JPS5965029A - ジイソプロペニルベンゼンの精製方法 - Google Patents
ジイソプロペニルベンゼンの精製方法Info
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- JPS5965029A JPS5965029A JP58161781A JP16178183A JPS5965029A JP S5965029 A JPS5965029 A JP S5965029A JP 58161781 A JP58161781 A JP 58161781A JP 16178183 A JP16178183 A JP 16178183A JP S5965029 A JPS5965029 A JP S5965029A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C7/00—Purification; Separation; Use of additives
- C07C7/148—Purification; Separation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification of at least one compound
- C07C7/163—Purification; Separation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification of at least one compound by hydrogenation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ジイソプロペニルベンゼンは、有用重合物の調製に使用
可能な単歇体であり、且つまた。多社の化学プロセスに
使用可能な化学中間体でもある。ジイソプロペニルベン
ゼンは、ジイソプロピルベンゼンの脱水素により合成す
ることができる。列えはメタ−ジイソプロピルベンゼン
(m−DIPB)k脱水素してメタ−ジイソプロペニル
ベンゼン(m−DIR)に、パラ−ジイソプロピルベン
ゼン(p−DIPBi脱水素してハラーシイソプロペニ
ルベンゼy(p−DIR)にすることができる。不都合
なことに、この脱水素プロセスではオレフィン性不純物
が副生物として若干生成する。これらのオレフィン性不
純物[14,イソプロピルスチレン、ジビニルベンゼン
、インプロペニルスチレンその他の有1幾不純吻がある
。これらの不1浦物をジイソプロピルベンゼンの脱水素
にて製造されるメタ又1dハラージイソプロペニルベン
ゼンから除去することが非常に望まれるのけ明らかであ
ろう。
可能な単歇体であり、且つまた。多社の化学プロセスに
使用可能な化学中間体でもある。ジイソプロペニルベン
ゼンは、ジイソプロピルベンゼンの脱水素により合成す
ることができる。列えはメタ−ジイソプロピルベンゼン
(m−DIPB)k脱水素してメタ−ジイソプロペニル
ベンゼン(m−DIR)に、パラ−ジイソプロピルベン
ゼン(p−DIPBi脱水素してハラーシイソプロペニ
ルベンゼy(p−DIR)にすることができる。不都合
なことに、この脱水素プロセスではオレフィン性不純物
が副生物として若干生成する。これらのオレフィン性不
純物[14,イソプロピルスチレン、ジビニルベンゼン
、インプロペニルスチレンその他の有1幾不純吻がある
。これらの不1浦物をジイソプロピルベンゼンの脱水素
にて製造されるメタ又1dハラージイソプロペニルベン
ゼンから除去することが非常に望まれるのけ明らかであ
ろう。
メター又uパラージインプロペニルベンゼンは1分留に
よってこれらの有1幾不純物から除去可能であろうと思
われていた。しかしなかへ。
よってこれらの有1幾不純物から除去可能であろうと思
われていた。しかしなかへ。
分別蒸留を試みたら蒸留缶の内6吻(p−DIB又はr
n−DIB と有機不純物)は、蒸留・て必要な昇温
下で重合してゲルになり、蒸留ケ不町目ヒにした。この
重合は蒸留缶中に1.U LI U ppm(百万部当
りの部数)はどの重合禁止剤を存在させても生起し、全
ジイソプロペニルベンゼン □が回収されるずっと前に
ゲルを形成する。
