JPS5973027A - ガス洗浄器 - Google Patents
ガス洗浄器Info
- Publication number
- JPS5973027A JPS5973027A JP9388483A JP9388483A JPS5973027A JP S5973027 A JPS5973027 A JP S5973027A JP 9388483 A JP9388483 A JP 9388483A JP 9388483 A JP9388483 A JP 9388483A JP S5973027 A JPS5973027 A JP S5973027A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- perforated
- curtain
- chamber
- cleaning fluid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
- B01D47/16—Apparatus having rotary means, other than rotatable nozzles, for atomising the cleaning liquid
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Separating Particles In Gases By Inertia (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガス洗浄器に関づる。
公開された英国特許出願第２０５０８６３八号は、環状
空間を形成するために、室の内壁から離れて１つ以上の
無孔円盤が収容された清浄室を含んだガス洗浄器を備え
ている。各円盤には清浄液体が供給され、これら円盤は
各々回転して環状空間を横切る液槽を形成する。浄化さ
れるガスは、各液部を貫通して塵埃の部分がガスから除
去されるように清浄室に吸引される。また別の円盤には
清浄液体が供給されず、症ってこの円盤はこの室から排
出される浄化ガスが乾燥するように、ガス流内の液適を
除去する役割を果たす。このようなガス洗浄器の欠点は
円盤が塵埃で詰まり、この結果、ガス洗浄器の内部を洗
浄づるために周期的に動作を停止しなければならなかっ
た。
空間を形成するために、室の内壁から離れて１つ以上の
無孔円盤が収容された清浄室を含んだガス洗浄器を備え
ている。各円盤には清浄液体が供給され、これら円盤は
各々回転して環状空間を横切る液槽を形成する。浄化さ
れるガスは、各液部を貫通して塵埃の部分がガスから除
去されるように清浄室に吸引される。また別の円盤には
清浄液体が供給されず、症ってこの円盤はこの室から排
出される浄化ガスが乾燥するように、ガス流内の液適を
除去する役割を果たす。このようなガス洗浄器の欠点は
円盤が塵埃で詰まり、この結果、ガス洗浄器の内部を洗
浄づるために周期的に動作を停止しなければならなかっ
た。
本発明は、英国特許出願第２０５０８６３Ａ号に開示さ
れたのと類似のガス洗浄器を提供することを目的とし、
本発明のガス洗浄器は改良された洗浄作用を有して上記
の欠点を克服したものである。
れたのと類似のガス洗浄器を提供することを目的とし、
本発明のガス洗浄器は改良された洗浄作用を有して上記
の欠点を克服したものである。
本発明の１つの見地によれば、ガス流入口と、ガス流出
口とを有−すると共にこれらガス流入口からガス流出口
までにガス流路が形成される清浄室と、この流路ど交差
して少なくどし１つの清浄流体の幕を形成し、６幕の下
流に６幕と協同して前記清浄流体の霧化領域を形成する
幕／霧化手段とを備えたガス洗浄器が提供される。また
、各液槽および協同の霧化領域を形成する苗／霧化手段
手段は穴明領域を有する回転円盤と、清浄流体を円盤に
指向させるノズル手段とを含むことが好ましい。
口とを有−すると共にこれらガス流入口からガス流出口
までにガス流路が形成される清浄室と、この流路ど交差
して少なくどし１つの清浄流体の幕を形成し、６幕の下
流に６幕と協同して前記清浄流体の霧化領域を形成する
幕／霧化手段とを備えたガス洗浄器が提供される。また
、各液槽および協同の霧化領域を形成する苗／霧化手段
手段は穴明領域を有する回転円盤と、清浄流体を円盤に
