ηが固定肖接板θ1
の下面に当接し押付はレバー(至)が前方に回動し、ロ
ーラ(7)がカセット(2)から離れる◇ 通常、カセット載置台(至)は上昇して〉す、ローラ(
至)はカセット(2)位置から離れている。このような
状態で空のカセット載置台(ト)上に、上記スタッカク
レーンcAVcよシカセット(2)が載せらり、ると、
エアシリンダ■によってカセット載置台(ト)が下降し
、ローラ(ハ)によりカセット(2)を押付は固定し、
テフロンロッド(ハ)が一定時間回転する。こilcよ
り、カセット(2)内の多数枚のウェーハ(11の姿勢
が位置決めされ、次に、光学センサ(7)をパルスモー
タeDVCよシ移動させてウェーハ+11のバーコード
を読取る。
(g) is a pair of Teflon rods rotatably supported via these cassette mounting tables G31vc bearings (h, not shown), which are rotated by a conductive N# machine (not shown). When the cassette (2) is placed on the cassette mounting table (2), each wafer 111 in the cassette hits the pair of Teflon rods (c) and is pushed up, rotating in an upright position. When the wafer (1) has a facet (la) with a flat part cut out on its outer periphery and reaches a pair of Teflon rods (g), it loses contact with the Teflon rods (to) and the wafer +
11 stops rotating and positioning is performed. (to) has no L engraving, and is rotatably supported by the support bin (not shown) Vc at the middle part of the cassette mounting table (to), and is pressed by a lever, and the tip is by a roller (c). , the OI is attached and rotated backward by the tension spring @, so that the cassette (2) on the cassette mounting table is pressed through the roller (to).The air cylinder (c) (to the cassette mounting table) rises, 4-ra (η is the fixed portrait plate θ1
The lever (to) rotates forward and the roller (7) separates from the cassette (2) ◇ Normally, the cassette mounting table (to) rises and the roller (
) is away from the cassette (2) position. In this state, when the stacker crane cAVc and the cassette set (2) are placed on the empty cassette mounting table (G),
The cassette mounting table (G) is lowered by the air cylinder ■, and the cassette (2) is pressed and fixed by the roller (C).
The Teflon rod (c) rotates for a certain period of time. The orientation of a large number of wafers (11) in the cassette (2) is determined by this ilc, and then the optical sensor (7) is moved by the pulse motor eDVC to read the barcode of wafer +11.

搬送装置をなす搬送車aI及びステーション(ハ)部を
第7図に斜視図で示す。搬送車頭はカセット(2)を最
大4個収答し、自体に走行機構、ステーション(至)の
ステーション棚■とのカセット受渡し榎構をもち、搬送
路α乃、側に案内されて走行する。θυは搬送車QiK
設けられ、カセット214個を同時に内部からステーシ
ョン棚@4vc渡して載せたり、ステーション棚@→か
ら受取り内部へ収容するコンテナで、前、後進するフォ
ーク02tl−設けている。このコンテナ01)は上下
動案内体部TL案内され、各ステーション棚θ→の位&
まで上下動する。ステーション(ハ)には、3段のステ
ーション棚り→と、このステーション棚θゆからカセッ
トt2) ?取出したり、各処理ブロック内で処理され
1とカセット+21 ’(ffステーション棚Q→に載
せたシするロボットに)とが配置されている。ロボット
に)は、カセット(2)全把持するチャック部θηと、
このチャック部を上下動及び前後動させる機構を内蔵し
たロボット本体部θQとかうi v、g h、ている。
FIG. 7 shows a perspective view of the transport vehicle aI and the station (c) which constitute the transport device. The conveyance vehicle head accommodates up to four cassettes (2), has a traveling mechanism itself, a cassette delivery mechanism with the station shelf (2), and travels while being guided to the conveyance path α side. θυ is the transport vehicle QiK
It is a container that can simultaneously transfer and load 214 cassettes from inside the station shelf @4vc, or receive and store them from the station shelf @→, and is provided with forks 02tl- that move forward and backward. This container 01) is guided by the vertical movement guide body TL, and each station shelf θ→ position &
Move up and down. Station (c) has a 3-tier station shelf → and this station shelf θ Yukara cassette t2)? A cassette 1 and a cassette 21' (on the robot placed on the ff station shelf Q) are arranged to be taken out and processed in each processing block. (to the robot) has a chuck part θη that fully grips the cassette (2),
There is a robot main body part θQ, which has a built-in mechanism for moving the chuck part up and down and back and forth.