n−DIB と有機不純物)は、蒸留・て必要な昇温
下で重合してゲルになり、蒸留ケ不町目ヒにした。この
重合は蒸留缶中に1.U LI U ppm(百万部当
りの部数)はどの重合禁止剤を存在させても生起し、全
ジイソプロペニルベンゼン □が回収されるずっと前に
ゲルを形成する。
水素化により望ましくない副生物が回収可能なこともし
ばしばある。列えば、米国時許第3、887.662号
、同第3,912.’78 ’/号並びに同第3,92
2,318号は2選択的水素化によりアセチレンikブ
タジェン及び/又はイソプレ/含有流から除去できるこ
とを示している。
ばしばある。列えば、米国時許第3、887.662号
、同第3,912.’78 ’/号並びに同第3,92
2,318号は2選択的水素化によりアセチレンikブ
タジェン及び/又はイソプレ/含有流から除去できるこ
とを示している。
約6.7 i 准%1J下のインプロペニルスチレン(
IPS )”ta有する脱水素反応混合物(ジイソプロ
ピルベンゼンの脱水素にて形成されるジイソプロペニル
ベンゼンと有機不純物の混合物)を分別蒸留に必要な温
度(約150”C乃至約165℃)に9口熱する場合に
は、蒸留缶内で重合・ゲル化しないことが見出された。
IPS )”ta有する脱水素反応混合物(ジイソプロ
ピルベンゼンの脱水素にて形成されるジイソプロペニル
ベンゼンと有機不純物の混合物)を分別蒸留に必要な温
度(約150”C乃至約165℃)に9口熱する場合に
は、蒸留缶内で重合・ゲル化しないことが見出された。
能力。
7.4][94μ上のインプロペニルスチレンヲ倉有す
る脱水素反応混合物?蒸留すると、蒸留缶の内’d ’
P/l ’d 2乃至5時1iJiで重合してゲルにな
る。
る脱水素反応混合物?蒸留すると、蒸留缶の内’d ’
P/l ’d 2乃至5時1iJiで重合してゲルにな
る。
これはジイソプロペニルベンゼンが全部回収可能となる
。1:りもずっと前である。斯く・て、蒸留時の脱水素
反応混合物の重合及びゲル杉収は。
。1:りもずっと前である。斯く・て、蒸留時の脱水素
反応混合物の重合及びゲル杉収は。
イソプロペニルメチレフ6度’fr約6.7重献バーセ
ントμ下に減少させることにより防止可能である。
ントμ下に減少させることにより防止可能である。
ロジウム触媒を用いると、脱水素反応混合物中のインプ
ロペニルスチレン’l沢的に水素化することが可能であ
り、ジイソプロペニルベンゼンはそれほど水素化されな
い。ロジウム触媒を用い、脱水素反応混合物を選獣的に
水素化してインプロペニルスチレンall−6,7重毅
係以下に減少させたあとは、ゲル形成ヲ1#−なうこと
なく、分別蒸留でm−DIB又up−DIB k有機不
純物から分離することができる。
ロペニルスチレン’l沢的に水素化することが可能であ
り、ジイソプロペニルベンゼンはそれほど水素化されな
い。ロジウム触媒を用い、脱水素反応混合物を選獣的に
水素化してインプロペニルスチレンall−6,7重毅
係以下に減少させたあとは、ゲル形成ヲ1#−なうこと
なく、分別蒸留でm−DIB又up−DIB k有機不
純物から分離することができる。
本発明は、脱水素反応混合物中の有機不純物カラジイソ
プロペニルベンゼン′f:分離する方法を開示するもの
であり、該方法は(1)ロジウム触媒と水素の存在下に
、脱水素反応混合物をインプロペニルスチレンの最大一
度が約5這般q6を越えぬ程度に水素化して水素化され
た脱水素反応混合物を形成し、引続き(2)前記ジイソ
プロペニルベンゼンを、前記の水素化された脱水素反応
混合物中の前記有礪不j4物71)ら分離するのに十分
な条件下で前記の水素化された脱水素反応混合物を分別
蒸留することからなる。本発明は、ジイソプロペニルベ
ンゼンの水系化を最小にとどめながら、脱水素反応混合
物からインプロペニルスチレンを除去する方法ef用す
るものであり、咳法はロジウム触媒と水素の存在下での
前記脱水素反応混合物の水素化を包含する。
プロペニルベンゼン′f:分離する方法を開示するもの
であり、該方法は(1)ロジウム触媒と水素の存在下に
、脱水素反応混合物をインプロペニルスチレンの最大一
度が約5這般q6を越えぬ程度に水素化して水素化され
た脱水素反応混合物を形成し、引続き(2)前記ジイソ