指向させるノズル手段とを含むことが好ましい。
以下に図面を参照して本発明の詳細な説明覆る。
第１図は、ガス流入口１２とガス流出０１４とを有する
ガス洗浄器１０を示している。このガス流出口１４には
、例えばファン等の吸引手段（図示略）が接続され、こ
の結果カス洗浄器を通過Ｊ−る浄化用のガスが破線の矢
印で概略的に示されるように吸引される。
ガス洗浄器１０を示している。このガス流出口１４には
、例えばファン等の吸引手段（図示略）が接続され、こ
の結果カス洗浄器を通過Ｊ−る浄化用のガスが破線の矢
印で概略的に示されるように吸引される。
まず、浄化されるガスは、流入口からダクト１５を経由
して、２個の回転円盤（有孔盤）１８゜１つが収容され
る円筒至（洗浄室）１７に導入される。この洗浄室１７
はガス人口１７ａとガス出口１７ｂとを有している。こ
れら回転円盤１８゜１９は駆動手段（図示略）によって
回転駆動される共通の軸２１に数例けられている。この
回転円盤１８の下側には、清浄流体を円盤１８上に噴射
するジェットノズル２０が配置され、この清浄流体の量
および円盤の回転速度は、円盤１８の周辺と洗浄室１７
の内壁と間に所望の厚みの清浄流体の完全なカーテン（
液ｉ１＞１８ａが形成されるように調整される。
して、２個の回転円盤（有孔盤）１８゜１つが収容され
る円筒至（洗浄室）１７に導入される。この洗浄室１７
はガス人口１７ａとガス出口１７ｂとを有している。こ
れら回転円盤１８゜１９は駆動手段（図示略）によって
回転駆動される共通の軸２１に数例けられている。この
回転円盤１８の下側には、清浄流体を円盤１８上に噴射
するジェットノズル２０が配置され、この清浄流体の量
および円盤の回転速度は、円盤１８の周辺と洗浄室１７
の内壁と間に所望の厚みの清浄流体の完全なカーテン（
液ｉ１＞１８ａが形成されるように調整される。
同様に、回転円盤１９にもノズル２２から清浄流体が供
給され、この結果清浄流体の幕１９ａが形成される。従
ってこのノズル２２に清浄流体を共通ずるために、共通
軸２１内には軸方向に延びている穴２４とボート２５と
が形成され、これら穴２４およびポート２５を経由して
ノズル２０からの清浄流体がノズル２２に流入している
。一方洗浄至１７の内壁に衝突した清浄流体は壁を下っ
てダク１〜１５に流入し、出口１５ａで流出づる。
給され、この結果清浄流体の幕１９ａが形成される。従
ってこのノズル２２に清浄流体を共通ずるために、共通
軸２１内には軸方向に延びている穴２４とボート２５と
が形成され、これら穴２４およびポート２５を経由して
ノズル２０からの清浄流体がノズル２２に流入している
。一方洗浄至１７の内壁に衝突した清浄流体は壁を下っ
てダク１〜１５に流入し、出口１５ａで流出づる。
この出口１５ａから流れる清浄流体（よ、再利用される
清浄流体を浄化する循環分離器のような濾過あるいは分
離装置（図示略）に供給されてもよい。
清浄流体を浄化する循環分離器のような濾過あるいは分
離装置（図示略）に供給されてもよい。
このような回転円盤１８．１９４こは、第２図に示すよ
うに、各清浄流体幕の下流側に略概的に散布く霧化）領
域３２を形成づ−るために所望量の清浄流体が各円盤を
通過できる穴明領域が形成される。各散布領域３２には
穴明領域を通るガスおＪ：び流体の通路によって乱流が
形成される。これら穴明領域の寸法ｄ）よび形は、清浄
流体が十分に円盤上に貫通できると同時に所望の清浄流
体の幕が円盤によって形成されるように選択される。更
に、穴明領域の形成は、無孔円盤を使用した時に存在す
る渦流が各円盤の回りに形成されることを抑制する。こ
の結果、このような渦流は除去されるかあるいは略減少
され、従って各円盤１８．１９の下流面に塵埃がＩＬｆ
＊ するのを抑制しＣいる。
うに、各清浄流体幕の下流側に略概的に散布く霧化）領
域３２を形成づ−るために所望量の清浄流体が各円盤を
通過できる穴明領域が形成される。各散布領域３２には
穴明領域を通るガスおＪ：び流体の通路によって乱流が
形成される。これら穴明領域の寸法ｄ）よび形は、清浄
流体が十分に円盤上に貫通できると同時に所望の清浄流
体の幕が円盤によって形成されるように選択される。更
に、穴明領域の形成は、無孔円盤を使用した時に存在す
る渦流が各円盤の回りに形成されることを抑制する。こ