θ→け小形搬送車で、案内台0傷に案内され、ステーシ
ョン棚■と処理ブロック内の処理装置間をカセツ)t2
11個単位で搬送するtのである。この小形搬送車(9
)は単にカセット+21を載せて走行するものでめシ、
各処理装置の人出口には、カセツ) [21ft小形搬
送車(財)に載せたり、取出したりする機構(図示は略
す)が設けられている。
θ → A small conveyor is guided to the guide table 0 scratches and is moved between the station shelf ■ and the processing equipment in the processing block) t2
It is a t-sized one that is transported in units of 11 pieces. This small carrier (9
) simply runs with a cassette +21 on it.
At the exit of each processing device, there is a mechanism (not shown) for loading and unloading cassettes onto and from a 21ft small transport vehicle.

上記のようにして構成された、一実施例の処理設備の動
作を、第4図ないし第7図により説明する。
The operation of the processing equipment of one embodiment configured as described above will be explained with reference to FIGS. 4 to 7.

新規に投入さノ1.るカセット(2)のウェーハIII
 (7) ロットt」、バーコード’ 刻入MK(イ)
によりウェーハ(1)上にロット番号が刻入され、中央
制御装置(ハ)に登録され、ロット番号読取装置(7!
1)にかけてから、いったん収納p¥−au vc収納
される。収iI′J庫θGの弁部(ハ)の割付けは工程
管理を行う9央制御装置it @がつかさどシ、同−弁
部(2)に収納されるロツMよ、次に処理される行先処
理ブロックが同一であるものを集める。このように、い
ったん升部1:(ハ)[IIM Ml a 7またロッ
トは、中央制御装f(ハ)に組込まJまた工期最短VC
なる工程計画により最適のロットの払出しを行い、ロッ
ト番号読取I)装@ (jl)でロット番号の確認をし
、間違いがなければ搬送車09Vこより目的の処理ブロ
ックのステーションCJ ?(−A!ぶ1.単導体つ1
−− ハ(11の最初の処理は、汚れを薬品によって除
去する化学処理が普通でめυ、まず、化学処理ブロック
(9)に送る。この化学処理ブロック191 VCN%
らず、他の処理ブロックでも同様にそれぞh、数台〜二
十数台の処理装011. (図示は略す)が配設さり、
て卦り、各は多品種のロット、つまシ、処理仕様の異な
るロット全処理できる。なお、各処理装置は汎用的な機
能を有しており、中央制御装置Hに電気的結合されてい
て各のロットに対応した処理が施される。また、各処理
ブロック内でのカセット(2)の取扱いも、すべて中央
制御装置(至)による制御で自動的[iれている。化学
処理ブロック(9)に送られたカセット(2)は、第4
図に矢印で示すように移動きれ、出口のステーション(
ハ)に送らり9、次の処理ブロックでめる熱処理ブロッ
ク(lO)に搬送される。この熱処理は上記化学処理が
終れば速やかに行われねばならないものでめシ、化学処
理ブロック(9)へ搬送されるときけ、あらかじめ、熱
処理ブロック110)の空状態を中央制御装置(ハ)に
よシ予測しておく。熱処理ブロック(101での処理が
終り、げ、次の処理ブロックへはyi接配送せず、再び
ロット番号読取釦t(Jl)にかけてロット番号全確認
し、各ロットの次工程処理ブロック別に区分して収納庫
aGの指定弁部(ホ)に収納時期する。次に、針部(ハ
)からカセット+21 tレジスト感光処理ブロック(
13へ配送する場合、同じ(ロット番号読取1tanに
かけてロット番号を確認し、搬送路α力を使ってレジス
ト感光処理ブロックa3のステーション12.Jに配送
する。
Newly introduced 1. Wafer III in cassette (2)
(7) Lot t", barcode' engraved MK (a)
A lot number is engraved onto the wafer (1) by the wafer (1), and is registered in the central control unit (c).The lot number reading device (7!)
After applying 1), it is stored p¥-au vc once. The allocation of the valve part (c) of the storage iI'J warehouse θG is the 9 central control unit that performs process control. Collect blocks with the same processing block. In this way, once the batch 1: (c) [IIM Ml a 7 or lot is assembled into the central control system f (c),
The optimum lot is delivered according to the process plan, and the lot number is confirmed using the lot number reading device (jl).If there is no mistake, the transfer vehicle 09V is sent to the station CJ of the target processing block. (-A!B1.Single conductor 1
-- C (The first treatment in step 11 is usually a chemical treatment in which dirt is removed using chemicals υ, which is first sent to the chemical treatment block (9).This chemical treatment block 191 VCN%
Similarly, each of the other processing blocks has several to twenty processing devices 011. (not shown) is provided,
In addition, each machine can process a wide variety of lots, batches, and lots with different processing specifications. Note that each processing device has a general-purpose function, is electrically connected to the central control device H, and performs processing corresponding to each lot. Furthermore, the handling of cassettes (2) within each processing block is automatically controlled by the central control unit. The cassette (2) sent to the chemical processing block (9) is
Move to the exit station (as shown by the arrow in the figure).
C), and then transported to the heat treatment block (lO) where it is placed in the next treatment block. This heat treatment must be carried out immediately after the above chemical treatment is completed, and when the rice is transported to the chemical treatment block (9), the empty state of the heat treatment block 110) must be checked in advance by the central controller (c). Make a good prediction. After the treatment in the heat treatment block (101) is completed, do not directly deliver to the next treatment block, press the lot number reading button t (Jl) again to confirm all lot numbers, and classify each lot into the next process treatment block. Then, move the cassette +21t resist photosensitive processing block (
13, the lot number is confirmed using the same (lot number reading 1tan) and delivered to station 12.J of the resist photosensitive processing block a3 using the transport path α force.