プロペニルベンゼンを、前記の水素化された脱水素反応
混合物中の前記有礪不j4物71)ら分離するのに十分
な条件下で前記の水素化された脱水素反応混合物を分別
蒸留することからなる。本発明は、ジイソプロペニルベ
ンゼンの水系化を最小にとどめながら、脱水素反応混合
物からインプロペニルスチレンを除去する方法ef用す
るものであり、咳法はロジウム触媒と水素の存在下での
前記脱水素反応混合物の水素化を包含する。
メタージイソプロペニルベンゼントパラーシイソプロペ
ニルベンゼンは、夫々メタジイソプロピルベンゼンとパ
ラ−ジイソプロピルベンゼンの脱水素によf)製造可能
である。このジイソプロピルベンゼン説水素法では、ジ
イソプロペニルベンゼンと多数の有機不純物ヲき有する
脱水素反応混合物が生成する。これらの有機不純物VC
d、イソプロピルスチレン、ジビニルベンゼン、インプ
ロペニルスチレンその他のオレフィン注不純’bが包含
される。脱水素反応混合′物中には10濱、脱水素され
なかったジイソプロピルベンゼンも少数存在する。メタ
−ジイソプロピルベンゼン脱水素時に生成する脱水系反
応混合物の12%はどけ、望ましからぬ副生−とり、て
生lJV、(、たイソプロペニルスチレンである。
ニルベンゼンは、夫々メタジイソプロピルベンゼンとパ
ラ−ジイソプロピルベンゼンの脱水素によf)製造可能
である。このジイソプロピルベンゼン説水素法では、ジ
イソプロペニルベンゼンと多数の有機不純物ヲき有する
脱水素反応混合物が生成する。これらの有機不純物VC
d、イソプロピルスチレン、ジビニルベンゼン、インプ
ロペニルスチレンその他のオレフィン注不純’bが包含
される。脱水素反応混合′物中には10濱、脱水素され
なかったジイソプロピルベンゼンも少数存在する。メタ
−ジイソプロピルベンゼン脱水素時に生成する脱水系反
応混合物の12%はどけ、望ましからぬ副生−とり、て
生lJV、(、たイソプロペニルスチレンである。
脱水素反応混合物を分別蒸留して有機不捕物からジイン
プロペニルベンゼン’に0離するには。
プロペニルベンゼン’に0離するには。
脱水素反応混合物中に存在するインプロペニルベンゼン
の直ヲ約5i虚パーセン14J下に1呆持せねばならな
い。(A留を行なう脱水素反応混合物中のインプロペニ
ルスチレン(IPS)の檄は。
の直ヲ約5i虚パーセン14J下に1呆持せねばならな
い。(A留を行なう脱水素反応混合物中のインプロペニ
ルスチレン(IPS)の檄は。
約6.4重数パーセン)11下に減少させることが好ま
し1ハ。
し1ハ。
IPSは、ロジウム触媒を用ハる水系化により、脱水素
反応混合物から除去可能である。本水素化反応に使用さ
れるロジウム、Il!I!媒け、担体に支持されていて
も、されていなくてもよい。
反応混合物から除去可能である。本水素化反応に使用さ
れるロジウム、Il!I!媒け、担体に支持されていて
も、されていなくてもよい。
一般にはロジウム?支持する方が好まし、い。ロジウム
に使用可「j目な担体の代が例には、炭素。
に使用可「j目な担体の代が例には、炭素。
酸化アルミニウム(アルミナ)、硫酸バリウム、炭酸カ
ルシウム及び炭酸ストロンチウムy5Eiまれる。ロジ
ウム/木炭触媒は1本水素化反応の秀れた触媒である。
ルシウム及び炭酸ストロンチウムy5Eiまれる。ロジ
ウム/木炭触媒は1本水素化反応の秀れた触媒である。
触媒は、連続法では水素化固定床に配置され1回分法の
場合には脱水素混合物に分散される。この脱水素反応混
合物の水素化は、勿論水素ガスの存在下で実施しなけれ
ばならなlハ。
場合には脱水素混合物に分散される。この脱水素反応混
合物の水素化は、勿論水素ガスの存在下で実施しなけれ
ばならなlハ。
この水素化反応は1回分法では、水素ガスとロジウム触
媒を脱水素反応混合物に分散させて実施することができ
る。例えば、触媒含有−脱水素反応混合物ff:攪拌し
て触媒を混合吻に良く分散させなから2それに水系ガス
を分散させることができる。この水素比反応は、固定床
触媒に脱水素反応混合吻をd過させながら、該固定圧I
独媒載に水素ガスを導入することにより、連続的に実施
することができる。
媒を脱水素反応混合物に分散させて実施することができ
る。例えば、触媒含有−脱水素反応混合物ff:攪拌し