の結果、このような渦流は除去されるかあるいは略減少
され、従って各円盤１８．１９の下流面に塵埃がＩＬｆ
＊ するのを抑制しＣいる。
これら穴明領域にとっては、第２図に示すように、放射
状に配置された長孔３０（こ形成され、この長孔３０の
領域が円盤の全領域の約２５％であることが現在好まし
い。またこれら穴明領域は、液ＰＸの形成を妨害−づる
背を形成しないために、円盤の周辺部が外に好ましく開
口している。
状に配置された長孔３０（こ形成され、この長孔３０の
領域が円盤の全領域の約２５％であることが現在好まし
い。またこれら穴明領域は、液ＰＸの形成を妨害−づる
背を形成しないために、円盤の周辺部が外に好ましく開
口している。
霜化領Ｖｉ３２の形成は、本発明の重要な目的であり、
これは清浄流体の液滴で運ばれたガスの源と、この清浄
流体によって塵埃が濡れる領域も形成する。この散布領
域３２において、塵埃のかなりの量は液適に取り込まれ
、従ってガス流によって運ばれるにはあまりにも重くな
って降下してガスから塵埃が除去される。残りのわずか
な塵埃は濡れているが、ガスに残って運ばれる。
これは清浄流体の液滴で運ばれたガスの源と、この清浄
流体によって塵埃が濡れる領域も形成する。この散布領
域３２において、塵埃のかなりの量は液適に取り込まれ
、従ってガス流によって運ばれるにはあまりにも重くな
って降下してガスから塵埃が除去される。残りのわずか
な塵埃は濡れているが、ガスに残って運ばれる。
洗浄室１７の出口１７ｂは、円筒状の導風部材３５によ
って形成される。この導風部材３５には、清浄流体が洗
浄室１７の内壁を上昇するのを防止する深さを有し、ま
た出口１７ｂの外に突出しているリップ部が形成される
。
って形成される。この導風部材３５には、清浄流体が洗
浄室１７の内壁を上昇するのを防止する深さを有し、ま
た出口１７ｂの外に突出しているリップ部が形成される
。
この円筒部材３５は洗浄室１７から流出するガスの層流
を形成するに十分に軸方向に延びており、この層流は共
通軸２１に取付けられると共に水切室１１に収容される
回転水切盤３７の下面に指向している。この水切￥に３
７の直径は、全ての層流が水切盤に衝突するように少な
くとも円筒部材３５の直径になるように）蓑択される。
を形成するに十分に軸方向に延びており、この層流は共
通軸２１に取付けられると共に水切室１１に収容される
回転水切盤３７の下面に指向している。この水切￥に３
７の直径は、全ての層流が水切盤に衝突するように少な
くとも円筒部材３５の直径になるように）蓑択される。
洗浄室１７から現われるガスは、濡れたＩＩ Ｊ＆を運
搬するガスと、清浄流体の液適を運搬りるガスも含んで
いる。これら湿潤塵埃運搬ガスｄ５よび液滴運搬ガスは
、水切１３７に衝突した時に、液滴が大粒になって粘着
しがちになり、また清浄流体が水切盤に投げ掛けられて
従って塵埃が水切盤から洗い流される。この水切盤３７
から振り切られた清浄流体を含んだ塵埃は水切室１１の
内壁に衝突し、パイプ１３（１個のみが示されている）
を通ってダクト１５に排出される。
搬するガスと、清浄流体の液適を運搬りるガスも含んで
いる。これら湿潤塵埃運搬ガスｄ５よび液滴運搬ガスは
、水切１３７に衝突した時に、液滴が大粒になって粘着
しがちになり、また清浄流体が水切盤に投げ掛けられて
従って塵埃が水切盤から洗い流される。この水切盤３７
から振り切られた清浄流体を含んだ塵埃は水切室１１の
内壁に衝突し、パイプ１３（１個のみが示されている）
を通ってダクト１５に排出される。
第１図に示されるように、円筒部材３５には、水切室１
１の床１１ａから上方に突出して、清浄流体が水切室１
１の内壁を流れ落ぢて洗浄室１７から流出する層流のガ
スに混合させない障壁として作用でるリップ部が形成さ
れる。
１の床１１ａから上方に突出して、清浄流体が水切室１
１の内壁を流れ落ぢて洗浄室１７から流出する層流のガ
スに混合させない障壁として作用でるリップ部が形成さ
れる。
ガス流は水切盤３７の回りに偏向して畔乾燥状態で出口
１４に流入する。
１４に流入する。
水切盤３７の寸法および軸２１の回転速度は、円盤の周
辺速度が清浄流体の大粒の液滴を霧化しないで水切室１
１の内壁に振り切るに十分なように調整される。
辺速度が清浄流体の大粒の液滴を霧化しないで水切室１