レジスト感光処理ブロック0.1は4木のラインがらな
シ、各のラインが均等に稼動するようVC調節しながら
配送ざ〕する。このレジスト感光処理ブロック03では
、ロットは第4図に示すように、矢印のように進み、搬
送路Oaを使ってエツチング処理ブロック(14に搬送
される。この場合も、化学処理ブロック(9)上熱処理
ブロック(10)との関係のように、通常、一連の処理
になって訃り、収納庫aet:介をずに処理される。例
外的に、この間に他の処理が施される場合は、搬送路Q
alを使って収納庫<Inに戻される。
The resist photosensitive processing block 0.1 is delivered along four lines while adjusting the VC so that each line operates equally. In this resist photosensitive processing block 03, as shown in FIG. 4, the lot advances in the direction of the arrow and is transported to the etching processing block (14) using the transport path Oa. As with the relationship with the upper heat treatment block (10), the process is usually completed in a series and is processed without any intervention.In exceptional cases, other processes are performed during this period. is the transport path Q
It is returned to the storage <In using al.

エツチング処理ブロックQ4)での処理が終了すれば、
ロット番号読取装置Qυf:経てから次工程別に収納庫
uOの指定弁部(ハ)に収納さh、る。このよう1/′
cして、順次処理’f: 1,194返し、すべての処
理が終了すレバ、バーコード刻入装置t(イ)が配設さ
Jl、てrろ部位に搬送はhて完了となる。
When the processing in the etching processing block Q4) is completed,
Lot number reading device Qυf: After passing, the lot number is stored in the designated valve part (c) of the storage uO for each next process. Like this 1/'
c, sequential processing 'f: 1,194 return, barcode engraving device t (a) is installed, and the lever to finish all the processing is completed.