て触媒を混合吻に良く分散させなから2それに水系ガス
を分散させることができる。この水素比反応は、固定床
触媒に脱水素反応混合吻をd過させながら、該固定圧I
独媒載に水素ガスを導入することにより、連続的に実施
することができる。
この水素化反応は、大気E (1,Ux I U Pa
]から約7.UXIUPa(ゲージ圧10UUポンド/
乎方インチ)までの圧力で実施可能である。
]から約7.UXIUPa(ゲージ圧10UUポンド/
乎方インチ)までの圧力で実施可能である。
水素化反応は約4.!:ix 1 (J Pa(ゲージ
圧5uポンド/平方インチ)乃至約5.ax I U
Pa(ゲージ1f7Uポンド/平方インチ)での実施が
好ましい。メタ−ジイソプロペニルベンゼン含有−脱水
素反応混合物の水素化反応は、約0℃乃至約12U℃の
温度で実施可能である。本水素化反応の実施は室温(約
2U℃乃至24℃)が好ILい。パラージインプロペニ
ルベンゼン含有−脱水素反応混合物の水系化反応は、約
5U℃乃至約iuu’cの温度で’Fljj−4’a
iU能である。この水素化反応の実施は、約55℃乃至
6L]’Cが好ましい。この水系化反応は、好まし、〈
は、脱水素反応混合物中Kuじめに存在−rbインプロ
ペニルスチレン各モル当り約2モルの水素が吸収される
まで継続せねばならず、更に好ましくけ脱水素反応混合
物中にけじめに存在するインプロペニルスチレン谷モル
当v6モルの水素力吸収される1で継続せねばならない
。脱水素反応混合物を水素化すると水素化された脱水素
反応混合物が生成する。
圧5uポンド/平方インチ)乃至約5.ax I U
Pa(ゲージ1f7Uポンド/平方インチ)での実施が
好ましい。メタ−ジイソプロペニルベンゼン含有−脱水
素反応混合物の水素化反応は、約0℃乃至約12U℃の
温度で実施可能である。本水素化反応の実施は室温(約
2U℃乃至24℃)が好ILい。パラージインプロペニ
ルベンゼン含有−脱水素反応混合物の水系化反応は、約
5U℃乃至約iuu’cの温度で’Fljj−4’a
iU能である。この水素化反応の実施は、約55℃乃至
6L]’Cが好ましい。この水系化反応は、好まし、〈
は、脱水素反応混合物中Kuじめに存在−rbインプロ
ペニルスチレン各モル当り約2モルの水素が吸収される
まで継続せねばならず、更に好ましくけ脱水素反応混合
物中にけじめに存在するインプロペニルスチレン谷モル
当v6モルの水素力吸収される1で継続せねばならない
。脱水素反応混合物を水素化すると水素化された脱水素
反応混合物が生成する。
ロジウム触媒は、回分法で水素[ヒされた脱水素反応混
合物から、濾過、遠心分離、沈14及び類似方法により
除去可能である連続水素化法で固定床触媒を1更用した
場合にけ、当然ながら、水素化された脱水素反応混合・
吻から触媒を除去する必要はない。m−DIB 又け
p −DI Bけ。
合物から、濾過、遠心分離、沈14及び類似方法により
除去可能である連続水素化法で固定床触媒を1更用した
場合にけ、当然ながら、水素化された脱水素反応混合・
吻から触媒を除去する必要はない。m−DIB 又け
p −DI Bけ。
約5重数パーセント未満(好ましくは6.4重歇パーセ
ント以下)のインプロペニルスチレンをき有する水素化
された脱水素反応混合物から。
ント以下)のインプロペニルスチレンをき有する水素化
された脱水素反応混合物から。
当業者に反却の蒸留法ケ用いて分別蒸留可能である。
以下の実施しlid、 ロジウム触媒が脱水素反応混合
物中のジイソプロペニルベンゼンをそれほど水素化せず
に、インプロペニルスチレンヲ遺沢的に水素化するのに
有効なことを証明するものである。これらの実施例は亀
なる説明用であって1本発明の範囲又はその実施方法を
制限するものと見1故されてはならない。背記燕き限り
部及び白゛分率は重獣基準である。
物中のジイソプロペニルベンゼンをそれほど水素化せず
に、インプロペニルスチレンヲ遺沢的に水素化するのに
有効なことを証明するものである。これらの実施例は亀
なる説明用であって1本発明の範囲又はその実施方法を
制限するものと見1故されてはならない。背記燕き限り
部及び白゛分率は重獣基準である。
実施例
メタージイソプロピルベンゼンケ脱水[して、第1表に