１の内壁に振り切るに十分なように調整される。
水が清浄流体として用いられたシステムにおいては、周
辺速度が１０００フイート／分（３００ｍ ／分）を越
えないようにずべきであり、約２４０ｍ／分が好ましい
。
辺速度が１０００フイート／分（３００ｍ ／分）を越
えないようにずべきであり、約２４０ｍ／分が好ましい
。
液滴の最大寸法を運搬する所望の上昇量を形成覆るため
に、ガスが吸引される室内の制限された通路は同じ断面
領域になるように所定の寸法に選択される。円１１８．
１９の周辺および洗浄室１７の内壁間に関して、円筒部
材３５の断面領域および水切盤３７の周辺と水切室１１
の内壁との間は互いに等しくすることが好ましい。従っ
て清浄流体が水であるシステムにおいては、こらの領域
は、これらの領域を通過するガスの流速が１０００フィ
ー１− ／分を越えないように選択され、８００フイ一
ト／分の流速を形成することが好ましい。
に、ガスが吸引される室内の制限された通路は同じ断面
領域になるように所定の寸法に選択される。円１１８．
１９の周辺および洗浄室１７の内壁間に関して、円筒部
材３５の断面領域および水切盤３７の周辺と水切室１１
の内壁との間は互いに等しくすることが好ましい。従っ
て清浄流体が水であるシステムにおいては、こらの領域
は、これらの領域を通過するガスの流速が１０００フィ
ー１− ／分を越えないように選択され、８００フイ一
ト／分の流速を形成することが好ましい。
液暮と協同の霧化領域を形成する洗浄室１７の円盤の数
は、除去される不純物の蟻あるいは形によって変化でき
る。このガス洗浄器は灰のような粒子をガスから除去す
るため、あるいはガス状の不純物を除去するために用い
ることができる。また清浄流体は除去される不純物を考
慮して例えば水あるいは有機溶媒が選択される。
は、除去される不純物の蟻あるいは形によって変化でき
る。このガス洗浄器は灰のような粒子をガスから除去す
るため、あるいはガス状の不純物を除去するために用い
ることができる。また清浄流体は除去される不純物を考
慮して例えば水あるいは有機溶媒が選択される。
第３図には本発明の別の実施例が示されている。
この図において、第１図に示される部品と同類のものに
は同一符号が付しである。
は同一符号が付しである。
第３図の実施例は、円盤１８．１９および３７がより小
径である点が第１図および第２図の実施例と異なってい
る。従って、同じ周辺速度を得るためには、軸２１はよ
り速く回転し、これにより、回転ファン６０を直接１ｌ
Ｉｌｌ！２１に取イζ１（プることができる。また、こ
の第３図の実施例において、回転ファン６０は水切盤３
７に追加して更に分間１器として作用す−る。
径である点が第１図および第２図の実施例と異なってい
る。従って、同じ周辺速度を得るためには、軸２１はよ
り速く回転し、これにより、回転ファン６０を直接１ｌ
Ｉｌｌ！２１に取イζ１（プることができる。また、こ
の第３図の実施例において、回転ファン６０は水切盤３
７に追加して更に分間１器として作用す−る。
従って、空気は回転ファン６０の入口ボート６３に吸引
され、液滴を運ぶ空気が回転刃あるいは平坦な天井６０
で大粒化されて回転ファン６０を収容−クー６４アロ７
の内壁に投げ掛（）られる。
され、液滴を運ぶ空気が回転刃あるいは平坦な天井６０
で大粒化されて回転ファン６０を収容−クー６４アロ７
の内壁に投げ掛（）られる。
壁６５は、水切盤３７を水切室６７から分離りるが、窄
６７の底壁６８から７の周辺を支社６／１によって離間
されて環状のギＡ・ツブ６８を形成しでいる。この回転
ファン６０は水切室６７にかなり高圧を形成し、また洗
浄掌１７をかなり低圧にさけて、水切室６７から洗浄室
１７への空気流を環状ギャップ６つを介して形成してい
る。この空気は水切室６７から洗浄室１７へ液体を除去
することを強制し、また液体が突出の環状リップ７０を
通過して水切室６７に上昇ザることを防止することで右
利である。
６７の底壁６８から７の周辺を支社６／１によって離間
されて環状のギＡ・ツブ６８を形成しでいる。この回転
ファン６０は水切室６７にかなり高圧を形成し、また洗
浄掌１７をかなり低圧にさけて、水切室６７から洗浄室
１７への空気流を環状ギャップ６つを介して形成してい
る。この空気は水切室６７から洗浄室１７へ液体を除去