化学処理ブロック(9)と熱処理ブロック1101 N
5、レジスト感光処理ブロック03とエツチング処理ブ
ロック04)間を除いた処理ブロック間でのカセットt
elの受渡しに、ロット番号読取1■n及び収納庫00
を介するよ’:l VCL、た、この発明の一実施例の
処理a fi+は、特に、多品なでしかも繰返し作業の
多い多数量の半導体ウェーハil+処理Il′i:あっ
て、配送間違い、処理間違いを防止し、適正な時期に適
正なロットを適正’fxRで各処理ブロックに配送する
のpc、極めて効果的であシ、工程管理が著しく容易と
なり、全体の仕掛シ素減少に大さく寄与することができ
る。
Chemical treatment block (9) and heat treatment block 1101N
5. Cassette t between processing blocks except between resist photosensitive processing block 03 and etching processing block 04)
When receiving the EL, read the lot number 1■n and the storage 00.
In particular, the process afi+ of one embodiment of the present invention involves a large number of semiconductor wafers, which involve a large number of items and a large number of repetitive operations. It is extremely effective to prevent processing mistakes and deliver the right lot at the right time and with the right 'fxR' to each processing block, making process control much easier and greatly reducing overall work-in-process silicon. can contribute.

捷ンと、各処理5Iemが中央制御装置(ハ)に電気的
結合されて自動化されているので、作業仕損じ、処理む
らが減少さね4、歩留りが大幅に同上する。
Since the spinning and each process 5Iem are electrically connected to the central control device (c) and automated, work errors and processing unevenness are reduced 4, and the yield is greatly improved.

なお、上記実2II!i例では、中央制御装R(ハ)に
よシ工程管理、装置制御をすべて集中的に行っているが
、中央制御装置の停止、制御の複雑さなど全緩和する定
め、制御装置を複数に分散させて制御するよつにしても
よい。
In addition, the above real 2II! In example i, all process management and equipment control are performed centrally by the central control unit R (c), but there is a provision to stop the central control unit, reduce the complexity of control, etc., and install multiple control units. It may also be controlled in a distributed manner.

また、上記実施例では、ステーション(至)と処理装墳
間のカセット(2)の横送に小形搬送屯(→を用い、各
処理装置の人出口にカセット(21の受授のロボット@
りを用いたが、これらの機能を併せもつ移動形ロボット
を設け、ステーション(ハ)と処理装置1…の受渡しを
行うよつにしてもよい。
In addition, in the above embodiment, a small transport tun (→) is used to transport the cassette (2) between the station (to) and the processing tomb, and a robot for receiving and receiving the cassette (21) is used at the exit of each processing device.
However, a mobile robot having both of these functions may be provided to transfer the processing device 1 to the station (c).

さらに、処理加エネれる多叔品として、上記実施例では
半導体ウェーハ(1)の場合を説明したが、他の被処理
品、例えば機械部品lどの場合にも適用でき、各種の機
械加工処理やめつき処理などの1投備としても応用する
ことができるものである。
Furthermore, although the above embodiment describes the case of a semiconductor wafer (1) as a multi-item product that can be processed, it can also be applied to other processed products, such as mechanical parts, and can be applied to various machining processes. It can also be applied as a single investment, such as for processing.