承す組成の粗説水素反G6混合物を得た。
承す組成の粗説水素反G6混合物を得た。
本税水素反応混合吻1945’ (グラム〕?、5q/
=ロジウム/活1生炭触媒L1.6f(水5月重敵係)
を含亘するパール(Parr)びん内に配置した。
=ロジウム/活1生炭触媒L1.6f(水5月重敵係)
を含亘するパール(Parr)びん内に配置した。
添加触媒中のロジウムけU、L115S’に過ぎなか・
った。(U、 6 fの50係は水であり、浅90.6
グの95係は炭素であった。)この脱水素反応混合吻を
室温で、4.5XIU Pa(ゲージ圧50ボンド/平
方インチ)の水素ガスにて水素化した。水素化された脱
水素反応混合物の組成け。
った。(U、 6 fの50係は水であり、浅90.6
グの95係は炭素であった。)この脱水素反応混合吻を
室温で、4.5XIU Pa(ゲージ圧50ボンド/平
方インチ)の水素ガスにて水素化した。水素化された脱
水素反応混合物の組成け。
脱水素反応混合物にはじめに存在り、 fcインプロペ
ニルスチレン1モル当!l)1.2及び6モルの水素が
吸収されたあとj41J定された。第1表に表記の各成
分の敵は、ガスクロストグラフのIIIIi積百分率で
ある。
ニルスチレン1モル当!l)1.2及び6モルの水素が
吸収されたあとj41J定された。第1表に表記の各成
分の敵は、ガスクロストグラフのIIIIi積百分率で
ある。
第1表
各混合成分のガスクロマトグラフ面積百分率IP8モル
当りのH2吸収モノI攻 1或 分 U 1 2 3m−イン
フbへとル研v−A!J 2月 4.1
6.6 8.5m−’;’177”oピV谷七ン
8.7 9.1 9.2 9.8m−イン
フ沌1xy7 7.5 5.4
2b L+、3m−イソフb−七シビンフbビレが
ノゼン 16.5 16.1 15i5 16.1□
−ジ◇つbくりVル叱ン 3’7’、8 3a
6 5ゾU 67.8第1表かられかるように、IP
Sモル当り2モルの水素ケ吸収鏝に、66パーセントの
m−IPS が除去(水素化)されたが、m−DIR
の除去は2パーセントに過ぎなかった。IPSモル当り
6モルの水素が吸収された後では、96係のm −I
P S が除去され・一方m−DIRの除去は5係に
過ぎなかった。本実施例は、ロジウムがI 、P Sの
選択的水素化の秀れた触媒であり、 i) I Bけ瞳
小はしか水素化しないことケ示し、ている。
当りのH2吸収モノI攻 1或 分 U 1 2 3m−イン
フbへとル研v−A!J 2月 4.1
6.6 8.5m−’;’177”oピV谷七ン
8.7 9.1 9.2 9.8m−イン
フ沌1xy7 7.5 5.4
2b L+、3m−イソフb−七シビンフbビレが
ノゼン 16.5 16.1 15i5 16.1□
−ジ◇つbくりVル叱ン 3’7’、8 3a
6 5ゾU 67.8第1表かられかるように、IP
Sモル当り2モルの水素ケ吸収鏝に、66パーセントの
m−IPS が除去(水素化)されたが、m−DIR
の除去は2パーセントに過ぎなかった。IPSモル当り
6モルの水素が吸収された後では、96係のm −I
P S が除去され・一方m−DIRの除去は5係に
過ぎなかった。本実施例は、ロジウムがI 、P Sの
選択的水素化の秀れた触媒であり、 i) I Bけ瞳
小はしか水素化しないことケ示し、ている。
実施例
実施例2では、パラジウムをロジウムに置き換えfC,
以外は、実施列1で1更用したものと同一の手j畝を用
いた。、IPSモル当v2モルの水素を吸収後は、46
係のm−IPS が除去され、16%のI)IBが除去
された。I P S−モル当り6モルの水素の吸収後は
、73qbのIPSが除去され、1ソ係の1) I B
が除去された。本実施例は、脱水素反応混合物中のIP
Sの4沢水素化り目として、パラジウムはロジウムトチ
ど良好で1はないことケ示している。(実施ill 1
と2を比較のこと) 実施例 p−DIR87,1係、p−lN56.9% 及び米州
不純Th6係を含有する脱水素反応混合物ILIL12
;イソプロパツール220立方センチメートル;及びb
係ロジウム/木炭触媒(水分50重歇係)?バールびん
内に配置し7た。この混合物を55℃に8口熱すると、
その温閾で全(塩11杉汁は溶解した。水素ガスi4.