することを強制し、また液体が突出の環状リップ７０を
通過して水切室６７に上昇ザることを防止することで右
利である。
第１図は本発明による実施例の概略断側面図、第２図は
第１図のト］線概略断面図、第３図は本発明による別の
実施例の概略断側面図である。 １・・・・・・ガス流入口、１／Ｉ・・・・・・ガス流
出［１，１７・・・・・・円筒室、１８．１９・・・・
・・有孔盤（幕／霧化手段）、３７・・・・・・水切盤
（回転無孔盤）。 図ｍ１の／ＴＩ￥（内容に変更なし） 、 ７４ 〜・２ Ｆυ・３ 昭和 年 月 日 ２８発明の名称 ガス洗浄器 ライニングトン ロード １１３ ６、補正の対象 図面。 ７、補正の内容 別紙の通り。 １３７−
第１図のト］線概略断面図、第３図は本発明による別の
実施例の概略断側面図である。 １・・・・・・ガス流入口、１／Ｉ・・・・・・ガス流
出［１，１７・・・・・・円筒室、１８．１９・・・・
・・有孔盤（幕／霧化手段）、３７・・・・・・水切盤
（回転無孔盤）。 図ｍ１の／ＴＩ￥（内容に変更なし） 、 ７４ 〜・２ Ｆυ・３ 昭和 年 月 日 ２８発明の名称 ガス洗浄器 ライニングトン ロード １１３ ６、補正の対象 図面。 ７、補正の内容 別紙の通り。 １３７−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）ガス流入口と、ガス流出口とを有すると共にこれ
らガス流入口からガス流出口までにガス流路が形成され
る洗浄至と、 この流路と交差して少なくとも１つの清浄流体の幕を形
成し、６幕の下流に６幕と協同して前記清浄流体の霧化
領域を形成する幕／霧化手段とを備えたガス洗浄器。 く２）前記幕／霧化手段の下流側には、液適運搬ガスを
除去する回転水切盤が収容されることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載のガス洗浄器。 （３）前記幕／霧化手段の下流には、前記回転水切盤に
衝突するガスの層流を形成する導風部々Ａが収容される
ことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載のガス洗浄
器。 （・４）前記幕／霧化手段は、穴明領域を有Ｊる回転有
孔盤を含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項、第
２項あるいは第３項記載のガス洗浄器。 （５）前記穴明領域は、各有孔盤の放射状に延びている
ことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載のガス洗浄
器。 く６）前記穴明領域は、各有孔盤の周辺まで延びている
ことを特徴とする特許（＾求の範囲第５項記載のガス洗
浄器。 表７）前記穴明領域は、各有孔盤の表面領域の約２５％
を形成していることを特徴とする特許請求の範囲第４項
、第５項あるいは第６項記載のガス洗浄器。 （８）前記有孔盤は共通軸に取付けられることを特徴と
する特許請求の範囲第４項から第７項までのいずれかに
記載のガス洗浄器。 く９）前記共通軸には、清浄器を通過してガス流を形成
する回転ファンが取付けら机ることを特徴とする特許請
求の範囲第８項記載のガス洗浄器。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP8215564 | 1982-05-27 | ||
| GB8215564 | 1982-05-27 | ||
| GB83300278 | 1983-01-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5973027A true JPS5973027A (ja) | 1984-04-25 |
Family
ID=10530687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9388483A Pending JPS5973027A (ja) | 1982-05-27 | 1983-05-27 | ガス洗浄器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0096451B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5973027A (ja) |