この発引け、以上説明したように、破処理品全一時収納
し次処理に時期のための多数の針部全町する収納庫t″
設け、被処理品Vま収納庫へ収納の前後には、番号読取
り装置により識別番号が読取られて確認記憶されるよう
にし、所定の針部へ収納烙れ、針部から取出烙れて次工
程の処理装置へ配送ざり、て処理され、これが繰返され
て各1セ処理が完了し、被処理品の受渡し搬送は搬送装
置により自動的Vこ行い、番号読取り装置、搬送装置及
び各処理装置の制御と、各被処理品の処理工程管理をコ
ンピュータによる制御装9LVCより行なうようにし1
ξので、多数の被処理品が仕損な(効率よ(処理さ〕1
4、仕掛シ箪が減少し、処理工程管理が容易Vcなル、
各処理装置の稼動率か同上される。特へ多重極で繰返し
処理工程の多い多量な被処理品、例えげ、半導体ウェー
ハの場合その効果は顕著である。
At the start of this process, as explained above, all of the items to be disposed of are temporarily stored and a large number of needle parts are stored in a storage facility T'' for the next processing time.
The identification number is read by a number reading device before and after being stored in the storage cabinet, and the identification number is read and memorized by a number reading device. The products are delivered to the processing equipment in the process and then processed.This process is repeated to complete each process.The delivery and transportation of the processed items is automatically carried out by the transporting equipment, and the number reading equipment, transporting equipment, and each processing equipment control and processing process management of each processed item are performed by a computer-based control device 9LVC1.
ξ, many processed items are rejected (efficiency (processed) 1
4. Reduces work-in-progress and makes processing process management easier.
The operating rate of each processing device is also determined. This effect is particularly noticeable when processing a large number of products, such as semiconductor wafers, which require multiple processing steps and are multipolar.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は半導体ウェーハの平面図、第2図は第1図の半
導体ウェーハ全多数枚収納するためのカセットの斜視図
、第3図は従来の半導体ウェーハの処理設備のレイアウ
トを示すブロック図、第4図はこの発明の一実施例によ
る半導体ウェーハの処理設備の構戚全示す概要平面図、
第5図は第4図の収納庫を有する自動倉庫部の斜視図、
第6図は帖5図のロット番号読取り装置の斜視図、第7
図は第4図の搬送車とステーション部の斜視図である。 )、+91・・・化学処理ブロック、(10)・・熱処
理ブロック、0υ・・・金属膜蒸着処理ブロック、az
・・・イオン注入処理ブロック、θ′3・・・レジヌト
感光処理ブロック、(14)・・・エツチング処理ブロ
ック、0、ツ・・検査ブロック、(Iト・・収納庫、(
(ハ(ト)・・・搬送路、α9・・・・搬送車、t2D
+・・・スタツカク1/−ン、<21)・・・ロット番
号読Tfy、υ装置、@・・・バーコード刻入装置、(
ハ)・・ステーション、CA・・・中央ttjlJ御装
置、(ハ)・・・針部、(イ)・・・フォーク、(7)
・・・光学センサ、θυ・・コンテナ、(6)・・・フ
ォーク、(財)・・・上下動案内体、0◇・・ステーシ
ョン棚、Cつ・・ロボット、0η・・・チャック部、0
→・・・小形搬送車である。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 為野信−(外1名) 特許庁長官殿 1.事件の表示    特願昭1−190636号2・
発明ノ名称    多数被処理品の処理設備3、補正を
する書 事件との関係   特許出願人 住 所     東京都千代田区丸の内二丁[12番3
号名 称(601,)   三菱電機株式会社代表者片
山仁八部 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の4両。 6、 補止の内容 (1)明卸1誉第7ページ第14行、第8ベージ第°9
〜10行の10ンド」全10ツト」に補正する0(2)
明細書第8ページ第17行の「70個」を「多数個」に
補正する。 (3)  1414細書第11ペ一ジ第5行の「藺導電
電動機」を「@導電動機」に補正する。 (4)明細書第11ページ第11.−12行の「テフロ
ン俸□□□との接触か離れ、−1を削除する。 以Jニ
FIG. 1 is a plan view of a semiconductor wafer, FIG. 2 is a perspective view of a cassette for storing all the semiconductor wafers shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a block diagram showing the layout of conventional semiconductor wafer processing equipment. FIG. 4 is a schematic plan view showing the entire structure of semiconductor wafer processing equipment according to an embodiment of the present invention;
FIG. 5 is a perspective view of an automatic warehouse section having the storage warehouse shown in FIG. 4;
Figure 6 is a perspective view of the lot number reading device shown in Figure 5 of Chapter 5;
This figure is a perspective view of the conveyance vehicle and the station section of FIG. 4. ), +91...Chemical processing block, (10)...Heat treatment block, 0υ...Metal film deposition processing block, az
... Ion implantation processing block, θ'3 ... Resinut exposure processing block, (14) ... Etching processing block, 0, ... Inspection block, (I... Storage, (
(C)...transport path, α9...transport vehicle, t2D
+...Statistics 1/-n, <21)...Lot number reading Tfy, υ device, @...Barcode engraving device, (
C)...Station, CA...Central ttjlJ control device, (C)...Needle section, (B)...Fork, (7)
...Optical sensor, θυ...Container, (6)...Fork, (Foundation)...Vertical movement guide, 0◇...Station shelf, C...Robot, 0η...Chuck section, 0
→...It is a small transport vehicle. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts. Agent Shin Tameno (1 other person) Commissioner of the Japan Patent Office 1. Display of incident Patent application No. 1-190636 2.
Name of the invention Processing equipment for multiple products to be processed 3, Relationship to the case of the letter of amendment Patent applicant address 2-chome Marunouchi [12-3, Chiyoda-ku, Tokyo]
Name (601,) Mitsubishi Electric Corporation Representative Hitoshi Katayama Part 5, 4 ``Detailed Description of the Invention'' of the specification to be amended. 6. Contents of supplement (1) Meisho 1 Homare, page 7, line 14, page 8, degree 9
~ Correct 10 lines of 10 lines to ``all 10 lines'' 0 (2)