5xl U Pa (パスカル)の圧力でびんに導入し
1.混会吻全55℃乃至6U′Cで、脱水素反応混合物
中1/i7 ’t−4しめに存在するI I) Sモル
当り6モルの水素が吸収される筐で水素化した。水素化
された脱水素反応混合物から触媒を炉別し、混合−r放
冷し結晶を晶出させた。p−DIRソ8.9%、p−エ
チルイソプロペニルベンゼン0.5 qb、p−インプ
ロペニルインプロピルベンゼン0.2%及び未州不;列
物0.4%の組Fiy、を有する物質!:+1.131
が回収された。
以外は、実施列1で1更用したものと同一の手j畝を用
いた。、IPSモル当v2モルの水素を吸収後は、46
係のm−IPS が除去され、16%のI)IBが除去
された。I P S−モル当り6モルの水素の吸収後は
、73qbのIPSが除去され、1ソ係の1) I B
が除去された。本実施例は、脱水素反応混合物中のIP
Sの4沢水素化り目として、パラジウムはロジウムトチ
ど良好で1はないことケ示している。(実施ill 1
と2を比較のこと) 実施例 p−DIR87,1係、p−lN56.9% 及び米州
不純Th6係を含有する脱水素反応混合物ILIL12
;イソプロパツール220立方センチメートル;及びb
係ロジウム/木炭触媒(水分50重歇係)?バールびん
内に配置し7た。この混合物を55℃に8口熱すると、
その温閾で全(塩11杉汁は溶解した。水素ガスi4.
5xl U Pa (パスカル)の圧力でびんに導入し
1.混会吻全55℃乃至6U′Cで、脱水素反応混合物
中1/i7 ’t−4しめに存在するI I) Sモル
当り6モルの水素が吸収される筐で水素化した。水素化
された脱水素反応混合物から触媒を炉別し、混合−r放
冷し結晶を晶出させた。p−DIRソ8.9%、p−エ
チルイソプロペニルベンゼン0.5 qb、p−インプ
ロペニルインプロピルベンゼン0.2%及び未州不;列
物0.4%の組Fiy、を有する物質!:+1.131
が回収された。
本発明を説明する目的のため1代務的な犬施暢;采醍び
詳、1aケ示したか1本発明の範囲から逸’1シ1 f
ることなく各種の変更及び修正か可能なることは、当コ
者&?:d明らかであろう。
詳、1aケ示したか1本発明の範囲から逸’1シ1 f
ることなく各種の変更及び修正か可能なることは、当コ
者&?:d明らかであろう。
・F!f許出頭人 ザ・グツドイヤー−タイヤ・アンド
・ラバー・カンパニー 代 哩 人 弁理士 湯 浅 恭 ヨ (44名)
・ラバー・カンパニー 代 哩 人 弁理士 湯 浅 恭 ヨ (44名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 11 Illロジウム触媒と水素の存在下に、脱水素
反応混合物ゲインプロペニルスチレンの最大製電が約5
重緻係ケ越えぬ程度に水素化して水素比された脱水素反
応混合物f:形成し、引続き、(2)前記の水素化され
た脱水素反応混合′吻を、前記の水素化された脱水素反
応混合物中の有機不純物からジイソプロペニルベンゼン
を分離するのに十分な柴井下で分別蒸留することからな
る、脱水素反応混合物中の有機不純物からジイソプロペ
ニルベンゼンを分離す、6方e。 2)脱水素反応混合物ゲロジウム触媒と水素の存在下に
水素化することからなる、ジインプロペニルベンゼンの
水素化を最小にとどめて脱水素反応混合°吻からインプ
ロペニルスチレンを除去する方法。 6) 前記の最大イソプロペニルスチレン+l[が。 約6.4重酸パーセント以下である特許請求の範囲第1
項に記載の方法。 4]前記のジインプロペニルベンゼンか、メタ−ジイソ
プロペニルベンゼンである特許請求の範囲第1項又は第
2項に記載の方法。 5)前記のジインプロペニルベンゼンカ、ノ々ラージイ
ソプロペニルベンゼンである特許請求の範囲第1項又は
第2項に記載の方法。 6)約u’c乃至約12Ll’Cの温度及び約1.U×
105Pa乃至約7.U X 1 o’paの圧力で、
前記の脱水素反応混合物を特徴とする特許請求の旬囲第
4項に記載の方法。 7) 約5LI’C乃至約iuu’cの温度及び約1.