| DE (2) | DE3376254D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012055839A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Amano Corp | オイルミスト除去装置 |
| JP2021529089A (ja) * | 2018-12-14 | 2021-10-28 | ▲広▼▲東▼美的白色家▲電▼技▲術▼▲創▼新中心有限公司Ｇｕａｎｇｄｏｎｇ Ｍｉｄｅａ Ｗｈｉｔｅ Ｈｏｍｅ Ａｐｐｌｉａｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｉｎｎｏｖａｔｉｏｎ Ｃｅｎｔｅｒ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 空気清浄機 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2645454A1 (fr) * | 1989-04-05 | 1990-10-12 | Pernot Claude | Dispositif pour depolluer l'air |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2374699A (en) * | 1941-06-13 | 1945-05-01 | Piquerez Emile | Apparatus for dispersing material in air |
| GB1303250A (ja) * | 1969-09-17 | 1973-01-17 | ||
| GB2050863B (en) * | 1979-05-19 | 1983-06-29 | Gent D V | Gas scrubber |
-
1983
- 1983-01-20 EP EP19830300278 patent/EP0096451B1/en not_active Expired
- 1983-01-20 DE DE8383300278T patent/DE3376254D1/de not_active Expired
- 1983-01-20 DE DE1983300278 patent/DE96451T1/de active Pending
- 1983-05-27 JP JP9388483A patent/JPS5973027A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012055839A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Amano Corp | オイルミスト除去装置 |
| JP2021529089A (ja) * | 2018-12-14 | 2021-10-28 | ▲広▼▲東▼美的白色家▲電▼技▲術▼▲創▼新中心有限公司Ｇｕａｎｇｄｏｎｇ Ｍｉｄｅａ Ｗｈｉｔｅ Ｈｏｍｅ Ａｐｐｌｉａｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｉｎｎｏｖａｔｉｏｎ Ｃｅｎｔｅｒ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 空気清浄機 |
| US11794143B2 (en) | 2018-12-14 | 2023-10-24 | Guangdong Midea White Home Appliance Technology Innovation Center Co., Ltd. | Air purifier |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0096451B1 (en) | 1988-04-13 |
| EP0096451A1 (en) | 1983-12-21 |
| DE96451T1 (de) | 1984-06-20 |
| DE3376254D1 (en) | 1988-05-19 |
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