"70" on page 8, line 17 of the specification is corrected to "many". (3) Correct "Conduction motor" in the 5th line of page 11 of the 1414 Specification to "@Conduction motor". (4) Specification page 11 No. 11. -12 line "Contact or separation with Teflon □□□, delete -1.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 +11  被処理品に施された識別番号を読取る番号読
取り装置、複数の棚に仕切られた多数の針部が設けられ
、識別番号が読取られた上記被処理品を所定の針部に一
時収容し次工程に対し待期させる収納庫、上記番号読取
力装置から上記被処理Ill′ioを受は上記針部に収
納し、また、針部の被処理品を取出し上記番号読取シ装
置にかけ識別番号を確認させるための運搬具、制御指令
によって処理条件が設定されるようにしてあり、そり、
それ上記針部から取IJJさit識別番号が確認さh−
た被処理品を処理加工する複数種の処理装置、上記被処
理品を上記番号読取り装置側から受取シ次工程の上記処
理装置に渡し、また、処理が関連する処理装置間では上
記被処理品を受渡し、その工程の処理が終っfc被処理
品を上記番号読取り装置側に渡し、識別番号が確認され
るようにする搬送装置、及びコンピュータを有し、上記
各処理装置、番号読取り装置、運搬具及び搬送装置を制
御し、かつ、上記各被処理品の識別番号を登録して工程
管理をする制御装置を備えた多数被処理品の処理設備。 (2)  運搬具はフォークラ有するスタッカクレーン
からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
多数被処理品の処理設備。 (3)  搬送装置は被処理品の積込み、下し機構を内
蔵していて、搬送路を走行する搬送車を配したことfr
、特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の多
数被処理品の処理設備。 (4)  収納庫の針部には、次の同じ処理工程群別に
複数個宛の被処理品を収納し、各処理工程終了ごとに再
び収納待期させるより vc 1.たこ七を特徴とする
特許請求の範囲第1項ないし第3項のいづれかの項記載
の多数被処理品の処理設備。 (5)  被処理品は半導体ウェー八からなり、多数枚
ヲカセットに収納して10ツトとなし、このロット単位
で処理するようにしたこと金特依とする特許請求の範囲
第1項なrし第4項のいづfLかの項記載の多数被処理
品の処理設備。 +61  W数種の処理装置は、化学処理ブロック、熱
処理ブロック、金属蒸着処理ブロック、イオン注入処理
ブロック、レジスト感光処理ブロック及びエツチング処
理ブロックにおけるそ引、ぞれの処理装置をなしてhる
ことを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の多数被処
理品の処理設備。
[Scope of Claims] +11 A number reading device for reading an identification number given to a workpiece is provided with a number of needle parts partitioned into a plurality of shelves, and the workpiece whose identification number has been read is placed in a predetermined position. There is a storage where the item to be processed is temporarily stored in the needle part and waited for the next process, and the item to be processed is stored in the needle part from the number reading device. A conveyance device is used to confirm the identification number by checking the reading device, and processing conditions are set by control commands.
Take it from the needle above and check the identification number.
Multiple types of processing equipment process the processed items, the processed items are transferred from the number reading device to the processing equipment in the next process, and the processed items are transferred between the processing equipment related to the processing. It has a conveyor device and a computer that transfers the FC processed product after the processing of the process is completed to the above-mentioned number reading device and confirms the identification number, and includes a computer and the above-mentioned processing devices, number reading device, and transportation. A processing facility for processing a large number of items to be processed, which is equipped with a control device that controls tools and conveyance devices, and registers identification numbers of each of the items to be processed to manage the process. (2) The equipment for processing a large number of items to be processed as set forth in claim 1, wherein the transportation device is a stacker crane having a forklift. (3) The transport device has a built-in mechanism for loading and unloading the items to be processed, and is equipped with a transport vehicle that runs along the transport path.
A processing equipment for processing multiple objects to be processed according to claim 1 or 2, characterized in that: (4) Rather than storing multiple items to be processed in the needle section of the storage compartment for each of the same processing process group, and waiting for storage again after each processing process, vc 1. A processing equipment for processing a large number of items to be processed as set forth in any one of claims 1 to 3, characterized by an octopus seven. (5) The product to be processed consists of eight semiconductor wafers, and a large number of them are stored in a cassette to make 10 pieces, and the processing is performed in units of lots. Processing equipment for a large number of items to be processed as described in Section 4. +61 W Several types of processing equipment are used for chemical processing blocks, heat processing blocks, metal vapor deposition processing blocks, ion implantation processing blocks, resist photosensitive processing blocks, and etching processing blocks. A processing equipment for processing a large number of items to be processed as set forth in claim 4.
JP19063682A 1982-10-27 1982-10-27 Treating facility for many articles to be treated Pending JPS5978535A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19063682A JPS5978535A (en) 1982-10-27 1982-10-27 Treating facility for many articles to be treated