0×IUPa 乃至約7.LIXIUP’の子方で、前
記の脱水素反応混合物を水素化する隆許請求の範囲第、
5項に記載の方法。 8) 11)ロジウム触媒と水素の存在下に、脱水素反
応混合ylJ’f+−イソプロペニルスチレンの最大#
度が約5重鉱パーセンl越えぬ程度に水素化して水素化
された脱水素反応混合物を形成し、引続き、(2)前記
の水素化された脱水素反応混合物を、前記の水素比され
た脱水素反応混合物中のWd不、β1勿からパラ−ジイ
ソプロペニルベンゼンを分離するのに十分な条件下で分
別結晶化することからなる、脱水素反応混合物中の有機
不純物からバラージインプロペニルベンゼンヲ分離する
方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/414,706 US4390741A (en) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | Process for the purification of diisopropenylbenzene |
US414706 | 1982-09-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5965029A true JPS5965029A (ja) | 1984-04-13 |
JPH0254810B2 JPH0254810B2 (ja) | 1990-11-22 |
Family
ID=23642603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58161781A Granted JPS5965029A (ja) | 1982-09-03 | 1983-09-02 | ジイソプロペニルベンゼンの精製方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4390741A (ja) |
EP (1) | EP0102912B1 (ja) |
JP (1) | JPS5965029A (ja) |
CA (1) | CA1217505A (ja) |
DE (1) | DE3366677D1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4390741A (en) * | 1982-09-03 | 1983-06-28 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Process for the purification of diisopropenylbenzene |
US4532011A (en) * | 1984-03-02 | 1985-07-30 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Inhibiting polymerization of vinylaromatic monomers |
US4528413A (en) * | 1984-03-05 | 1985-07-09 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Process for the synthesis and purification of diisopropenylbenzene |
US4877491A (en) * | 1988-11-14 | 1989-10-31 | Lloyd Berg | Separation of m-diisopropyl benzene from p-diisopropyl benzene by azeotropic distillation with ketones |
US4935579A (en) * | 1988-11-29 | 1990-06-19 | Lloyd Berg | Separation of m-diisopropylbenzene from p-diisopropylbenzene by azeotropic distillation with alcohols |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA625655A (en) * | 1961-08-15 | Allied Chemical Corporation | Purification of isopropylbenzenes | |
DE1418628A1 (de) * | 1960-01-19 | 1969-01-30 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Reinstaromaten |
US3670041A (en) * | 1970-06-10 | 1972-06-13 | Monsanto Co | Hydrogenation process |
US4046824A (en) * | 1975-12-31 | 1977-09-06 | Chevron Research Company | Process for selective hydrogenation of ethylbenzene |
US4390741A (en) * | 1982-09-03 | 1983-06-28 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Process for the purification of diisopropenylbenzene |
-
1982
- 1982-09-03 US US06/414,706 patent/US4390741A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-08-16 DE DE8383630131T patent/DE3366677D1/de not_active Expired
- 1983-08-16 EP EP83630131A patent/EP0102912B1/en not_active Expired
- 1983-08-22 CA CA000435108A patent/CA1217505A/en not_active Expired
- 1983-09-02 JP JP58161781A patent/JPS5965029A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0254810B2 (ja) | 1990-11-22 |
EP0102912B1 (en) | 1986-10-08 |
DE3366677D1 (en) | 1986-11-13 |
US4390741A (en) | 1983-06-28 |
CA1217505A (en) | 1987-02-03 |
EP0102912A1 (en) | 1984-03-14 |
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