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19063682A JPS5978535A (en) 1982-10-27 1982-10-27 Treating facility for many articles to be treated

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5978535A true JPS5978535A (en) 1984-05-07

Family

ID=16261364

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19063682A Pending JPS5978535A (en) 1982-10-27 1982-10-27 Treating facility for many articles to be treated

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5978535A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02132840A (en) * 1988-02-12 1990-05-22 Tokyo Electron Ltd Manufacturing device
JPH04117449U (en) * 1992-01-24 1992-10-21 大日本スクリーン製造株式会社 Semiconductor wafer alignment equipment
US6287067B1 (en) 1996-06-21 2001-09-11 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Processing unit and processing unit structure by assembling thereof

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02132840A (en) * 1988-02-12 1990-05-22 Tokyo Electron Ltd Manufacturing device
JPH04117449U (en) * 1992-01-24 1992-10-21 大日本スクリーン製造株式会社 Semiconductor wafer alignment equipment
JPH0517886Y2 (en) * 1992-01-24 1993-05-13
US6287067B1 (en) 1996-06-21 2001-09-11 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Processing unit and processing unit structure by assembling thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4544318A (en) Manufacturing system
US5399531A (en) Single semiconductor wafer transfer method and plural processing station manufacturing system
US5976199A (en) Single semiconductor wafer transfer method and manufacturing system
US5372471A (en) Single semiconductor wafer transfer method and manufacturing system
US5442416A (en) Resist processing method
US4775281A (en) Apparatus and method for loading and unloading wafers
US6336546B1 (en) Conveying system
US20070186799A1 (en) Direction change device
US20040126208A1 (en) Access to one or more levels of material storage shelves by an overhead hoist transport vehicle from a single track position
TW200403181A (en) Automated material handling system for semiconductor manufacturing based on a combination of vertical carousels and overhead hoists
JPH0722490A (en) Device and method for automatically arranging lots
KR20020019021A (en) Installation for processing wafers
KR19980070828A (en) Automatic storage shelf and automatic storage method
JPS61123150A (en) Production apparatus
JP3185595B2 (en) Load storage equipment with board sorting equipment
JPH0278243A (en) Continuous processing system for semiconductor substrate
JPS5978535A (en) Treating facility for many articles to be treated
TWI333233B (en) Small lot size lithography bays
JPH0829467B2 (en) Assembly equipment
US6599763B1 (en) Wafer randomization and alignment system integrated into a multiple chamber wafer processing system
JPH05338728A (en) Wafer carrying method and device thereof
JP2750591B2 (en) Sheet metal production equipment
JP2000044015A (en) Storage equipment of semiconductor wafer and storing and managing method of semiconductor using it
JPH08111448A (en) Substrate processing equipment
JP4096464B2 (en) Out-of-line processing method and apparatus for metal processing line